Metal Sputtering sib se sitou itilize nan elektwonik ak endistri enfòmasyon - News - Haohai Metal Materyèl co, Ltd (Haohai Titanium)
Metal Sputtering sib se sitou itilize nan elektwonik ak endistri enfòmasyon
Haohai Estati Materyèl co, Ltd (Haohai Titàn) | Updated: Jun 22, 2017
Metal sib trompe se sitou itilize nan elektwonik ak endistri enfòmasyon, tankou sikui entegre, depo enfòmasyon, likid kristal ekspozisyon, memwa lazè, aparèy kontwòl elektwonik, elatriye; Ka itilize tou nan jaden an nan kouch vè; Ka itilize tou nan mete ki reziste materyèl, korozyon, segondè-klas materyèl dekoratif ak lòt endistri yo.
Sputtering sib klasifikasyon
Dapre fòm nan kapab divize an sib tan, sib kare, sib won, sib ki gen fòm
Dapre konpozisyon an kapab divize an sib metal, sib alyaj, sib seramik konpoze
Selon aplikasyon an nan diferan se divize an sib semi-kondiktè ki gen rapò ak seramik, medyòm anrejistreman seramik anrejistreman, ekspozisyon seramik sib, supraleit sib seramik ak jeyan sibstansyèl sibstans ki sou seramik
Dapre jaden an aplikasyon, li se divize an sib mikwoelektronik, sib anrejistreman mayetik, sib optik disk, sib vibre metal sib presye metal, sib fim rezistans sib, kondwi fim sib, sifas modifye sib, sib mask, dekoratif sib kouch, elèktrod sib , Sib pake, lòt sib
Magnetron sputtering prensip: nan sib la spouting (katod) ak anod la ant yon jaden orthogonal mayetik ak yon jaden elektrik, nan chanm nan vakyòm segondè ki te ranpli avèk gaz la ina mande (anjeneral ar gaz), leman pèmanan nan sib la Sifas la nan Materyèl yo fòme yon jaden mayetik nan 250 ~ 350 Gauss, ak segondè vòltaj elektrik jaden ki konpoze de jaden elektwomayetik orthogonal. Anba aksyon an nan jaden elektrik la, ionizasyon gaz Ar nan iyon pozitif ak elektwon, sib metal vole sib la te ajoute ak yon sèten presyon negatif, elektwon yo ki emèt nan sib la ki afekte nan jaden an mayetik ak pwobabilite nan ionizasyon nan gaz la ap travay Ogmante, fòme yon plasma dansite segondè toupre kò a kathode, Ar ions nan wòl nan fòs Lorentz akselere vòl la nan sifas sib la, nan yon pousantaj segondè nan bonbadman nan sib la sib, se konsa ke sputtering nan atòm yo sib swiv la Momantòm konvèsyon prensip ak yon gwo enèji sinetik soti nan vole nan sib Substrate a depoze ak depoze. Vibran Magnetron se jeneralman divize an de kalite: vòltaj sibvèrte ak spouting RF, ki ekipman spuder tributary se senp nan prensip, nan sputtering nan metal, pousantaj li yo tou vit. Itilize nan spouting RF se plis vaste, Metal spouting sib nan adisyon a materyèl kondwi sputtering, men tou sputtering materyèl ki pa kondisyone, pandan y ap Depatman nan reyaktif sputtering reyaktif nan oksid, nitrid ak carbides ak lòt konpoze. Si frekans RF a ogmante apre li vin yon platfòm plasma mikwo ond, souvan itilize elektwonik siklotron resonans (ECR) kalite plonbri mikwo ond plasma.
On: Analiz de mayetik Field Arrangement nan objektif vapè Magnetron metal
Pwochen: Ede w Entèprete Estati pulverizasyon objektif
Analiz de mayetik Field Arrangement nan objektif vapè Mag...