(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes until ... * , provided that they are used in controlled closed systems in accordance with Commission Directive 2001/59/EC 1 and where the concentration of PFOS released into the environment and the workplace is less than 1µg per kg of the PFOS used in the system.
a) fotorezistiem un antirefleksīvajiem pārklājumiem fotolitogrāfijas procesos līdz…*, ja vien tos izmanto kontrolējamu noslēgtu sistēmu ietvaros saskaņā ar Komisijas Direktīvu 2001/59/EK 1 un ja vidē un darba vietā izdalījušos PFOS masas koncentrācija ir zemāka par 1µg uz kg sistēmā izmantotās PFOS masas ,