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일반적으로 CVD 및etching 공정에서 사용되는 가스 유량은 10 LPM 이하의 소량이지만, 진공 펌프에 투입되는 질소 가스와 혼합됨으로써 진공펌프 후단에 배출되는 공정 폐가스유량은 약50~100 LPM까지 증가되는 경향성이 있다.
一般的にCVDおよびetching工程で使うガス流量は10LPM以下で小さい量だが、真空ポンプに入れる窒素ガスと互いに混ざって真空ポンプ後端に排出される工程廃ガス流量は約50～100LPMまで上がる傾向を見せる。