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따라서 H의 밀도는 플라즈마 대면 부품의 세정으로 인한 장비 상태를 대변하는 인자이며, 이는 가상계측 모델에서 식각 기여종인 F의 밀도를 감소시켜 식각률을 감소시키는 정도를 나타낸다.
Hの密度はプラズマ対面部品の洗浄による機器の状態を代弁する因子であり、これは仮想計測モデルにおけるエッチング寄与種であるFの密度を減少させ、エッチング率を低下させる程度を示す。