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반도체의 특성을 유지하기 위해서는 10초 이하로 진행할 필요가 있으며, SEM 결과에서는 2초에서 5초로 공정이 제한되어야 함을 제시하였는데, EDS를 통해 이러한 공정 조건으로 진행해야 함을 추가로 확인할 수 있었다.
半導体の特性を維持するためには10秒以下に進める必要があり、SEM結果では2秒から5秒に工程が制限されるべきであることを示したが、EDSを通じてこれらの工程条件に進むべきであることをさらに確認することができた。