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웨이퍼상에 화학 반응을 충분히 발생시키기 위해서는 매우 많은 에너지가 웨이퍼 표면으로 전달되어야 하는데, 이와 동시에 생산 속도를 유지하기 위해서는 빛의 노출을 짧게 유지해야 하므로 빛의 출력이 매우 높아야 한다.
ウェーハ上に化学反応を十分に発生させるためには非常に多くのエネルギーがウェーハ表面に伝達されなければならないが、同時に生産速度を維持するためには光の露出を短く維持しなければならないため、光の出力が非常に高くなければならない。