Method for preventing and control harmful fungoidA process for controlling harmful fungi is characterised in that the fungi, their biotope or materials, plants, seeds, ground, surfaces or rooms to be protected against fungi are treated separately or together, simultaneously or successively with an active substance (I) that inhibits the respiration of cytochrom complex III and with an active substance of formula (II), in which the indices and substituents have the following meanings: m is an integer from 1 to 6, whereas the rests R may differ from each other when m is larger than 1; R stands for hydrogen, cyano, nitro, hydroxy, mercapto, amino, carboxyl, aminocarbonyl, aminothiocarbonyl, sulfo, aminosulphonyl, halogen, alkyl, haydroxyalkyl, alkoxyalkyl, alkoxy, alkoxyalkoxy, alkylthio, alkylamino, dialkylamino, alkylsuphonyl, alkylsulphoxyl, alkylsulphonyloxy, alkylcarbonyl, alkylcarbonyloxy, alkylcarbonylamino, alkoxycarbonyl, alkoxycarbonylamino, alkylaminocarbonyl, dialkylaminocarbonyl, alkylaminothiocarbonyl, dialkylaminothiocarbonyl, alkylaminosulphonyl, dialkylaminosulphonyl, alkenyl, alkenyloxy, alkenylcarbonyloxy, alkinyl and alkinyloxy, whereas these groups may be partially or completely halogenated; cycloalkyl, aryl arylalkyl, arylalkoxy, aryloxy, arylthio, arylcarbonyl, arylcarbonyloxy, heteroaryl, heteroarylalkyl, heteroarylalkoxy, heteroaryloxy, heteroarylthio, heteroarylcarbonyl and heteroarylcarbonyloxy, whereas these groups may be partially or completely halogenated and/or bear one to three of the following rests; cyano, nitro, hydroxy, alkyl, alkyl halide, alkoxy, alkoxy halide or alkylthio; R stands for hydrogen, cyano, nitro, hydroxy, mercapto, amino, carboxyl, aminocarbonyl, aminothiocarbornyl, sulfo, aminosulphonyl, halogen, alkyl, hydroxyalkyl, alkoxyalkyl, alkoxy, alkoxyalkoxy, alkylthio, alkylamino, dialkylamino, alkylsulphonyl, alkylsulphoxyl, alkylsulphonyloxy, alkylcarbonyl, alkylcarbonyloxy, alkylcarbonylamino, alkoxycarbonyl, alkoxycarbonylamino, alkylaminocarbonyl.Methods for fighting harmful mushrooms; wherein fungi, its dried rhizome of rehmannia or be intended to protect material, plant, seed, soil, surface or the space that makes it to avoid the fungi infringement of dwelling are side by side handled with following active ingredients: suppress active component i and the formula ii active component breathed through cytochrome composite i ii together or respectively or in turnwherein symbol and substituting group have xia row connotation: m is 1 to 6 zheng number; if m is greater than 1; ze radicals r you possibility is different, and r is hydrogen, cyano group, xiao base, qiang is basic, qiu is basic, amino, suo is basic, amino carbonyl, amino thiocarbonyl, sulfo group, amino-sulfonyl, halogen, c1-c 6-alkyl, qiang base-c1-c 6-alkyl, c1-c 6-alkoxy-c1-c 6-alkyl, c1-c 6-alkoxyl, c1-c 6-alkoxy-c1-c 6-alkoxyl, c1-c 6-alkylthio group, c1-c 6-alkyl is amino, two-c1-c 6-alkyl is amino, c1-c 6-alkyl sulfonyl base, c1-c 6-alkyl sulphur yang base, c1-c 6-alkylsulfonyloxy, c1-c 6-alkyl oxycarbonyl base, c1-c 6-alkyl carbonyl oxy, c1-c 6-alkyl-carbonyl-amino, c1-c 6-alkoxyl tang base, c1-c 6-alkoxyl tang base is amino, c1-c 6-alkyl amino-carbonyl, two-c1-c 6-alkyl amino-carbonyl, c1-c 6-thio-alkyl amino-carbonyl, two-c1-c 6-thio-alkyl amino-carbonyl, c1-c 6-alkyl amino sulfonyl, two-c1-c 6-alkyl amino sulfonyl, c2-c 6-alkenyl, c2-c 6-alkenyloxy, c2-c 6-alkenyl tang yang base, c2-c 6-alkynyl and c2-c 6-alkynyloxy group, the partly or entirely halogenation of zhe xie group; c3-c 6-cycloalkyl, aryl, aryl-c1-c 6-alkyl, aryl-c1-c 6-alkoxyl, aryloxy group, arylthio, aryl carbonyl, aryl-carbonyl oxygen, heteroaryl, heteroaryl-c1-c 6-alkyl, heteroaryl-c1-c 6-alkoxyl, za aryloxy group, za arylthio, heteroaryl tang base and heteroaryl tang yang base, zhe xie group partly or entirely zhi three, halo and/or xie band xia the row groups: cyano group, xiao is basic, qiang is basic, c1-c 4-alkyl, c1-c 4-haloalkyl, c1-c 4-alkoxyl, c1-c 4-halogenated alkoxy or c1-c 4-alkylthio group; r1hydrogen, cyano group, xiao base, qiang is basic, qiu is basic, amino, suo is basic, amino carbonyl, amino thiocarbonyl, sulfo group, amino-sulfonyl, halogen, c1-c 6-alkyl, qiang base-c1-c 6-alkyl, c1-c 6-alkoxy-c1-c 6-alkyl, c1-c 6-alkoxyl, c1-c 6-alkoxy-c1-c 6-alkoxyl, c1-c 6-alkylthio group, c1-c 6-alkyl is amino, two-c1-c 6-alkyl is amino, c1-c 6-alkyl sulfonyl base, c1-c 6-alkyl sulphur yang base, c1-c 6-alkylsulfonyloxy, c1-c 6-alkyl oxycarbonyl base, c1-c 6-alkyl carbonyl oxy, c1-c 6-alkyl-carbonyl-amino, c1-c 6-alkoxyl tang base, c1-c 6-alkoxyl tang base is amino, c1-c 6-alkyl amino-carbonyl, two-c1-c 6-alkyl amino-carbonyl, c1-c 6-thio-alkyl amino-carbonyl, two-c1-c 6-thio-alkyl amino-carbonyl, c1-c 6-alkyl amino sulfonyl, two-c1-c 6-alkyl amino sulfonyl, c2-c 6-alkenyl, c2-c 6-alkenyloxy, c2-c 6-alkenyl tang yang base, c2-c 6-alkynyl and c2-c 6-alkynyloxy group, zhe xie group is halo partly or entirely; c3-c 6-cycloalkyl, aryl, aryl-c1-c 6-alkyl, aryl-c1-c 6-alkoxyl, arylthio, aryl carbonyl, aryl-carbonyl oxygen, heteroaryl, heteroaryl-c1-c 6-alkyl, heteroaryl-c1-c 6-alkoxyl, za aryloxy group, za arylthio, heteroaryl tang base and heteroaryl tang yang base, zhe xie group partly or entirely zhi three, halo and/or xie band xia the row groups: cyano group, xiao is basic, qiang is basic, c1-c 4-alkyl, c1-c 4-haloalkyl, c1-c 4-alkoxyl, c1-c 4-halogenated alkoxy or c1-c 4-alkylthio group.
퀴놀린 유도체 및 사이토크롬 Ｂ/Ｃ 억제제로 제조된 상승 작용적 살진균제 조성물진균성 해충의 박멸을 위한 방법은 진균, 그들의 서식지 또는 진균으로부터 보호되어야 하는 물질, 식물, 종자, 토양, 지역 또는 장소를 개별적으로 또는 함께, 동시에 또는 연속적으로 사이토크롬 복합체 III에서 호흡을 억제하는 활성 물질 I 및 화학식 II의 활성 물질을 사용하여 처리하는 것이 특징이다.화학식 II상기 식에서 지수들 및 치환체는 아래의 의미를 가진다.m은 1 내지 6의 정수이고, m이 1 보다 클 경우 라디칼들 R은 상이할 수 있으며,R은 수소, 시아노, 니트로, 히드록실, 메르캅토, 아미노, 카르복실, 아미노카르보닐, 아미노티오카르보닐, 술포, 아미노술포닐, 할로겐, 알킬, 히드록시알킬, 알콕시알킬, 알콕시, 알콕시알콕시, 알킬티오, 알킬아미노, 디알킬아미노, 알킬술포닐, 알킬술폭실, 알킬술포닐옥시, 알킬카르보닐, 알킬카르보닐옥시, 알킬카르보닐아미노, 알콕시카르보닐, 알콕시카르보닐아미노, 알킬아미노카르보닐, 디알킬아미노카르보닐, 알킬아미노티오카르보닐, 디알킬아미노티오카르보닐, 알킬아미노술포닐, 디알킬아미노술포닐, 알케닐, 알케닐옥시, 알케닐카르보닐옥시, 알키닐 및 알키닐옥시 (이들 기는 부분적으로 또는 완전히 할로겐화될 수 있음);시클로알킬, 아릴, 아릴알킬, 아릴알콕시, 아릴옥시, 아릴티오, 아릴카르보닐, 아릴카르보닐옥시, 헤테로아릴, 헤테로아릴알킬, 헤테로아릴알콕시, 헤테로아릴옥시, 헤테로아릴티오, 헤테로아릴카르보닐 및 헤테로아릴카르보닐옥시 (이들 기는 부분적으로 또는 완전히 할로겐화되고(거나) 다음 라디칼: 시아노, 니트로, 히드록실, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시 또는 알킬티오 중 1 내지 3개를 가질 수 있음)이고,R1은 수소, 시아노, 니트로, 히드록실, 메르캅토, 아미노, 카르복실, 아미노카르보닐, 아미노티오카르보닐, 술포, 아미노술포닐, 할로겐, 알킬, 히드록시알킬, 알콕시알킬, 알콕시, 알콕시알콕시, 알킬티오, 알킬아미노, 디알킬아미노, 알킬술포닐, 알킬술폭실, 알킬술포닐옥시, 알킬카르보닐, 알킬카르보닐옥시, 알킬카르보닐아미노, 알콕시카르보닐, 알콕시카르보닐아미노, 알킬아미노카르보닐, 디알킬아미노카르보닐, 알킬아미노티오카르보닐, 디알킬아미노티오카르보닐, 알킬아미노술포닐, 디알킬아미노술포닐, 알케닐, 알케닐옥시, 알케닐카르보닐옥시, 알키닐 및 알키닐옥시 (이들 기는 부분적으로 또는 완전히 할로겐화될 수 있음),시클로알킬, 아릴, 아릴알킬, 아릴알콕시, 아릴티오, 아릴카르보닐, 아릴카르보닐옥시, 헤테로아릴, 헤테로아릴알킬, 헤테로아릴알콕시, 헤테로아릴옥시, 헤테로아릴티오, 헤테로아릴카르보닐 및 헤테로아릴카르보닐옥시 (이들 기는 부분적으로 또는 완전히 할로겐화되고(거나) 다음 라디칼: 시아노, 니트로, 히드록실, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시 또는 알킬티오 중 1 내지 3개를 가질 수 있음)이다. 또한 본 발명에서 그들의 혼합물도 적합하다.진균, 그들의 서식지 또는 진균의 공격으로부터 보호되어야 하는 물질, 식물, 종자, 토양, 지역 또는 장소를 동시에, 함께 또는 개별적으로, 또는 연속적으로 사이토크롬 복합체 III에서 호흡을 억제하는 활성 화합물 I로 처리하고, 하기 화학식 II의 활성 화합물로 처리하는 것을 포함하는 유해 진균의 박멸 방법. 화학식 II [이미지] 상기 식에서 지수 및 치환체는 아래의 의미를 가진다. m은 1 내지 6의 정수이고, m이 1 보다 클 경우 라디칼들 R은 상이할 수 있으며, R은 수소, 시아노, 니트로, 히드록실, 메르캅토, 아미노, 카르복실, 아미노카르보닐, 아미노티오카르보닐, 술포, 아미노술포닐, 할로겐, C1-C6-알킬, 히드록시-C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알콕시-C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬아미노, 디-C1-C6-알킬아미노, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬술폭실, C1-C6-알킬술포닐옥시, C1-C6-알킬카르보닐, C1-C6-알킬카르보닐옥시, C1-C6-알킬카르보닐아미노, C1-C6-알콕시카르보닐, C1-C6-알콕시카르보닐아미노, C1-C6-알킬아미노카르보닐, 디-C1-C6-알킬아미노카르보닐, C1-C6-알킬아미노티오카르보닐, 디-C1-C6-알킬아미노티오카르보닐, C1-C6-알킬아미노술포닐, 디-C1-C6-알킬아미노술포닐, C2-C6-알케닐, C2-C6-알케닐옥시, C2-C6-알케닐카르보닐옥시, C2-C6-알키닐 및 C2-C6-알키닐옥시 (이들 기는 부분적으로 또는 완전히 할로겐화될 수 있음); C3-C6-시클로알킬, 아릴, 아릴-C1-C6-알킬, 아릴-C1-C6-알콕시, 아릴옥시, 아릴티오, 아릴카르보닐, 아릴카르보닐옥시, 헤테로아릴, 헤테로아릴-C1-C6-알킬, 헤테로아릴-C1-C6-알콕시, 헤테로아릴옥시, 헤테로아릴티오, 헤테로아릴카르보닐 및 헤테로아릴카르보닐옥시 (이들 기는 부분적으로 또는 완전히 할로겐화되고(거나) 다음 라디칼: 시아노, 니트로, 히드록실, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시 또는 C1-C4-알킬티오 중 1 내지 3개를 가질 수 있음)이고, R1은 수소, 시아노, 니트로, 히드록실, 메르캅토, 아미노, 카르복실, 아미노카르보닐, 아미노티오카르보닐, 술포, 아미노술포닐, 할로겐, C1-C6-알킬, 히드록시-C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알콕시-C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬아미노, 디-C1-C6-알킬아미노, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬술폭실, C1-C6-알킬술포닐옥시, C1-C6-알킬카르보닐, C1-C6-알킬카르보닐옥시, C1-C6-알킬카르보닐아미노, C1-C6-알콕시카르보닐, C1-C6-알콕시카르보닐아미노, C1-C6-알킬아미노카르보닐, 디-C1-C6-알킬아미노카르보닐, C1-C6-알킬아미노티오카르보닐, 디-C1-C6-알킬아미노티오카르보닐, C1-C6-알킬아미노술포닐, 디-C1-C6-알킬아미노술포닐, C2-C6-알케닐, C2-C6-알케닐옥시, C2-C6-알케닐카르보닐옥시, C2-C6-알키닐 및 C2-C6-알키닐옥시 (이들 기는 부분적으로 또는 완전히 할로겐화될 수 있음), C3-C6-시클로알킬, 아릴, 아릴-C1-C6-알킬, 아릴-C1-C6-알콕시, 아릴티오, 아릴카르보닐, 아릴카르보닐옥시, 헤테로아릴, 헤테로아릴-C1-C6-알킬, 헤테로아릴-C1-C6-알콕시, 헤테로아릴옥시, 헤테로아릴티오, 헤테로아릴카르보닐 및 헤테로아릴카르보닐옥시 (이들 기는 부분적으로 또는 완전히 할로겐화되고(거나) 다음 라디칼: 시아노, 니트로, 히드록실, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시 또는 C1-C4-알킬티오 중 1 내지 3개를 가질 수 있음)이다.