REACTIVE DYE MIXTURESA dye mixture comprises, as component (A), a reactive dye of the formula (A) wherein each of Y1 and Y2 , independently, is a vinyl group or a group of the formula -CH2 CH2 Q in which Q is a leaving group removable under alkaline conditions to provide a vinyl group; and, as component (B), at least one additional reactive dye selected from a monopyrazole dye of the formula (I), a mono or disazo dye of the formula (II), a monoazopyridone dye of the formula (III), a monoazonaphthyl dye of the formula (IV), a disazoaminonaphthyl dye of the formula (V), a formazan dye of the formula (VI), an azoacetoacetanilide dye of the formula (VII), a disazo dye of the formula (VIII), a naphthalimide or a naphthalenetriazole dye of the formula (IX), a metal phthalocyanine dye of the formula (X) or a triphendioxazine dye of the formula (XI), as defined herein.A dye mixture comprising, as component (A) , a reactive dye of the formula (A)wherein each of Y1 and Y2, independently, is a vinyl group or a group of the formula -CH2CH2Q in which Q is a leaving group removable under alkaline conditions to provide a vinyl group; and, as component (B) , at least one reactive dye selected from(I) a monoazopyrazole dye -of the formula wherein: R1 is an aryl group selected from phenyl and naphthyl groups optionally having at least one substituent: thereon, the substituents, or each substituent independently, being selected from a sulphonic acid group and a salt thereof, a Ci-4 alkyl group, a C1.4alkoxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, a chlorine atom, a vinyl sulphonyl group and a group S02CH2CH2Q1 in which Q1 is a leaving group removable under alkaline conditions to provide a vinyl sulphonyl group;R2 is a phenyl or naphthyl group, optionally having at least one substituent thereon, the substituent, or each substituent, independently, being selected from a sulphonic acid group and a salt thereof, a C1_4alkyl group, a C:_4alkoxy group, a hydroxy group, a chlorine atom, a vinyl sulphonyl group, a group S02CH2CH2Q2 m which Q2 is a leaving group removable under alkaline conditions to provide a vinyl sulphonyl group, a group Het and a group L5-Het, where Het is an optionally substituted aromatic heterocyclic reactive or non-reactive group or a reactive or non-reactive group having an aliphatic chain and L5 is as defined below; andR6 is a methyl group, an amide group or a carboxyl group or a salt thereof;each of R40 and R41, independently, is an aryl group selected from phenyl and naphthyl groups, each of which, independently, is optionally substituted by a vinylsulphonyl group, a group SC^CH^HzQ1 in which Q1 is a leaving group removable under alkaline conditions to provide a vinylsulphonyl group; or the group Het, where Het is as defined above; at least one of R1, R2, R40 and R41 being, or having thereon at least one substituent which is, reactive;each of L1 L2 and L5 independently is a linking group selected from N(R20), in which R20 is hydrogen or C^ alkyl; C(=0); C(=0)-0; S(=0)2; S(=0)-NH; C(=0)-NH; and NHC (=0) NH; andeach of x, y and z, independently, is zero or 1; and, when the group R1 is substituted by a hydroxy group ortho to the azo group, a metallized derivative thereof;( I D a monoazo or disazo dye of the formulawherein: Het is an optionally substituted aromatic heterocyclic reactive or non-reactive group or a reactive or non-reactive group having an aliphatic chain;R3 or each R3, independently, is a chlorine atom, a methyl group, a methoxy group, a sulphonic acid group or a salt thereof, or is an amino group of the formula in which each of R18 and R19, independently, is hydrogen, chloro, methyl, (C^ alkyl) carbonyl, aminocarbonyl, vinylsulphonyl or a group in which Q1 is as defined above;R4, or each R4 independently, is hydrogen , a sulphonic acid group or a salt thereof, a Cλ_B alkyl group, a Ci_4 alkoxy group, a vinyl sulphonyl group or a group S02CH2CH2Q2 in which Q2 is a leaving group removable under alkaline conditions to provide a vinyl sulphonyl group, which C^ alkyl group or C^ alkyl moiety of the Cχ-4 alkoxy group is optionally interrupted by an oxygen atom to provide an ether group and is optionally substituted by a vinyl sulphonyl group or a group S02CH2CH2Q2, in which Q2 is as defined above; or R4 (or when q is 2, each R4 independently) is a phenyl group optionally substituted by at least one sulphonic acid group or a salt thereof or at least one group Het, where Het is as defined above; or R4 is a group Het, where Het_is as defined 'above;R5 is an aryl group selected from phenyl and naphthyl groups each optionally substituted by at least one sulphonic acid group or a salt thereof or at least one group Het, as defined above;R20 is a hydrogen atom or a C^ alkyl group; ' R21 is a hydrogen atom,'' a Ci_4 alkyl group, a sulphonic acid-C^ alkyl group, a chioroalkylsulphonyl-C1_4 alkyl group or a group Het, where Het is as defined above; m is 1 or 2; p is zero, 1 or 2; q is zero, 1 or 2; each of wx and w2 is zero or 1; and w3 is 1, 2 or 3; and when p is zero, q is zero; at least one of R4, R5, R18, R19, R21 and Het being, or having thereon at least one substituent which is, reactive.(Ill) a monoazopyridone dye of the formulawherein: each of R40, R41, L1 and L2 is as defined above;R7 is optionally present and is a cyano group or the group - CH2S03H or the group -C(=0)NH2; each of R24 and R25, independently, is a hydrogen atom, a C^ alkyl group, a sulpho—C^ alkyl group, or a carboxyl group; n is 1 or 2; r is zero or 1; and ' each of 's1 and s2 is zero or 1; and when R40 is a phenyl or naphthyl group s2 is 1; at least one of R40 and R41 being, or having thereon at least one substituent which is, reactive;(IV) a monoazonaphthyl dye of the formula(R41_|_2}_ R40_ -R9 (-1 -R35)C(IV)wherein: each of R1, R40, R41, L1, L2, x, y and z is as defined above ;R9 is ...
반응성 염료 혼합물본 발명은, 성분(A)로서 하기 화학식 A의 반응성 염료; 및 성분(B)로서 화학식 I의 모노아조피라졸 염료, 화학식 II의 모노아조 또는 디스아조 염료, 화학식 III의 모노아조피리돈 염료, 화학식 IV의 모노아조나프틸 염료, 화학식 V의 디스아조아미노나프틸 염료, 화학식 VI의 포르마잔 염료, 화학식 VII의 아자아세토아세트아닐라이드 염료, 화학식 VIII의 디스아조 염료, 화학식 IX의 나프탈이미드 또는 나프탈렌트리아졸 염료, 화학식 X의 금속 프탈로시아닌 및 화학식 XI의 트리페노디옥사진 염료로부터 선택된 하나 이상의 추가 반응성 염료를 포함하는 염료 혼합물에 관한 것이다. 화학식 A  상기 식에서, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 비닐 그룹 또는 식 -CH2CH2Q(여기서, Q는 알칼리 조건하에서 제거되어 비닐 그룹을 제공할 수 있는 이탈기이다)의 그룹이다.성분(A)으로서 하기 화학식 A의 반응성 염료; 및 성분(B)으로서 하기 화학식 I의 모노아조피라졸 염료(I), 및 R1 그룹이 아조 그룹에 대해 오르토 위치에서 하이드록시 그룹에 의해 치환되는 경우 그의 금속화된 유도체; 하기 화학식 II의 모노아조 또는 디스아조 염료(II); 하기 화학식 III의 모노아조피리돈 염료(III); 하기 화학식 IV의 모노아조나프틸 염료(IV), 및 R1 및 Z가 각각 아조 그룹에 대해 오르토 위치에 하이드록시 그룹을 제공하는 경우 그의 금속화된 유도체; 하기 화학식 V의 디스아조아미노나프틸 염료(V); 하기 화학식 VI의 포르마잔 염료(VI); 하기 화학식 VII의 염료(VII); 하기 화학식 VIII의 디스아조 염료(VIII); 하기 화학식 33 또는 화학식 39의 염료(IX); 하기 화학식 X의 금속 프탈로시아닌 염료(X) 및 하기 화학식 XI의 트리페노디옥사진 염료(XI)(또는 그의 염)로부터 선택된 하나 이상의 반응성 염료를 포함하는 염료 혼합물: 화학식 A  상기 식에서, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 비닐 그룹 또는 식 -CH2CH2Q(여기서, Q는 알칼리 조건하에서 제거되어 비닐 그룹을 제공할 수 있는 이탈기이다)의 그룹이다. 화학식 I  상기 식에서, R1은 설폰산 그룹, 그의 염, C1-4 알킬 그룹, C1-4 알콕시 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 염소원자, 비닐설포닐 그룹 및 식 -SO2CH2CH2Q1(여기서, Q1은 알칼리 조건하에서 제거되어 비닐설포닐 그룹을 제공할 수 있는 이탈기이다)의 그룹으로부터 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환기를 선택적으로 갖는 페닐 및 나프틸 그룹으로부터 선택된 아릴 그룹이고; R2는 설폰산 그룹, 그의 염, C1-4 알킬 그룹, C1-4 알콕시 그룹, 하이드록시 그룹, 염소원자, 비닐설포닐 그룹, 식 -SO2CH2CH2Q2(여기서, Q2 는 알칼리 조건하에서 제거되어 비닐설포닐 그룹을 제공할 수 있는 이탈기이다)의 그룹, Het 그룹 및 식 L5-Het(여기서, Het는 선택적으로 치환된 방향족 헤테로사이클릭 반응성 또는 비반응성 그룹, 또는 지방족 쇄를 갖는 반응성 또는 비반응성 그룹이고, L5는 하기에 정의되는 바와 같다)의 그룹으로부터 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환기를 선택적으로 갖는 페닐 또는 나프틸 그룹이고; R6은 메틸 그룹, 아미드 그룹 또는 카복실 그룹, 또는 이들의 염이고; R40 및 R41은 각각 독립적으로 비닐설포닐 그룹, 식 -SO2CH2CH 2Q1(여기서, Q1은 알칼리 조건하에서 제거되어 비닐설포닐 그룹을 제공할 수 있는 이탈기이다)의 그룹 또는 Het 그룹(여기서, Het는 상기 정의된 바와 같다)에 의해 독립적으로 선택적으로 치환된 페닐 및 나프틸 그룹으로부터 선택된 아릴 그룹이되; R1, R2, R40 및 R41중 하나 이상은 반응성이거나, 또는 반응성인 하나 이상의 치환기를 갖고; L1, L2 및 L5는 각각 독립적으로 N(R20)(여기서, R20은 수소 또는 C1-4 알킬이다), C(=O), C(=O)-O, S(=O)2, S(=O)-NH, C(=O)-NH 및 NHC(=O)NH로부터 선택된 연결기이고; x, y 및 z는 각각 독립적으로 0 또는 1이다. 화학식 II  상기 식에서, Het는 선택적으로 치환된 방향족 헤테로사이클릭 반응성 또는 비반응성 그룹, 또는 지방족 쇄를 갖는 반응성 또는 비반응성 그룹이고; R3은 각각 독립적으로 염소원자, 메틸 그룹, 메톡시 그룹, 설폰산 그룹 또는 그의 염이거나, 또는 하기 식의 아미노 그룹이고  [상기 식에서, R18 및 R19는 각각 독립적으로 수소, 클로로, 메틸, (C1-4 알킬) 카보닐, 아미노카보닐, 비닐설포닐 또는 식 -SO2CH2CH2Q1(여기서, Q1은 상기 정의된 바와 같다)의 그룹이다]; R4는 각각 독립적으로 수소, 설폰산 그룹, 그의 염, C1-8 알킬 그룹, C1-4 알콕시 그룹, 비닐설포닐 그룹 또는 식 -SO2CH2CH2Q2(여기서, Q2 는 알칼리 조건하에서 제거되어 비닐설포닐 그룹을 제공할 수 있는 이탈기이다)의 그룹이되, C1-4 알킬 그룹 또는 C1-4 알콕시 그룹의 C1-4 알킬 잔기는 산소원자가 선택적으로 개입되어 에테르 그룹을 제공하고, 비닐설포닐 그룹 또는 식 -SO2CH2CH2Q2(여기서, Q 2는 상기 정의된 바와 같다)의 그룹에 의해 선택적으로 치환되거나, R4는 (또는 q가 2인 경우, 각각의 R4는 독립적으로) 하나 이상의 설폰산 그룹, 그의 염 또는 하나 이상의 Het 그룹(여기서, Het는 상기 정의된 바와 같다)에 의해 선택적으로 치환된 페닐 그룹이거나, 또는 R4는 Het 그룹(여기서, Het는 상기 정의된 바와 같다)이고; R5는 하나 이상의 설폰산 그룹, 그의 염, 또는 상기 정의된 바와 같은 하나 이상의 Het 그룹에 의해 선택적으로 치환된 페닐 및 나프틸 그룹으로부터 선택된 아릴 그룹이고; R20은 수소원자 또는 C1-4 알킬 그룹이고; R21은 수소원자, C1-4 알킬 그룹, 설폰산-C1-4 알킬 그룹, 클로로알킬설포닐-C 1-4 알킬 그룹 또는 Het 그룹(여기서, Het는 상기 정의된 바와 같다)이고; m은 1 또는 2이고; p는 0, 1 또는 2이고; q는 0, 1 또는 2이고; w1 및 w2는 각각 0 또는 1이고; w3은 1, 2 또는 3이되; p가 0인 경우, q는 0이고; R4, R5, R18, R19, R21 및 Het중 하나 이상은 반응성이거나, 또는 반응성인 하나 이상의 치환기를 갖는다. 화학식 III  상기 식에서, R40, R41, L1 및 L2는 각각 상기 정의된 바와 같고; R7은 선택적으로 존재하며, 시아노 그룹, 또는 식 -CH2SO3H 또는 -C(=O)NH 2의 그룹이고; R24 및 R25는 각각 독립적으로 수소원자, C1-4 알킬 그룹, 설포-C1-4 알킬 그룹 또는 카복실 그룹이고; n은 1 또는 2이고; r은 0 또는 1이고; s1 및 s2는 각각 0 또는 1이되; R40이 페닐 또는 나프틸 그룹인 경우, s2는 1이고; R40 및 R41중 하나 이상은 반응성이거나, 또는 반응성인 하나 이상의 치환기를 갖는다. 화학식 IV  상기 식에서, R1, R40, R41, L1, L2, x, y 및 z는 각각 상기 정의된 바와 같고; R9는 CH3(C=O)-, Het(상기 정의된 바와 같음), 또는 페닐 및 나프틸로부터 선택된 아릴 그룹이되, 여기서 Het 또는 아릴 그룹은 설폰산 그룹, 그의 염, C1-4 알킬 그룹, C1-4 알콕시 그룹, 하이드록시 그룹, 아미노 그룹(이는 하나 이상의 메틸 또는 설파토 그룹에 의해 선택적으로 치환됨), 비닐설포닐 그룹 및 식 -SO2CH2CH2Q 1(여기서, Q1은 상기 정의된 바와 같다)의 그룹으로부터 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 선택적으로 치환되고; R35는 C1-4 알킬 그룹, C2-4 알케닐 그룹[여기서, 상기 C1-4 알킬 또는 C2-4 알케닐 그룹은 하나 이상의 할로겐원자, 설폰산 그룹, 그의 염, 클로로알킬설포닐 그룹, 비닐설포닐 그룹 또는 식 -SO2CH2CH2Q1(여기서, Q1은 상기 정의된 바와 같다)의 그룹에 의해 선택적으로 치환되고, 선택적으로 그의 쇄내에 하나 이상의 산소 또는 황원자를 추가로 함유한다], Het 그룹(상기 정의된 바와 같음), 또는 페닐 및 나프틸로부터 선택된 아릴 그룹[여기서, Het 또는 아릴 그룹은 설폰산 그룹, 그의 염, C1-4 알킬 그룹, C1-4 알콕시 그룹, 할로겐원자, 하이드록시 그룹, 아미노 그룹(이는 하나 이상의 메틸 또는 설파토 그룹에 의해 선택적으로 치환됨), 비닐설포닐 그룹, 비닐설포닐옥시에틸 그룹 및 식 -SO2CH2CH2Q1(여기서, Q1은 상기 정의된 바와 같다)의 그룹으로부터 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 선택적으로 치환된다]이고; R50은 비닐설포닐 그룹 또는 식 -SO2CH2CH2Q1(여기서, Q1은 상기 정의된 바와 같다)의 그룹이고; R1, R9, R35, R40, R41 및 R50중 하나 이상은 반응성이거나, 또는 반응성인 하나 이상의 치환기를 갖고; L3은 N(R20)(여기서, R20은 상기 정의된 바와 같다), CO, COO, NHCO, NHCONH, SO2NH 및 SO2로부터 선택된 연결기이고; L4는 N(R21)(여기서, R21은 상기 정의된 바와 같다), CO, COO, NHCO, NHCONH, SO2NH 및 SO2로부터 선택된 연결기이고; Z는 하이드록시, 아미노 또는 메틸아미노이고; a는 0 또는 1 내지 4이고; b는 0 또는 1 내지 3이고; c는 0 또는 1이고; d는 0, 1 또는 2이고; e는 0 또는 1이다. 화학식 V  상기 식에서, R1, R40, R41, L1, L2, x, y 및 z는 각각 상기 정의된 바와 같고; V 및 W는 각각 독립적으로 NH2 또는 OH이고; R14는 설폰산 그룹, 그의 염, C1-4 알킬 그룹, C1-4 알콕시 그룹, 하이드록시 그룹, 비닐설포닐 그룹 및 식 -SO2CH2CH2Q1(여기서, Q1은 알칼리 조건하에서 제거되어 비닐설포닐 그룹을 제공할 수 있는 이탈기이다)의 그룹으로부터 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환기를 선택적으로 갖는 페닐 및 나프틸 그룹으로부터 선택된 아릴 그룹이고; R51 및 R52는 각각 독립적으로 비닐설포닐 그룹, 식 -SO2CH2CH 2Q1(여기서, Q1은 알칼리 조건하에서 제거되어 비닐설포닐 그룹을 제공할 수 있는 이탈기이다)의 그룹 또는 Het3 그룹(여기서, Het3은 선택적으로 치환된 방향족 헤테로사이클릭 반응성 그룹, 또는 지방족 쇄를 갖는 반응성 그룹이다)에 의해 선택적으로 치환된 페닐 및 나프틸 그룹으로부터 선택된 아릴 그룹이고; L3 및 L4는 각각 독립적으로 N(R20)(여기서, R20은 수소 또는 C1-4 알킬이다), C(=O), C(=O)-O, S(=O)2, S(=O)-NH, C(=O)-NH 및 NHC(=O)NH로부터 선택된 연결기이고; f, g 및 h는 각각 독립적으로 0 또는 1이고; R14, R40, R41, R51 및 R52중 하나 이상은 반응성이거나, 또는 반응성인 하나 이상의 치환기를 갖는...