Self-reversible reverse latex, and use thereof as a thickening agent in a cosmetic compositionA self-reversible reverse latex, and its use as a thickener. The self-reversible reverse latex includes: 50%-70 of a cross-linked polyelectrolyte obtained by the polymerization of a monomer of formula (I), with R1 being 8 to 20 carbon atoms and 1?n?30 for a neutral monomer, and a monomer having an acid function; 4%-10% of a water-in-oil emulsifier; 1%-10% of an oil-in-water emulsifier including a surface-active composition (C); 15%-45% oil; and 0%-5% water. Composition (C) is 10%-50% composition (CII) and 50%-90% composition(CIII). Composition(CII) is 60%-100% of a composition of formula (II), with R2 being a 12 carbon alkyl, T1, T2, and T3 being H or a (?CH2?CH2?O?)mi?H radical with 0?mi?10 and 0<Σmi?10. Composition (CIII) is 60%-100% of a compound of formula (III) or mixtures of (III) and (IV), with R2 being as defined previously.A composition in the form of a self-invertible inverse latex comprising, for 100% of its weight: (a) from 50% by weight to 70% by weight of a crosslinked anionic polyelectrolyte (P) obtained by polymerization of:(i) at least one neutral monomer of formula (I): [Image]in which the R1 radical represents a linear or branched aliphatic radical comprising from 8 to 20 carbon atoms and n represents a number greater than or equal to one and less than or equal to thirty;(ii) at least one neutral monomer selected from the group consisting of: acrylamide, N,N-dimethylacrylamide, N-[tris(hydroxymethyl)methyl]acrylamide and 2-hydroxyethyl acrylate; and(iii) at least one monomer comprising a strong acid functional group and/or at least one monomer comprising a weak acid functional group;(b) from 4% by weight to 10% by weight of an emulsifying system (S1) of water-in-oil (W/O) type;(c) from 1% by weight to 10% by weight of an emulsifying system (S2) of oil-in-water (O/W) type comprising a proportion greater than or equal to 50% by weight of a surfactant composition (C), said surfactant composition (C) comprising, for 100 mol %:1)?a proportion of from 10 mol % to 50 mol % of a composition (CII) comprising, per 100 mol %: α)?from 60 mol % to 100 mol % of a compound of formula (II): [Image]in which: R2 represents a linear or branched alkyl radical comprising 12 carbon atoms,T1 represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m1?H radical in which m1 is an integer of zero to ten inclusive,T2, which is identical to or different from T1, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m2?H radical in which m2 is an integer of zero to ten inclusive, andT3, which is identical to or different from T1 and T2, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m3?H radical in which m3 is an integer of zero to ten inclusive,it being understood that the sum m1+m2+m3 is greater than 0 and less than or equal to ten; βoptionally up to 40 mol % of a compound of formula (II′): [Image]in which: R′2 represents a linear or branched alkyl radical comprising 14 carbon atoms,T′1 represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m1?H radical in which m1 is an integer of zero to ten inclusive,T′2, which is identical to or different from T′1, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m2?H radical in which m2 is an integer of zero to ten inclusive, andT′3, which is identical to or different from T′1 and T′2, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m3?H radical in which m3 is an integer of zero to ten inclusive,it being understood that the sum m1+m2+m3 is greater than 0 and less than or equal to ten; and γ)?optionally up to 10 mol % of a compound of formula (II″): [Image]in which: R″2 represents a linear or branched alkyl radical comprising 16 carbon atoms,T″1 represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m1?H radical in which m1 is an integer of zero to ten inclusive,T″2, which is identical to or different from T″1, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m2?H radical in which m2 is an integer of zero to ten inclusive, andT″3, which is identical to or different from T″1 and T″2, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m3?H radical in which m3 is an integer of zero to ten inclusive,it being understood that the sum m1+m2+m3 is greater than 0 and less than or equal to ten;2)?a proportion of from 50 mol % to 90 mol % of a composition (CIII) comprising, per 100 mol %: α)?from 60 mol % to 100 mol % of a compound of formula (III): [Image]or of its isomer of formula (IV): [Image]or of a mixture thereof,in which formulae (III) and (IV): R2 represents a linear or branched alkyl radical comprising 12 carbon atoms,T4 represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m4?H radical in which m4 is an integer of zero to ten inclusive,T5, which is identical to or different from T4, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m5?H radical in which m5 is an integer of zero to ten inclusive,T6, which is identical to or different from T4 and T5, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m6?H radical in which m6 is an integer of zero to ten inclusive,T7, which is identical to or different from T4, T5 and T6, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m7?H radical in which m7 is an integer of zero to ten inclusive, it being understood that the sum m4+m5+m6+m7 is greater than 0 and less than or equal to ten; β)?optionally up to 40 mol % of a compound of formula (III′): [Image]or of its isomer of formula (IV′): [Image]or of a mixture thereof, in which formulae (III ′) and (IV′):R′2 represents a linear or branched alkyl radical comprising 14 carbon atoms,T′4 represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m4?H radical in which m4 is an integer of zero to ten inclusive,T′5, which is identical to or different from T′4, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m5?H radical in which m5 is an integer of zero to ten inclusive,T′6, which is identical to or different from T′4 and T′5, represents a hydrogen atom or a (?CH2?CH2?O?)m6?H radical in which m6 is an integer of zero to ...
신규한 자가-가역적 리버스 라텍스, 및 화장품 조성물에서 증점제로서의 그의 용도본 발명은, 중성 단량체를 위한 화학식 I의 단량체 <화학식 I>  (상기 식에서 R1은 8 내지 20개의 탄소 원자이고 1 ≤ n ≤ 30임), 및 산 관능성을 포함하는 단량체의 중합에 의해 수득된 가교결합된 고분자 전해질 50% 내지 70%; 유-중-수 유화제 4% 내지 10%; 제로가 아닌 중량비의 표면-활성 조성물 (C) [이는 100 몰%에 대해, 100%에 대해, 화학식 II의 조성물 60% 내지 100% <화학식 II>  (상기 식에서 R2는 12개의 탄소 원자를 갖는 알킬이고, T1, T2, 및 T3는 H 또는 (-CH2-CH2-O-)mi-H 라디칼이고, mi는 ≥0 및 ≤ 10이고 Σmi는 > 0 및 ≤ 10임)를 포함하는 조성물 (CII) ≥ 10 % 내지 ≤ 50%; 100%에 대해, 화학식 III의 화합물 또는 화학식 III과 화학식 IV의 혼합물 60% 내지 100% <화학식 III>  <화학식 IV>  (상기 식에서 R2는 12개의 탄소 원자를 갖는 알킬이고, T4, T5, T6, 및 T7은 H 또는 (-CH2-CH2-O-)mi-H이고, mi는 ≥ 0 및 ≤ 10이고 Σmi는 > 0 및 ≤ 10임)를 포함하는 조성물 (CIII) ≥ 50% 내지 ≤ 90%를 함유함]를 포함하는 수-중-유 유화제 1% 내지 10%; 오일 15% 내지 45%; 및 물 0% 내지 5%를 포함하는 자가-가역적 리버스 라텍스에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 자가-가역적 리버스 라텍스의 증점제로서의 용도에 관한 것이다.조성물 중량 100%에 대해a) - 화학식 I의 1종 이상의 중성 단량체:<화학식 I> [이미지](상기 식에서 R1 라디칼은 8 내지 20개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 지방족 라디칼을 나타내고 n은 1 이상 30 이하의 수를 나타냄);- 아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-[2-히드록시-1,1-비스(히드록시메틸)에틸]프로펜아미드 [또는 트리스(히드록시메틸)아크릴아미도메탄 또는 N-[트리스(히드록시메틸)메틸]아크릴아미드 (THAM으로도 알려짐)] 또는 2-히드록시에틸 아크릴레이트로부터 선택된 1종 이상의 중성 단량체; 및- 강산 관능기를 포함하는 1종 이상의 단량체 및/또는 약산 관능기를 포함하는 1종 이상의 단량체의 중합에 의해 수득된 가교결합된 음이온성 고분자 전해질 (P) 50 중량% 내지 70 중량%;b) - 유-중-수 (W/O) 형의 유화 시스템 (S1) 4 중량% 내지 10 중량%;c) - 제로가 아닌 중량 분율의 계면활성제 조성물 (C)을 포함하는 수-중-유 (O/W) 형의 유화 시스템 (S2) 1 중량% 내지 10 중량% [상기 계면활성제 조성물 (C)은, 100 몰%에 대해1) - 100　몰% 당α) - 화학식 II의 화합물 60　몰% 내지 100　몰%: <화학식 II>[이미지](상기 식에서,- R2는 12개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타내고,- T1은 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m1-H 라디칼을 나타내고 여기서 m1은 0 이상 10 이하의 정수이고,- T2는 T1과 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m2-H 라디칼을 나타내고 여기서 m2는 0 이상 10 이하의 정수이고, - T3는 T1 및 T2와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m3-H 라디칼을 나타내고 여기서 m3는 0 이상 10 이하의 정수이고,- m1 + m2 + m3의 합계는 0 초과 10 이하인 것으로 이해됨);β) - 임의로 화학식 II'의 화합물 40　몰% 이하: <화학식 II'> [이미지](상기 식에서,- R'2는 14개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타내고,- T'1은 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m1-H 라디칼을 나타내고 여기서 m1은 0 이상 10 이하의 정수이고,- T'2는 T'1과 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m2-H 라디칼을 나타내고 여기서 m2는 0 이상 10 이하의 정수이고, - T'3는 T'1 및 T'2와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m3-H 라디칼을 나타내고 여기서 m3는 0 이상 10 이하의 정수이고,- m1 + m2 + m3의 합계는 0 초과 10 이하인 것으로 이해됨); 및γ) - 임의로 화학식 II"의 화합물 10　몰% 이하: <화학식 II"> [이미지](상기 식에서,- R"2는 16개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타내고,- T"1은 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m1-H 라디칼을 나타내고 여기서 m1은 0 이상 10 이하의 정수이고,- T"2는 T"1과 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m2-H 라디칼을 나타내고 여기서 m2는 0 이상 10 이하의 정수이고, - T"3는 T"1 및 T"2와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m3-H 라디칼을 나타내고 여기서 m3는 0 이상 10 이하의 정수이고,- m1 + m2 + m3의 합계는 0 초과 10 이하인 것으로 이해됨)를 포함하는 조성물 (CII) 10 몰% 이상 50 몰% 이하의 분율; 2) - 100　몰% 당α) - 화학식 III의 화합물 또는 화학식 IV의 그의 이성질체 또는 이들 두 이성질체의 혼합물 60　몰% 내지 100　몰%: <화학식 III> [이미지]<화학식 IV>[이미지](상기 화학식 III 및 IV에서,- R2는 12개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타내고,- T4는 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m4-H 라디칼을 나타내고 여기서 m4는 0 이상 10 이하의 정수이고,- T5는 T4와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m5-H 라디칼을 나타내고 여기서 m5는 0 이상 10 이하의 정수이고,- T6는 T4 및 T5와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m6-H 라디칼을 나타내고 여기서 m6는 0 이상 10 이하의 정수이고,- T7은 T4, T5 및 T6와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m7-H 라디칼을 나타내고 여기서 m7은 0 이상 10 이하의 정수이고, m4 + m5 + m6 + m7의 합계는 0 초과 10 이하인 것으로 이해됨);β) - 임의로 화학식 III'의 화합물 또는 화학식 IV'의 그의 이성질체 또는 이들 두 이성질체의 혼합물 40　몰% 이하: <화학식 III'> [이미지]<화학식 IV'> [이미지](상기 화학식 III' 및 IV'에서,- R'2는 14개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타내고,- T'4는 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m4-H 라디칼을 나타내고 여기서 m4는 0 이상 10 이하의 정수이고,- T'5는 T'4와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m5-H 라디칼을 나타내고 여기서 m5는 0 이상 10 이하의 정수이고,- T'6는 T'4 및 T'5와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m6-H 라디칼을 나타내고 여기서 m6는 0 이상 10 이하의 정수이고,- T'7은 T'4, T'5 및 T'6와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m7-H 라디칼을 나타내고 여기서 m7은 0 이상 10 이하의 정수이고, m4 + m5 + m6 + m7의 합계는 0 초과 10 이하인 것으로 이해됨); 및γ) - 임의로 화학식 III"의 화합물 또는 화학식 IV"의 그의 이성질체 또는 이들 두 이성질체의 혼합물 10　몰% 이하:<화학식 III"> [이미지]<화학식 IV"> [이미지](상기 화학식 III" 및 IV"에서,- R"2는 16개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타내고,- T"4는 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m4-H 라디칼을 나타내고 여기서 m4는 0 이상 10 이하의 정수이고,- T"5는 T"4와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m5-H 라디칼을 나타내고 여기서 m5는 0 이상 10 이하의 정수이고,- T"6는 T"4 및 T"5와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m6-H 라디칼을 나타내고 여기서 m6는 0 이상 10 이하의 정수이고,- T"7은 T"4, T"5 및 T"6와 동일하거나 상이하고, 수소 원자 또는 (-CH2-CH2-O-)m7-H 라디칼을 나타내고 여기서 m7은 0 이상 10 이하의 정수이고, m4 + m5 + m6 + m7의 합계는 0 초과 10 이하인 것으로 이해됨)를 포함하는 조성물 (CIII) 50 몰% 이상 90 몰% 이하의 분율을 포함함];d) - 1종 이상의 오일 15 중량% 내지 45 중량%, 및e) - 물 0 중량% 내지 5 중량%를 포함하는 자가-가역성 인버스 라텍스 형태의 조성물.