Surface-active photoinitatorsA process for the production of coatings having scratch-resistant durable surfaces, in which there are used photocurable formulations comprising a surface-active photoinitiator, concentrated at the surface of the formulation, of formula (Ia), (Ib), (Ic) or (Id), wherein R and R1 are, for example, each independently of the other a radical of formula (II); R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 and R9 are each independently of the others, for example, hydrogen; A-X, A1-X1-; unsubstituted or substituted C1-C12alkyl or phenyl; with the proviso that in formulae (Ia) and (Ib) at least one substituent A-X, A1—X1— is present in at least one of the radicals R and R1; and with the proviso that in formulae (Ic) and (Id) at least one of the radicals ); R2, R3, R4, R5, R6, R7, R5 and R9 is A—X, A1—X1—; A and A1 are each independently of the other a surface-active radical of formula (M) or Ao; n is, for example, a number from 1 to 1000 m is a number from 0 to 100; p is a number from 0 to 10 000; Ao is, for example, C6-C30alkyl; G1 and G2 are, for example, C1-C1alkyl; R18, R19, R2o, R22, R21, R23, R24, R25, R26 and R27 are, for example, C1-C18alkyl; and X and X1 are, for example, a single bond. A process for the production of a coating having a scratch-resistant durable surface, which comprises (1) preparing a photocurable formulation comprising (A) an ethylenically unsaturated polymerizable compound; and (B) a photoinitiator;  (2) applying the formulation to a substrate; and (3) curing the formulation either solely by irradiation with electromagnetic radiation, for example of a wavelength ranging from 200 nm into the IR region, especially, for example, from 200 to 800 nm or from 200 to 600 nm, or by irradiation with electromagnetic radiation, for example of a wavelength ranging from 200 nm into the IR region, especially, for example, from 200 to 800 nm or from 200 to 600 nm, and the prior, simultaneous and/or subsequent action of heat;  wherein the formulation comprises as photoinitiator (B) at least one surface-active photoinitiator, concentrated at the surface of the formulation, of formula Ia, Ib, Ic or Id:  wherein  R and R1 are each independently of the other a radical of formula 11 wherein in formula II R2, R3, R4, R5 and R6 are each independently of the others hydrogen; A-X—, A1-X1—; C1-C12alkyl unsubstituted or substituted by OH, C1-C4alkoxy, phenyl, naphthyl, halogen, CN, —C(O)R11 or by —O(CO)R11; or C2—C12alkyl interrupted by one or more non-consecutive oxygen atoms; or R2, R3, R4, R5 and R6 each independently are OR12, SR13, NR14R15, —(C1-C6alkyl)NR14R15, —O—(C1-C6alkyl)-NR14R15, —C(O)R11 or halogen; or are phenyl unsubstituted or substituted by C1-C4alkyl or/and by C1-C4alkoxy, the substituents OR12, SR13 and NR14R15 being capable, by way of the radicals R12, R13, R14 and/or R15 together with further substituents on the phenyl ring or together with one of the carbon atoms of the phenyl ring, of forming 5- or 6-membered rings; with the proviso that in formulae (Ia) and (Ib) at least one substituent A-X— or A1-X1— is present in at least one of the radicals R and R1; or R and R1 are naphthyl, anthracyl, phenanthryl or a heterocyclic radical, the radicals naphthyl, anthracyl, phenanthryl and the heterocycle being unsubstituted or substituted by A-X—, A1-X1-—C1-C8alkyl, phenyl, OR12, SR13, NR14R15, —(C1-C6alkyl)-NR14R15 or/and by —O—(C1-C6alkyl)-NR14R15, and the substituents OR12, SR13 and NR14R15 being capable, by way of the radicals R12, R13, R14 and/or R15 together with further substituents on the naphthyl ring, anthracyl ring, phenanthryl ring or heterocycle or together with one of the carbon atoms of the naphthyl ring, anthracyl ring, phenanthryl ring or heterocycle, of forming 5- or 6-membered rings; wherein in formula Ic R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 and R9 are each independently of the others hydrogen; A-X—, A1-X1; C1-C12alkyl unsubstituted or substituted by OH, C1-C4alkoxy, phenyl, naphthyl, halogen, CN, —C(O)R11 or by —O(CO)R11; or C2-C12alkyl interrupted by one or more non-consecutive oxygen atoms; or R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 and R9 are each independently OR12, SR13, NR14R15, —(C1-C6alkyl)-NR14R15, —O-(C1-C6alkyl)NR14R15, —C(O)R11 or halogen; or are phenyl unsubstituted or substituted by C1-C4alkyl or/and by C1-C4alkoxy, the substituents OR12, SR13 and NR14R15 being capable, by way of the radicals R12, R13, R14 and/or R1 together with further substituents on the phenyl ring or together with one of the carbon atoms of the phenyl ring, of forming 5- or 6-membered rings; with the proviso that in formula (Ic) at least one of the radicals R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 and R9 is A-X— or A1-X1—; wherein in formula Id R2, R3, R4 and R5 are each independently of the others hydrogen; A-X—, A1-X1—; C1-C12alkyl unsubstftuted or substituted by OH, C1-C4alkoxy, phenyl, naphthyl, halogen, CN, —C(O)R11 or by —O(CO)R11; or C2-C12alkyl interrupted by one or more nonconsecutive oxygen atoms; or R2, R3, R4 and R5 are each independently OR12, SR13, NR14R15, —(C1-C6alkyl)-NR14R15, —O—(C1-C6alkyl)-NR14R15, —C(O)R11 or halogen; or are phenyl unsubstituted or substituted by C1-C4alkyl or/and by C1-C4alkoxy, the substituents OR12, SR13 and NR14R15 being capable, by way of the radicals R12, R13, R14 and/or R15 together with further substituents on the phenyl ring or together with one of the carbon atoms of the phenyl ring, of forming 5- or 6-membered rings; with the proviso that in formula (Id) at least one of the radicals R2, R3, R4 and R5 is A-X— or A1-X1—; R10 is C1-C8alkyl, or phenyl unsubstituted or substituted by A-X—, C1-C4alkyl and/or by O1-C4alkoxy; R11 is C1-C8alkyl, or phenyl unsubstituted or substituted by C1-C4alkyl and/or by O1-C4alkoxy; R12 and R13 are each independently of the other hydrogen; or C1-C12alkyl unsubstituted or substituted by OH, C1-C4alkoxy, phenyl, phenoxy or/and by —O(CO)R11; or R12 and R13 are C2-C12alkyl interrupted by one or more non-consecutive oxygen atoms; or R12 and R13 are phenyl, C3-C6alkenyl, cyclopentyl, cyclohexyl or naphthyl, those radicals being unsubstituted or substituted by C1-C4alkoxy, phenyl or/and by C1-C4alkyl; R14 and R15 are each indep...
표면 활성 광개시제본 발명은, 화학식 Ia, Ib, Ic 또는 Id의 표면 활성 광개시제 [화학식 Ia, Ib, Ic 및 Id에서, R 및 R1은, 예를 들면, 각각 서로 독립적으로 화학식 (II)의 라디칼이고, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 각각 독립적으로, 예를 들면, 수소; A-X-, A1-X1-; 치환되지 않거나 치환된 C1-C12알킬 또는 페닐이고, 단 화학식 Ia 및 Ib에서 라디칼 R 및 R1 중의 하나 이상에 A-X- 및 A1-X1-중의 하나 이상의 치환체가 존재하고, 화학식 Ic 및 Id에서 라디칼 R2, R3, R4, R5, R6 , R7, R8 및 R9 중의 하나 이상이 A-X- 또는 A1-X1-이고, A 및 A1은 각각 독립적으로 화학식 (III)의 표면 활성 라디칼 또는 A0 (여기서, n은, 예를 들면, 1 내지 1000의 수이고; m은 0 내지 100의 수이고; p는 0 내지 10,000의 수이고; A0는, 예를 들면, C6-C30알킬이고; G1 및 G2는, 예를 들면 C1-C18 알킬이고; R18, R19, R20, R21 , R22, R23, R24, R25, R26 및 R27은, 예를 들면, C1-C18 알킬이다)이고, X 및 X1은, 예를 들면, 단일결합이다]가 표면에 집중되어 있는 광경화성 조성물을 사용함을 특징으로 하는 내스크래치성 내구성 표면을 갖는 피복물의 제조방법에 관한 것이다.에틸렌계 불포화 중합성 화합물(A) 및 광개시제(B)를 포함하는 광경화성 조성물을 제조하는 단계(1), 상기 광경화성 조성물을 기판에 도포하는 단계(2) 및 상기 광경화성 조성물을, 전자기 광선, 예를 들면, 파장이 200nm에서 적외선 영역까지의 범위인, 특히 예를 들면, 200 내지 800nm 또는 200 내지 600nm인 전자기 광선으로 조사만 하여 경화시키거나, 전자기 광선, 예를 들면, 파장이 200nm에서 적외선 영역까지의 범위인, 특히 예를 들면, 200 내지 800nm 또는 200 내지 600nm인 전자기 광선으로 조사하고, 상기 조사 전, 조사하는 동안 및/또는 조사 후 가열함으로써 경화시키는 단계(3)를 포함하는 방법으로서, 광 경화성 조성물이, 광개시제(B)로서, 상기 조성물의 표면에 집중되어 있는, 화학식 Ia, Ib, Ic 또는 Id의 표면 활성 광개시제를 하나 이상 포함하며, 화학식 Ia  화학식 Ib  화학식 Ic  화학식 Id, 위의 화학식 Ia, Ib, Ic 및 Id에서, R 및 R1은 각각 서로 독립적으로 화학식의 라디칼[여기서, R2, R3, R4, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소; A-X-, A1-X1-; 치환되지 않거나 OH, C1-C4알콕시, 페닐, 나프틸, 할로겐, CN, -C(O)R11 또는 -O(CO)R11 에 의해 치환된 C1-C12알킬; 또는 하나 이상의 산소 원자가 비연속적으로 삽입되어 있는 C2-C12알킬이거나, R2, R3, R4, R5 및 R6은 각각 독립적으로 OR 12, SR13, NR14R15, -(C1-C6-알킬)NR 14R15, -O-(C1-C6알킬)-NR14R15, -C(O)R11 또는 할로겐; 또는 치환되지 않거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 페닐이고, 여기서 치환체 OR12, SR13 및 NR14R15는 페닐환 상의 추가의 치환체와 함께 또는 페닐환의 탄소 원자 중의 하나와 함께 라디칼 R12, R13, R14 및/또는 R15에 의해 5원 또는 6원 환을 형성할 수 있다]이되, 단 화학식 Ia 및 Ib에서 라디칼 R 및 R1 중의 하나 이상에 하나 이상의 치환체 A-X 또는 A1-X1-이 존재하거나, R 및 R1은 치환되지 않거나 A-X-, A1-X1-, C1-C8알킬, 페닐, OR12, SR13, NR14R15, -(C1-C6알킬)-NR14R15 및/또는 -O-(C1-C6알킬)-NR14R15에 의해 치환된 나프틸, 안트라실, 페난트릴 또는 헤테로사이클릭 라디칼이고, 여기서 치환체 OR12, SR13 및 NR14R15는 나프틸 환, 안트라실 환, 페난트릴 환 또는 헤테로사이클 상의 추가의 치환체와 함께 또는 나프틸 환, 안트라실 환, 페난트릴 환 또는 헤테로사이클의 탄소 원자 중의 하나와 함께 라디칼 R12, R13, R14 및/또는 R15에 의해 5원 또는 6원 환을 형성할 수 있고, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 각각 독립적으로 수소; A-X-, A1-X1-; 치환되지 않거나 OH, C1-C4알콕시, 페닐, 나프틸, 할로겐, CN, -C(O)R11 또는 -O(CO)R11에 의해 치환된 C1-C12알킬; 또는 하나 이상의 산소 원자가 비연속적으로 삽입되어 있는 C2-C12알킬이거나, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 각각 독립적으로 OR12, SR13 , NR14R15, -(C1-C6-알킬)NR14R15, -O-(C 1-C6알킬)-NR14R15, -C(O)R11 또는 할로겐; 또는 치환되지 않거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 페닐이고, 여기서 치환체 OR12, SR13 및 NR14R15는 페닐환 상의 추가의 치환체와 함께 또는 페닐환의 탄소 원자 중의 하나와 함께 라디칼 R12, R13, R14 및/또는 R15에 의해 5원 또는 6원 환을 형성할 수 있고, 단 화학식 Ic에서 라디칼 R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9 중의 하나 이상은 A-X- 또는 A1-X1-이고, 화학식 Id에서 라디칼 R2, R3, R4 및 R5 중의 하나 이상은 A-X- 또는 A1-X1-이며, R10은 C1-C8알킬, 또는 치환되지 않거나 A-X-, C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 페닐이고, R11은 C1-C8알킬, 또는 치환되지 않거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 페닐이고, R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소; 또는 치환되지 않거나 OH, C1-C4 알콕시, 페닐, 페녹시 및/또는 -O(CO)R11에 의해 치환된 C1-C12 알킬이거나, R 12 및 R13는 하나 이상의 산소 원자가 비연속적으로 삽입되어 있는 C2-C12알킬이거나, R12 및 R13은 치환되지 않거나 C1-C4알콕시, 페닐 및/또는 C1-C4-알킬에 의해 치환된 페닐, C3-C6 알케닐, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 또는 나프틸이고, R14 및 R15는 각각 독립적...인 것을 특징으로 하는, 내스크래치성 내구성 표면을 갖는 피복물의 제조방법.