4 -aryl -and 4 -heteroaryl -5 -oxopyrazoline derivatives having pesticidal propertiesThe present invention relates to novel, pesticidally effective, 4-aryl- and 4-heteroaryl-5-oxo-pyrazoline derivatives of formula (I), in which R1, R2, R3 and G are as defined in claim 1, to compositions comprising these compounds, to their use as insecticides, acaricides or herbicides, especially in crops of useful plants, and to selective-herbicidal compositions comprising compounds of formula (I) and, as safeners, herbicide-antagonistically effective quantities of either a quinoline derivative of formula (X), in which R15 and X2 are as defined in the description, or a 1-phenylazole-3-carboxylic acid derivative of formula (XI), in which E, R16, R17, R18 and R19 are as defined in the description.Yi zhong xia shi compoundqi zhong r1the shi groupqu is for basic r4xiang is basic, the c of shi halogen, xiao base, qing independently mutually1-c 4-wan base, c1-c 4-haloalkyl, c1-c 10-alcoxyl base, c1-c 4-halogenated alkoxy, c3-c 6-alkenyloxy, c1-c 4-alcoxyl base-c2-c 4-alcoxyl base, c3-c 6-que yang base, c1-c 4-wan base tang base, c1-c 4-alcoxyl tang base, c1-c 4-wan sulfenyl, c1-c 4-wan base sulfinyl, c1-c 4-wan base sulfonyl, amino, c1-c 4-wan base amino or two (c1-c 4-wan yl) amino; r5the shi groupn shi 0,1,2,3 or 4; m shi 0 or 1, qie m is yu n zhi and shi 0,1,2,3 or 4; q shi 0,1,2 or 3; x1shi yang, sulphur ,-ch2-or-n (r7)-; qu is for basic r6xiang is shi c independently mutually1-c 4-wan base, halogen, c1-c 4-haloalkyl, c1-c 4-alcoxyl base, c1-c 4-halogenated alkoxy, xiao base, qing are basic, c1-c 4-alcoxyl base tang base, amino, c1- c 4-wan base amino or two (c1-c 4-wan yl) amino; r7shi qing, c1-c 4-wan base, formoxyl or c1-c 4-alcoxyl tang base; r2and r3xiang is shi qing, c independently mutually1-c 8-wan base, c3-c 8-alkenyl, c3-c 8-alkynyl, c1-c 8-alcoxyl base wan base, c1-c 8-wan sulfenyl wan base, c3-c 8-cycloalkyl or qu generation or unsubstituted aryl; or r2and r3that yi qi xing becomes is saturated or unsaturated, wei qu generation or qu generation single, two, the divalent group of san or polycyclic system, zhe xie ti xi can ren xuan zai not yu the nitrogen-atoms xiang neighbour's of shi yu shi i wei zhi shang contain yi or a plurality of ring hetero atom; g shi group-co-a (a) or-so2-b (b); a shi c1-c 8-wan base, ta you xiao is basic, qing is basic, si (c1-c 4-wan yl)3, amino, c1-c 4-wan base is amino, two (c1-c 4-wan yl) amino, qu generation or unsubstituted benzyloxy or groupor a shi c3-c 8-cycloalkyl, ru fruit xu yao, ta can contain za elemental oxygen, sulphur or nitrogen, and this cycloalkyl of qie can you c1-c 4-wan base, c1-c 4-alcoxyl base, c1-c 4-wan sulfenyl, c1-c 4-wan base sulfinyl, c1-c 4-wan base sulfonyl or qu generation or unsubstituted phenyl substituted, or a shi c3-c 8-cycloalkyl oxy, ru fruit xu yao, ta can contain za elemental oxygen, sulphur or nitrogen, and this cycloalkyl oxy of qie can you c1-c 4-wan base qu generation, or a shi gold steel wan base, nai are basic, you halogen, c1-c 4-wan base, c1-c 4-haloalkyl or c1-c 4the nai base in-alcoxyl base qu generation, or a shi group-(cr8r 9) p-(y) o-co-(z) r-r 10、-(cr 8r 9) p-r 11or-n (r10)r 13；r 08、r 09and r010xiang is shi qing or c independently mutually1-c 6-wan base; r8and r9xiang is shi qing, c independently mutually1-c 6-wan base or phenyl; r10shi qing, c1-c 10the c in-wan base, you halogen qu generation1-c 10-wan base, c1-c 4-alcoxyl base, c1-c 4-halogenated alkoxy, c1-c 4-wan sulfenyl, c3-c 12-cycloalkyl, qing base, aryl or aryloxy group, c3-c 8-cycloalkyl, you halogen or c1-c 4the c in-wan base qu generation3-c 8-cycloalkyl, c3-c 10-alkenyl, c3-c 10-alkynyl, c3-c 10-halogenated alkenyl, c3-c 10-halo alkynyl, aryl, you xia row qu are for the basic qu aryl in generation: halogen, c1-c 4-wan base, c1-c 4-haloalkyl, c1-c 6-alcoxyl base, c1-c 4-halogenated alkoxy, c1-c 4-wan sulfenyl, xiao base, qing are basic, the phenoxy group halogenated phenoxy; o and r xiang be shi 0 or 1 independently mutually; y and z xiang be shi yang or nr independently mutually12 p shi 1 is zhi 10; r11shi c3-c 8-cycloalkyl, you halogen or c1-c 4the c in-wan base qu generation3-c 8-cycloalkyl, aryloxy group, you halogen, c1-c 4-wan base, c1-c 4-haloalkyl, c1-c 4-alcoxyl base, c1-c 4-halogenated alkoxy, c1-c 4-wan sulfenyl, xiao base, qing are basic, phenoxy group or aryloxy group, benzyloxy, you halogen, the c in halogenated phenoxy qu generation1-c 4-wan base, c1-c 4-substituted alkyl, c1-c 4-alcoxyl base, c1-c 4-halogenated alkoxy, c1-c 4-wan sulfenyl, xiao base, qing are basic, phenoxy group or benzyloxy, norborny or the golden steel wan base in halogenated phenoxy qu generation, qi zhong aryloxy group except phenoxy group, the aryloxy group that each can what suo xu of shi ren; r12shi qing, c1-c 4-wan base, c3-c 8-cycloalkyl, c3-c 10-alkenyl or c3-c 10-alkynyl; r13shi c3-c 8-cycloalkyl, you halogen or c1-c 4the c in-wan base qu generation3-c 8-cycloalkyl or qing base-c1-c 6-wan base; b shi c1-c 10-wan base, ta you xia row qu is for basic qu generation: c1-c 4-alcoxyl base, c1-c 6-alcoxyl base-c1-c 4-alcoxyl base, c1-c 4-halogenated alkoxy, c1-c 4-wan sulfenyl, c1-c 4-halogenated alkylthio, c1-c 4-wan base sulfinyl, c1-c 4-wan base sulfonyl, c1-c 4-wan base sulfonyloxy, c1-c 4-wan base tang base, c1-c 4-alcoxyl base tang base, c1-c 4-wan base tang yang base, two (c1-c 4-wan yl) amino, c3-c 8-cycloalkyl, aryl, aryloxy group, arylthio, aryl sulfonyl, aryl sulfonyl kia, aryl-sulfonyl oxygen, aryl carbonyl or bi ding base, ru fruit xu yao, aryl or bi ding base can you xia row qu for basic qu generation: halogen, c1-c 4-wan base, c1-c 4-haloalkyl, c1-c 4-alcoxyl base, c1-c 4-halogenated alkoxy, c1-c 4-wan sulfenyl, xiao base, qing are basic,...
살충 특성을 갖는 4-아릴- 및 4-헤테로아릴-5-옥소피라졸린 유도체본 발명은 하기 화학식(I)의 신규 살충 활성 4-아릴- 및 4-헤테로아릴-5-옥소-피라졸린 유도체; 이들 화합물을 포함하는 조성물; 특히 유용한 농작물에서 살충제, 살비제 또는 제초제로서 이들의 용도; 및 화학식(I)의 화합물 및 완화제로서 제초제-길항적 유효량의 하기 화학식(X)의 퀴놀린 유도체 또는 하기 화학식(XI)의 1-페닐아졸-3-카르복시산 유도체를 포함하는 선택적-제초제 조성물에 관한 것이다 :상기 식에서,R1, R2, R3 및 G는 제1항에서 정의한 바와 같고, R15 내지 R 19, X2 및 E는 상기 정의한 바와 같다.하기 화학식(I)의 화합물 : [이미지] 상기 식에서, [이미지] 치환제 R4는 서로 독립적으로 할로겐, 니트로, 시아노, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C1-C10알콕시, C1-C4할로알콕시, C3-C6알케닐옥시, C1-C4알콕시-C2-C4알콕시, C3-C6알키닐옥시, C1-C4알킬카보닐, C1-C4알콕시카보닐, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬술피닐, C1-C4알킬술포닐, 아미노, C1-C4알킬아미노 또는 디(C1-C4알킬)아미노이며; [이미지] n은 0,1,2,3 또는 4이며 : m은 0 또는 1이고, 또 m과 n의 합은 0,1,2,3 또는 4이며 ; q는 0,1,2 또는 3이고; X1은 O, S, -CH2- 또는 -N(R7)-이며; 치환제 R6은 서로 독립적으로 C1-C4알킬, 할로겐, C1-C4할로알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, 니트로, 시아노, C1-C4알콕시카보닐, 아미노, C1-C4알킬아미노 또는 디(C1-C4알킬)아미노이고; R7은 H, C1-C4알킬, 포르밀 또는 C1-C4알킬카보닐이며; R2와 R3은 서로 독립적으로 H, C1-C8알킬, C3-C8알케닐, C3-C8알키닐, C1-C8알콕시알킬, C1-C8알킬티오알킬, C3-C8시클로알킬 또는 치환 또는 비치환 아릴이고; 또는 R2 및 R3이 함께 포화 또는 불포화, 비치환 또는 치환, 모노-, 비-, 트리- 또는 다환 계의 2가 라디칼을 형성하며, 이 계는 화학식(I)에 나타난 질소 원자에 인접하지 않은 위치에서 하나 이상의 고리 헤테로 원자를 임의로 함유할 수 있으며; G는 -CO-A (a) 또는 -SO2-B (b) 기이고; A는 니트로, 시아노, Si(C1-C4알킬)3, 아미노, C1-C4알킬아미노, 디(C1-C4알킬)아미노, 치환 또는 비치환 벤질옥시 또는 [이미지] 기에 의해 치환된 C1-C8알킬이며, 또는 A는 필요에 따라 헤테로원자로서 O, S 또는 N을 함유할 수 있고 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬술피닐, C1-C4알킬술포닐 또는 치환 또는 비치환 페닐에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬이며, 또는 A는 필요에 따라 헤테로원자로서 O, S 또는 N을 함유할 수 있고 C1-C4알킬에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬옥시이며, 또는 A는 아다만틸; 나프틸; 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 나프틸이고; 또는 A는 -(CR8R9)P-(Y)O-CO-(Z)r-R10, -(CR 8R9)P-R11 또는 -N(R10)R13 기이며; R8, R9 및 R10은 서로 독립적으로 H 또는 C1-C6알킬이고; R8 및 R9는 서로 독립적으로 H, C1-C6알킬 또는 페닐이며; R10은 H; C1-C10알킬; 할로겐, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, C3-C12시클로알킬, 시아노, 아릴 또는 아릴옥시에 의해 치환된 C1-C 10알킬; C3-C8시클로알킬; 할로겐 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬; C3-C10알케닐; C3-C10알키닐; C3-C10할로알케닐; C3-C10할로알키닐; 아릴; 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C1-C6알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, 니트로, 시아노, 페녹시 또는 할로-치환 페녹시에 의해 치환된 아릴이고; o 및 r은 서로 독립적으로 0 또는 1이며; Y 및 Z는 서로 독립적으로 0 또는 NR12이고; p는 1 내지 10이며; R11은 C3-C8시클로알킬; 할로겐 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬; 아릴옥시; 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, 니트로, 시아노, 페녹시 또는 할로-치환 페녹시에 의해 치환된 아릴옥시; 벤질옥시; 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, 니트로, 시아노, 페녹시 또는 할로-치환 페녹시에 의해 치환된 벤질옥시; 노르보닐 또는 아다만틸, 여기서 페녹시를 제외한 아릴옥시는 각 경우에 있어서 임의의 필요로하는 아릴옥시 기 일 수 있고; R12는 H, C1-C4알킬, C3-C8시클로알킬, C3-C 10알케닐 또는 C3-C10알키닐이며; R13은 C3-C8시클로알킬; 할로겐 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬 또는 시아노-C1-C6알킬이고; B는 C1-C4알콕시, C1-C6알콕시-C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4할로알킬티오, C1-C4알킬술피닐, C1-C 4알킬술포닐, C1-C4알킬술포닐옥시, C1-C4알킬카보닐, C1-C4알콕시카보닐, C1-C 4알킬카보닐 옥시, 디(C1-C4알킬)아미노, C3-C8시클로알킬, 아릴, 아릴옥시, 아릴티오, 아릴술포닐, 아릴술피닐, 아릴술포닐옥시, 아릴카보닐 또는 피리딜에 의해 치환된 C1-C10알킬이며, 필요한 경우 아릴 및 피리딜 기는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, 니트로, 시아노, 페녹시, 할로-치환 페녹시, 페닐티오 또는 하롤-치환 페닐티오에 의해 치환될 수 있고, 또는 B는 C3-C10알케닐; C3-C10할로알케닐; C3-C10알키닐; C3-C10할로알키닐; C3-C8시클로알킬; 할로겐 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 C3-C8시클로알킬; 벤질; 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 벤질; 나프틸; 할로겐 또는 니트로에 의해 치환된 나프틸이며, 또는 B는 -N(R21)R22 기이고; R21은 C1-C4알콕시, C1-C6알콕시-C1-C 4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4할로알킬티오, C1-C4알킬술피닐, C1-C4알킬술포닐, C1-C4알킬술포닐옥시, C1-C4알킬카보닐, C1-C4알콕시카보닐, C1-C 4알킬카보닐옥시, 디(C1-C4알킬)아미노, C3-C8시클로알킬, 아릴, 아릴옥시, 아릴티오, 아릴술포닐, 아릴술피닐, 아릴술포닐옥시, 아릴카보닐 또는 피리딜에 의해 치환된 C1-C10알킬이며, 필요한 경우 아릴 및 피리딜 기는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, 니트로, 시아노, 페녹시, 할로-치환 페녹시, 페닐티오 또는 할로-치환 페닐티오에 의해 치환될 수 있고, 또는 R21은 C3-C20알케닐; C3-C20할로알케닐; C3-C20알키닐; C3-C20할로알키닐, C3-C8시클로알킬; 할로겐 또는 C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, 니트로, 시아노, 벤조일, 할로-치환벤조일, 페녹시 또는 할로-치환 페녹시에 의해 치환될 수 있고; R22는 R21에 대하여 정의한 바와 같거나 또는 C1-C10알킬이며; 또는 R21 및 R22는 이들이 결합된 질소원자와 함꼐 비치환 또는 1- 내지 3치한, 비방향족, 모노- 또는 비시클릭 헤테로시클릭 고리를 형성하고, 여기서 치환체는 C1-C4알킬, 할로겐, C1-C4알콕시, 페닐, 벤조디옥소일 또는 트리플루오로메틸페닐에 의해 치환된 C1-C4알킬; C1-C4알콕시; C1-C4알콕시카보닐; C1-C4알킬카보닐; 페닐; 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 니트로 또는 트리플루오로메틸에 의해 치환된 페닐; 피리딜; 피리미디닐 또는 포르밀, 및 화학식I의 화합물의 염 및 거울상이성질체일 수 있으며, R21 및 R22가 알킬인 조건이라면 이들 라디칼의 하나 이상은 치환 알킬이다.