A method is described for estimating a spectral feature of a pulsed light beam produced by an optical source and directed toward a wafer of a lithography apparatus, The method includes receiving a set of N optical spectra of pulses of the light beam; saving the received N optical spectra to a saved set; transforming the optical spectra in the saved set to form a set of transformed optical spectra; averaging the transformed optical spectra to form an averaged spectrum; and estimating a spectral feature of the pulsed light beam based on the averaged spectrum.
광 소스에 의하여 생성되고 리소그래피 장치의 웨이퍼로 지향되는 펄스형 광 빔의 스펙트럼 특징을 추정하는 방법이 기술된다. 이러한 방법은, 상기 광 빔의 펄스의 N 개의 광 스펙트럼의 세트를 수신하는 단계; 수신된 N 개의 광 스펙트럼을 저장된 세트에 저장하는 단계; 변환된 광 스펙트럼의 세트를 형성하도록, 상기 저장된 세트 내의 광 스펙트럼을 변환하는 단계; 평균화된 스펙트럼을 형성하도록, 변환된 광 스펙트럼을 평균화하는 단계; 및 상기 평균화된 스펙트럼에 기초하여 상기 펄스형 광 빔의 스펙트럼 특징을 추정하는 단계를 포함한다.