The inventive chemical-mechanical polishing composition comprises an abrasive, a nitride accelerator, and water, and has a pH of about 1 to about 6. The inventive method of polishing a substrate involves the use of the aforesaid polishing composition and is particularly useful in polishing a substrate containing silicon nitride. 
창의적인 화학-기계 광택 구성은 연마재, 질화물 가속기 및 물로 구성되며 pH는 약 1에서 약 6이다. 기질을 연마하는 창의적인 방법은 앞서 언급한 연마 구성의 사용을 수반하며 질화 규소를 함유한 기질을 연마하는 데 특히 유용하다.