A composition for forming a lower layer film comprises a polymer(A) having a naphthalene derivative structural unit shown by the following formula (1),  wherein R1 represents a hydroxyl group and the like, X represents a substitutable alkylene group having 1 to 20 carbon atoms and the like, n represents 0 to 6, m represents 1 to 8, and n + m represents an integer from 1 to 8, provided that two or more R1s may be the same or different and two or more Xs may be the same or different.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 나프탈렌 유도체 구조 단위를 갖는 중합체 (A)를 함유하는 하층막 형성용 조성물이다. <화학식 1>  (식 중, R1은 수산기 등, X는 탄소수 1 내지 20의 치환 가능한 알킬렌기 등을 나타낸다. n은 0 내지 6, m은 1 내지 8이고, n+m은 1 내지 8의 정수이며, 복수개의 R1 및 X는 동일하거나 상이할 수 있다)