A method comprising: evaluating a plurality of polarization characteristics associated with measurement of a metrology target of a substrate processed using a patterning process, against one or more measurement quality parameters; and selecting one or more polarization characteristics from the plurality of polarization characteristics based on one or more of the measurement quality parameters. 
하나 이상의 측정 품질 파라미터에 대하여, 패터닝 프로세스를 사용하여 처리된 기판의 계측 타겟의 측정과 연관된 복수 개의 편광 특성을 평가하는 단계; 및 상기 측정 품질 파라미터 중 하나 이상에 기반하여, 상기 복수 개의 편광 특성 중에서 하나 이상의 편광 특성을 선택하는 단계를 포함하는, 방법.