To provide a polishing liquid composition that can reduce scratches on a substrate surface after polishing, while ensuring a polishing rate. One embodiment of the present disclosure relates to a polishing liquid composition containing an abrasive (component A), a urethane softening agent with a weight average molecular weight of 5000 or less (component B), an acid (component C), and an aqueous medium.  
일 양태에 있어서 연마 속도를 확보하면서, 연마 후의 기판 표면의 스크래치를 감소시킬 수 있는 연마액 조성물의 제공. 본 개시는 일 양태에 있어서 연마재(성분 A), 중량 평균 분자량이 5000 이하인 우레탄 연질화제(성분 B), 산(성분 C) 및 수계 매체를 함유하는 연마액 조성물에 관한다.