The invention relates to a detergent composition for removing metal residues and a method for manufacturing a semiconductor element using the same. According to the present invention, it is possible to provide a highly reliable semiconductor element using a very economical method by providing excellent cleaning power not only for metal residues, but also for contaminants on the surface of an object to be washed, without causing damage to the object to be washed, and by improving the yield of subsequent steps.
본 발명은 금속 잔사 제거용 세정제 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 금속 잔사는 물론 세정 대상의 표면 오염물에 대하여 우수한 세정력을 제공할 수 있고 동시에 세정 대상에 대한 손상을 야기하지 않아 후속되는 공정수율을 향상시킴으로써, 매우 경제적인 방법으로 신뢰성 높은 반도체소자를 제공할 수 있다.