Alkaline post CMP cleaning solutions are provided including at least two basic compounds that can be organic amines and/or quaternary ammonium hydroxides, at least one organic acid compound, and an inhibitor compound that inhibits corrosion of materials. The inhibitor compound is preferably a mercaptan compound. In one embodiment, a cleaning solution includes at least two organic amines but is substantially free of quaternary ammonium hydroxides. The cleaning solutions preferably have a pH ranging from about 7 to about 12.
유기 아민 및/또는 4급 암모늄 히드록시드일 수 있는 2종 이상의 염기 화합물, 1종 이상의 유기산 화합물, 및 물질의 부식을 억제하는 억제제 화합물을 포함하는 CMP 후 알칼리 세정 용액을 제공한다. 억제제 화합물은 바람직하게는 메르캅탄 화합물이다. 일 실시양태에서, 세정 용액은 2종 이상의 유기 아민을 포함하며, 4급 암모늄 히드록시드를 실질적으로 함유하지 않는다. 세정 용액은 바람직하게는 pH가 약 7 내지 약 12 범위이다.