To provide a drawing device advantageous in the aspect of overlay accuracy. The drawing device includes a charged-particle optical system emitting a plurality of charged-particle beams for a substrate, and a control unit for controlling operation of the charged-particle optical system. The control unit controls the operation so as to compensate for distortion of a pattern determined by the data of inclination of each charged-particle beam for the axis of the charged-particle optical system, and the data of undulation on the surface of the substrate.
중첩 정밀도의 점에서 유리한 그리기 장치를 제공한다.그리기 장치는 복수의 하전 입자선을 기판에 대해서 사출하는 하전 입자 광학계와 상기 하전 입자 광학계의 동작을 제어하는 제어부를 구비한다. 상기 제어부는 상기 하전 입자 광학계의 축에 대한 각 하전 입자선의 경사 데이터와 상기 기판의 표면 기복 데이터에 의해 정해지는 상기 패턴의 변형을 보상하도록 상기 동작을 제어한다.