In a second direction (y direction) substantially orthogonal to a first direction (x direction), a distance between a light transmission region formed on a mask and an optical axis Ax is A times as long as a distance between an exposure pattern formed on a substrate W by light that passed through the light transmission region (A is a number that is equal to or greater than 1).
본래 노광 패턴이 형성되어야 할 위치와 실제로 노광되는 노광 패턴의 위치를 일치시킬 수가 있다. 제1 방향(x방향)과 대략 직교하는 제2 방향(y방향)에 있어서, 마스크(32)에 형성된 광투과 영역(32a)과 광축 Ax와의 거리는, 광투과 영역(32a)를 통과한 광에 의해 기판 W에 형성되는 노광 패턴과 광축 Ax와의 거리의 A(A는 1이상의 수)배이다.