Multi-beam scanning electron microscope (SEM) inspection systems with dark field imaging capabilities are disclosed. An SEM inspection system may include an electron source and at least one optical device. The at least one optical device may be configured to produce a plurality of primary beamlets utilizing electrons provided by the electron source and deliver the plurality of primary beamlets toward a target. The apparatus may also include an array of detectors configured to receive a plurality of image beamlets emitted by the target in response to the plurality of primary beamlets and produce at least one dark field image of the target.
암시야 이미징 능력이 있는 멀티빔 주사 전자 현미경(SEM) 검사 시스템이 개시된다. SEM 검사 시스템은 전자 소스와 적어도 하나의 광학 장치를 포함할 수 있다. 상기 적어도 하나의 광학 장치는, 전자 소스에 의해 제공된 전자들을 이용하여 복수의 1차 빔릿을 생성하고, 상기 복수의 1차 빔릿을 타겟 쪽으로 전달하도록 구성될 수 있다. 장치는 또한, 상기 복수의 1차 빔릿에 응답하여 타겟에 의해 방출된 복수의 이미지 빔릿을 수신하고, 타겟의 적어도 하나의 암시야 이미지를 생성하도록 구성된 검출기들의 어레이를 포함할 수 있다.