[Problem] The purpose of the present invention is to provide an invisible etching ink which exhibits excellent dryability and washability during inactivation of a conductive polymer film, and a methodfor patterning a conductive polymer using the invisible etching ink. [Solution] The invisible etching ink for a conductive polymer contains (A) an etching agent for the conductive polymer, (B) inorganic particles, (C) polyacrylic acid or a salt thereof, and (D) an aqueous medium, and has a pH adjusted to 3-7.
본 발명은 도전성 고분자막을 불활성화할 때에, 건조성 및 세정성이 우수한 인비저블 에칭 잉크를 제공하는 것 및 해당 인비저블 에칭 잉크를 사용한 도전성 고분자의 패터닝 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 도전성 고분자용 에칭제 (A), 무기 입자 (B), 폴리아크릴산 또는 그의 염 (C) 및 수계 매체 (D)를 포함하고, pH가 3 내지 7로 조정된 도전성 고분자용 인비저블 에칭 잉크에 의해 상기 과제를 해결할 수 있다.