A tungsten-containing mesoporous silica thin film, which is a mesoporous silica thin film formed from a solution containing a silica precursor and a water-soluble tungsten compound, and has a molar ratio (W/Si) of tungsten content to silicon content of 0.001 to 0.04, a film thickness of 0.1 to 5 μm, and an average pore diameter of 20 nm or less.
본 발명은 실리카 전구체 및 수용성 텅스텐 화합물을 포함하는 용액으로 형성되는 메소포러스 실리카 박막이며, 규소 함유량에 대한 텅스텐 함유량의 몰비(W/Si)가 0.001 내지 0.04이고, 막 두께가 0.1 내지 5 μm이고, 평균 세공 직경이 20 nm 이하인 텅스텐 함유 메소포러스 실리카 박막을 제공한다.