A method for determining one or more optimized values of an operational parameter of a sensor system configured for measuring a property of a substrate is disclosed the method comprising: determininga quality parameter for a plurality of substrates; determining measurement parameters for the plurality of substrates obtained using the sensor system for a plurality of values of the operational parameter; comparing a substrate to substrate variation of the quality parameter and a substrate to substrate variation of a mapping of the measurement parameters; and determining the one or more optimized values of the operational parameter based on the comparing.
기판의 특성을 측정하도록 구성된 센서 시스템의 동작 파라미터의 하나 이상의 최적화된 값을 결정하기 위한 방법이 개시되며, 이러한 방법은: 복수의 기판에 대한 품질 파라미터를 결정하는 단계; 동작 파라미터의 복수의 값에 대해, 센서 시스템을 사용하여 획득된 복수의 기판에 대한 측정 파라미터를 결정하는 단계; 품질 파라미터의 기판-대-기판 변동과 측정 파라미터의 맵핑의 기판-대-기판 변동을 비교하는 단계; 및 비교에 기초하여 동작 파라미터의 하나 이상의 최적화된 값을 결정하는 단계를 포함한다.