A polishing pad is provided herein, which may include a plurality of soluble fibers having a diameter in the range of about 5 to 80 micrometers, and an insoluble component. The pad may also pad include a first surface having a plurality of micro-grooves, wherein the soluble fibers form the micro-grooves in the pad. The micro-grooves may have a width and/or depth up to about 150 micrometers. In addition, a method of forming the polishing pad and a method of polishing a surface with the polishing pad is disclosed.
 직경이 약 5 내지 80 마이크로미터 범위인 복수의 가용성 섬유, 및 불용해성 성분을 포함할 수 있는 연마 패드가 본원에 제공된다. 가용성 섬유가 패드 내의 미세 홈들을 형성하는 상기 패드는, 복수의 미세 홈들이 있는 제1 표면을 또한 포함할 수 있다. 미세 홈들의 폭 및/또는 깊이는 약 150 마이크로미터 이하일 수 있다. 또한, 연마 패드를 형성하는 방법, 및 연마 패드로 표면을 연마하는 방법을 개시한다. 