An optical sensor apparatus for use in an extreme ultraviolet lithographic system is disclosed. The apparatus includes an optical sensor comprising a sensor surface and a removal mechanism configured to remove debris from the sensor surface. Accordingly, dose and/or contamination measurements may be carried out conveniently for the lithographic system.
극자외 리소그래피 시스템에 사용하기 위한 광학 센서 장치(1)가 개시된다. 상기 장치는 센서 표면(3)을 포함하는 광학 센서 및 상기 센서 표면으로부터 데브리(6)를 제거하도록 구성된 제거 기구(5)를 포함한다. 이에 따라, 도즈 및/또는 오염 측정들이 리소그래피 시스템에 대해 편리하게 수행될 수 있다.