The subject matter of the invention is a method for cleaning production spaces for the production of polycrystalline silicon, which spaces contain a number of CVD reactors, cleaning taking place at least once within two weeks. In order to carry out the cleaning, an aqueous cleaning liquid is used, outer casings of the CVD reactors, pipelines and floors of the production spaces being cleaned.
본 발명의 요지는 복수의 CVD 반응기를 함유하는 다결정질 실리콘의 제조를 위한 생산 공간을 세척하는 방법으로서, 세척이 2주 이내에 1회 이상 일어나는 방법이다. 세척을 수행하기 위하여, 수성 세척액이 사용되고, CVD 반응기의 외부 케이싱, 파이프라인 및 생산 공간의 플로어가 세척되는 것이다.