A transfer chamber of a semiconductor processing tool is adapted to couple to plural process and/or load lock chambers. A reduced number of substrate sensors are provided in the transfer chamber to confirm the presence and/or positioning of substrates with respect to the process and/or load lock chambers. In one embodiment, each process and/or load lock chamber may share sensors with adjacent chambers and with chambers that are not adjacent.
반도체 처리 장비의 전달 챔버는 다수의 처리 및/또는 로드락 챔버에 결합된다. 감소된 수의 기판 센서는 처리 및/또는 로드락 챔버에 대해 기판의 존재 및/또는 위치설정을 확인하기 위해 전달 챔버에 제공된다. 일 실시예에서, 각각의 처리 및/또는 로드락 챔버는 인접한 챔버 및 인접하지 않은 챔버와 센서를 공유할 수 있다.