[Problem] To provide a composition, and a method for forming a pattern using the same, with which it is possible to improve the surface roughness of a resist pattern. [Solution] Provided are: a composition containing a specific nitrogen-containing compound, an anionic surfactant including a sulfo group, and water; and a method for forming a pattern that includes a step applicable to a resist pattern in which the composition has been developed and then dried.
[과제] 레지스트 패턴의 표면 거칠기를 개량할 수 있는 조성물과 이를 사용한 패턴 형성 방법의 제공. [해결 수단] 특정의 함질소 화합물과, 설포기를 포함하는 음이온성 계면 활성제와, 물을 포함하는 조성물과, 이를 현상 후의 건조된 레지스트 패턴에 적용하는 공정을 포함하는 패턴 형성 방법.