Embodiments of an apparatus for supplying vaporized reactants to a reaction chamber are described herein. In some embodiments, a showerhead assembly for depositing multiple materials on a substrate includes a plurality of gas delivery portions, each gas delivery portion having an inlet, a wedge shaped body that defines a plenum, and a plurality of openings disposed on a bottom surface of the gas delivery portion, wherein each of the plenums are fluidly isolated from each other.
기화된 반응물들을 반응 챔버에 공급하기 위한 장치의 실시예들이 본원에서 설명된다. 일부 실시예들에서, 기판 상에 다수의 재료들을 증착하기 위한 샤워헤드 조립체는 복수의 가스 전달 부분들을 포함하고, 각각의 가스 전달 부분은 입구, 플레넘을 정의하는 웨지 형상 바디 및 가스 전달 부분의 최하부 표면 상에 배치된 복수의 개구들을 가지며, 플레넘들 각각은 서로 유체적으로 격리된다.