A polishing composition contains abrasive grains, a surface adsorptive agent, and water, and is used for polishing an object formed of a crystalline metallic compound. The polishing composition reduces defects on a polished surface of the object compared to a composition obtained by excluding the surface adsorptive agent from the polishing composition.
연마 조성물은 연마 입자, 표면 흡착제 및 물을 함유하며, 결정질 금속 화합물로 형성된 물체를 연마하는데 사용된다. 연마 조성물은 연마 조성물로부터 표면 흡착제를 배제함으로써 얻어지는 조성물과 비교하여 물체의 연마 된 표면상의 결함을 감소시킨다.