A polishing pad of excellent durability has a polishing layer is arranged on a base material layer, and the polishing layer comprises a thermosetting polyurethane foam having roughly spherical interconnected cells with an average cell diameter of 35 to 300 μm.
본 발명은 내구성이 우수한 연마 패드를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 연마 패드는, 기재층 상에 연마층이 설치되어 있고, 상기 기재층은, 평균 기포 직경 35∼300 ㎛의 실질적으로 연속 기포를 포함하는 열경화성 폴리우레탄 발포체로 이루어지는 것을 특징으로 한다. 