An exposure apparatus EX is provided with a measuring unit 60 which measures at least one of property and components of a liquid LQ in a state that a liquid immersion area LR is formed on an object different from a substrate P to be exposed. There is provided an exposure apparatus which can accurately perform exposure process and measurement process through the liquid by judging the state of the liquid in advance and by performing a procedure as appropriate.
노광 장치(EX)는 노광 대상의 기판(P)과 다른 물체 상에 액침 영역(LR)을 형성한 상태에서 액체(LQ)의 성질 및 성분 중 적어도 한쪽을 계측하는 계측 장치(60)를 포함하고 있다. 액체의 상태를 미리 판단하고, 적절하게 처리를 실시함으로써, 액체를 통한 노광 처리 및 계측 처리를 정밀도 좋게 행할 수 있는 노광 장치를 제공한다.