A plasma electron flood system, comprising a housing configured to contain a gas, and comprising an elongated extraction slit, and a cathode and a plurality of anodes residing therein and wherein the elongated extraction slit is in direct communication with an ion implanter, wherein the cathode emits electrons that are drawn to the plurality of anodes through a potential difference therebetween, wherein the electrons are released through the elongated extraction slit as an electron band for use in neutralizing a ribbon ion beam traveling within the ion implanter.
플라즈마 전자 플러드 시스템으로서, 가스를 포함하도록 구성된 방출 챔버를 구비하는 하우징으로서, 내부에 세장형 추출 슬릿, 음극 필라멘트, 음극 조립체 및 다수의 양극을 포함하는 하우징을 포함하며, 상기 세장형 추출 슬릿은 이온 주입 시스템과 직접적으로 소통하며, 상기 음극 필라멘트는 전위차에 의해서 다수의 양극으로 끌어 당겨지는 전자들을 방출하며, 방출된 전자들의 일부는 세장형 추출 슬릿을 통해서 이온 주입 시스템 내에서 이동하는 이온 비임을 중성화하는데 이용하기 위한 전자 밴드로서 배출된다.