A method for the modification of a surface of a silver electrode wherein the surface is treated with a chlorine plasma is described. Control of the power, flux density and timing provide the manner to modify the silver surface, and so implant the chlorine atoms and ions into the silver. The present invention provides a method to produce thin-film silver electrodes with a very controlled surface. Such electrodes can provide quantitative quality of measurement. The present invention extends to a method for the modification of a surface of any metal wherein the surface is treated with a plasma.
본 발명은 은 전극의 표면 개선 방법에 관한 것이며, 여기서 표면은 염소 플라즈마로 처리된다. 전력, 유속 밀도 및 시간의 제어로 은 표면을 개선하는 방법을 제공하여, 염소 원자 및 이온을 은에 주입시킨다. 본 발명은 제어된 표면에 박막 은 전극을 형성하는 방법을 제공한다. 이러한 전극은 정량화된 품질 측정치를 제공할 수 있다. 본 발명은 또한 소정 금속의 표면을 개선시키는 방법에 관한 것이며, 상기 표면은 플라즈마로 처리된다.