A process for optically reducing charge build-up in an integrated circuit includes exposing the integrated circuit or portions thereof to a broadband radiation source. The process effectively reduces charge buildup that occurs in the manufacture of integrated circuits.
집적 회로 내의 전하 축적을 광학적으로 감소시키는 공정은 상기 집적 회로 또는 일부분을 광대역 방사원에 노출시키는 단계를 포함한다. 이 공정은 집적 회로의 제조시 발생되는 전하 축적을 효율적으로 감소시킨다.