A slurry comprises abrasive grains, a glycol, and water, wherein an average particle diameter of the abrasive grains is 120 nm or smaller, and a pH is 4.0 or higher and lower than 8.0. A polishing method comprises a step of polishing a metal by use of the slurry.
연마 입자와, 글리콜과, 물을 함유하고, 연마 입자의 평균 입경(粒徑)이 120nm 이하이며, pH가 4.0 이상 8.0 미만인, 슬러리. 상기 슬러리를 사용하여 금속을 연마하는 공정을 포함하는, 연마 방법.