SOKUDO Co., Ltd, de lithografielaag/ontwikkelt spoor, procesapparatuur, gemeenschappelijke ondernemingsbedrijf, en CEA-Leti kondigde vandaag aan dat SOKUDO van de nieuwe industrie/het onderzoek lid zal worden multi-partner programma VERONDERSTELT dat maskless lithografie voor de productie van IC ontwikkelt.
Het driejarige project wordt geleid door CEA-Leti, het belangrijke Franse onderzoekinstituut van halfgeleider, en omvat halfgeleiders ook fabrikanten TSMC en STMicroelectronics. Het evalueert een maskless lithografieinfrastructuur en het gebruik van MAPPER de hulpmiddelen van de Lithografie voor hoge productie. Veelvoudige behandelt het e-straal-lithografie programma een globale benadering van de technologie, met inbegrip van hulpmiddelbeoordeling, het vormen en procesintegratie, gegevens behandeling, prototyping en kostenanalyse.
De "e-Straal heeft het potentieel een haalbare technologie voor vele sub-22nm lagen van het lithografieproces in logica/gieterijhalfgeleider productie," bovengenoemde voorzitter Suhara, SOKUDO van Tadahiro en CEO te zijn. "SOKUDO kiest een uitvoerige benadering van wordt voorbereidingen getroffen want de laag/de bereidheid van het spoorproces in veelvoudige sub-22nm lithografietechnologieën, met inbegrip van de lithografieuitbreidingen van onderdompelingsArF, EUV en e-straal lithografie ontwikkelt. CEA-Leti VERONDERSTELT de samenwerking een geconcentreerde inspanning samenbrengt om productie-waardige e-straal lithografie toe te laten, omvattend veelvoud verzet me fabrikanten tegen sleutel aan sub-22nm procesontwikkeling."
"Wij hebben met RF3 van SOKUDO laag-en-ontwikkelen spoorsysteem vele jaren gewerkt en het IMAGINE programma zal van de sterke kennis en de steun van SOKUDO in het ontwikkelen van de noodzakelijke processen om maskless technologie te steunen," bovengenoemde Serge Tedesco, CEA-Leti programmamanager profiteren. De "ervaring van CEA-Leti in e-straal technologie die met SOKUDO wordt gecombineerd laag-en-ontwikkelt spoordeskundigheid zal helpen de noodzakelijke procesinfrastructuur voor multi e-straal lithografie beveiligen."
MAPPER B.V. van de Lithografie, dat in Delft, Nederland wordt gebaseerd, maakt maskless-lithografiemachines voor de halfgeleiderindustrie. Het steunt het IMAGINE project met zijn massaal parallelle elektron-straal platforms.
Bron: http://www.leti.fr/