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1.石英坩埚可在1650度以下使用,分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅,是发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今,世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。它具有高纯度、耐温性强、尺寸大、精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。2、不能和HF接触,高温时,极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐反应。3.石英坩埚适于用K2S2O7,KHSO4作熔剂熔融样品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔剂处理样品。4.石英质脆,易破,使用时要注意。5.除HF外,普通稀无机酸可用作清洗液。主要成分:氧化铝(45-55%)、二氧化硅1.可耐热1200度左右使用2.适用于K2S2O7等酸性物质熔融样品。3.一般不能用于以NaOH、Na2O2、Na2CO3等碱性物质作熔剂熔融,以免腐蚀瓷坩埚。