Deep X-ray lithography (DXRL) uses yet shorter wavelengths on the order of 0.1 nm and modified procedures such as the LIGA process, to fabricate deep and even three-dimensional structures.
Die sogenannte deep X-ray lithography (DXRL) nutzt hingegen kürzere Wellenlängen in der Größenordnung von 0,1 nm und abgeänderte Verfahrensweisen wie das LIGA-Verfahren, um tiefe oder gar dreidimensionale Strukturen herzustellen.