WF6 is favored over related compounds, such as WCl6 or WBr6, because of its higher vapor pressure resulting in higher deposition rates.
Die Verwendung von WF6 ist gegenüber seinen verwandten Verbindungen (wie WCl6 oder WBr6) günstiger, aufgrund seines höheren Dampfdrucks führt es zu höheren Abscheidungsraten.