Since the late 1980s, in usages such as 32 nm and 22 nm, it has also been used to describe typical feature sizes in successive generations of the ITRS Roadmap for miniaturization in the semiconductor industry.
Од крајот на 1980-ите, се користи во 32 nm и 22 nm, и се користи за да се опишат вообичаените големини цо последователните генерации од ITRS за минитуризацијата во полуспроводничката индустрија.