The polysilicon, diffusion, and n-well are referred to as "base layers" and are actually inserted into trenches of the P-type substrate.
पॉलीसिलिकॉन, विसरण (diffusion) और n-well को "बुनियादी परतें (Basic Layers)" कहा जाता है और इन्हें वास्तव में P-प्रकार के अधःस्तर के खन्दकों (trenches) में प्रविष्ट किया जाता है।