Получение Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> покрытий реакционным термическим испарением в плазме сильноточного разряда с полым анодом
Исследованы условия нанесения Al2O3 покрытий в сильноточном разряде с испаряющимся анодом-тиглем и дополнительным полым анодом системы ионизации. Методами зондовой диагностики и оптической спектроскопии показано, что использование дополнительного полого анода обеспечивает увеличение плотности ионного тока на поверхности покрытий в ~2 раза и повышение концентрации атомарного кислорода в 1.6–2.6 раза. Методом реакционного анодного испарения получены нанокристаллические Al2O3 покрытия и определен диапазон рабочих параметров, в пределах которого при температуре 600°С формируется фаза α-Al2O3.