Сравнение плазмообразования на поверхности медных проводников с титановым или циркониевым внешним слоем в магнитных полях 300-400 Тл
На сильноточном генераторе МИГ ( I max ≈ 2.5 MA, τ ≈ 100 нс) проведены эксперименты по скиновому электрическому взрыву цилиндрических медных проводников, покрытых напыленным слоем титана и циркония при пиковой индукции магнитного поля до 400 Тл. Плазмообразование на поверхности двухслойного проводника с внешним титановым или циркониевым слоем толщиной ~50 мкм начинается, по меньшей мере, примерно на 400 нс позже аналогичного процесса на поверхности однородного проводника в полях до 300 Тл. При увеличении поля до 350-400 Тл задержка плазмообразования на поверхности двухслойного проводника в сравнении с однородным уменьшается и составляет около 35 нс. Скорость разлета поверхностной плазмы двухслойного проводника для обоих материалов внешнего слоя приблизительно одинакова и составляет ~ 2.7×105 см/с.