ФОРМИРОВАНИЕ ПОВЕРХНОСТНОГО СЛОЯ МЕТОДОМ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ КОБАЛЬТА И МОЛИБДЕНА НА ГРАФИТ
В статье рассматривается элементный состав покрытия, распределение элементов в покрытии и их химические связи при формировании структуры покрытие - подложка в системах Мо - графит и Со - графит, создаваемых нанесением многокомпонентного, металлического (Мо, Со) покрытия в условиях ассистирования ионами Мо+ и Со+ соответственно. Анализ выполнен с применением методов резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. В покрытии, кроме осаждаемого металла, содержатся высокие концентрации кислорода и углерода, а также кремний в результате встречной диффузии из подложки в покрытие. Результаты анализа спектров рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии показали, что в системе Мо - графит молибден находится как в виде металлического Мо, так и виде оксида МоО2. Толщина покрытия увеличивается с уменьшением ускоряющего напряжения для ассистирующих ионов Со+, Мо+ от 20 до 7 кВ и зависит как от отношения плотности потока ионов J к плотности потока нанесенных атомов Ja (J / Ja), так и типа осаждаемого на графит металла. Установлено, что оптимальное отношение J / Ja, при котором достигается наибольшая толщина Со-покрытий, составляет 0,01, а для Мо-покрытия - 0,18. Рассчитанные скорости осаждения покрытий составляли от 0,3 до 0,9 нм/мин для системы Со - графит и от 0,2 до 0,4 нм /мин для систем Мо - графит.