Моделирование процессов, инициированных лазерной плазмой в поверхностных слояхмногокомпонентного аморфно-нанокристаллического сплава
Методом компьютерного моделирования изучены особенности нагрева и охлаждения образцов тонких пленок, подвергнутых облучению серией лазерных импульсов. Определена толщина поверхностного слоя, упрочненного за счет протекания процессов релаксации механических напряжений, рекристаллизации и пластической деформации. Продемонстрировано избирательное воздействие лазерной плазмы на области материала с дефектами, играющими роль концентраторов механических напряжений. Показано, что в тонких пленках глубина модифицированного слоя может достигать 20-25% от общей толщины образца. Проведено сравнение расчетных данных с резуль- татами экспериментального исследования влияния импульсного лазерного облучения на свойства образцов тонкой ленты из аморфно-нанокристаллического сплава Co71,66B4,73Fe3,38Cr3,14Si17,09.