ВЛИЯНИЕ МАГНИТНОГО ПОЛЯ НА ГАЛЬВАНОМАГНИТНЫЕ КОЭФФИЦИЕНТЫ ПЛЕНОК ВИСМУТА, ЛЕГИРОВАННОГО ТЕЛЛУРОМ
В работе проведено исследование влияния величины индукции магнитного поля на гальваномагнитные коэффициенты тонких пленок висмута, легированного теллуром в диапазоне концентраций 0,005-0,150 ат.% Те и толщин 0,10-0,65 мкм. Величина индукции магнитного поля изменялась от 0 до 0,65 Тл. Температурный интервал, в котором проводились исследования составлял 77 - 300 К. Все пленки были получены методом дискретного термического напыления в высоком вакууме 1,5‧10-5 мм.рт.ст. Измерение толщины исследуемых плёнок осуществлялось интерференционными методами и контролировалось методами атомно-силовой микроскопии. Исследование гальваномагнитных явлений в пленках висмута, легированного теллуром, проводилось на специальной автоматизированной измерительной установке для исследования свойств тонкоплёночных образцов классическими методами: измерения проводились при постоянной температуре, постоянном магнитном поле. Было установлено, что увеличение концентрации легирующей примеси теллура от 0,005 ат.% до 0,150 ат.% в пленках висмута в исследуемом интервале температур приводит к увеличению области слабого магнитного поля вплоть до 0,65 Тл. Наблюдалось существенное проявление классического размерного эффекта, действие которого ослабевает при увеличении степени легирования пленок.