Кинетика роста анодных оксидных слоев на силицидах кобальта в растворах серной кислоты
Целью данной работы являлось изучение кинетики роста анодных оксидных пленок на силицидах кобальта в растворах серной кислоты в потенциостатических условиях при различной предобработке поверхности электродов. Исследование проведено на силицидах с низким и высоким содержанием кремния (Co2Si и CoSi2) в 0.05 и 0.5 М H2SO4. Получены хроноамперограммы в интервале времени t = 0.3-3000 с при потенциалах формирования оксида Ef = 0.2, 0.5 и 1.0 В (с.в.э.). Установлено, что кинетика роста оксидных слоев на силицидах кобальта в кислых растворах заметно зависит от способа предобработки поверхности силицида (механическая полировка; предварительная катодная поляризация в растворе H2SO4; выдержка при потенциале разомкнутой цепи в растворе H2SO4; выдержка в растворе 2 М КОН; выдержка в растворе 2 % HF). В большинстве случаев при небольших t (до 30-50 с) рост оксидной пленки происходит по механизму миграции ионов в сильном электрическом поле, создаваемом в пленке при анодной поляризации. В некоторых случаях (силицид Co2Si с более высоким содержанием кобальта; предобработка Co2Si в щелочном растворе, еще более обогащающая поверхность силицида кобальтом; область больших t) полученные результаты указывают на выполнение модели точечных дефектов.