面発光レーザアレイ１００は，４列×１０行の２次元に配置された面発光レーザ素子１～４０からなるため，最外周に配置された面発光レーザ素子は，２４個であり，最外周に配置された面発光レーザ素子の間は，２４箇所，存在する。また，内周側に配置される面発光レーザ素子の数は，１６個である。したがって，内周側に配置された面発光レーザ素子に接続された配線４６，４７，５０，５１，５４，５５，５８，５９，６２，６３，６６，６７，７０，７１，７４，７５の各々は，最外周に位置する面発光レーザ素子の間を通過してパッドまで配置される。すなわち，最外周に位置する面発光レーザ素子の間を通過する配線の本数を１本または０本に設定できる。その結果，面発光レーザ素子１～４０の配置密度を高くして面発光レーザアレイ１００のサイズを小さくできる。
・・・・・・
【００９７】
［実施の形態４］
図８は，実施の形態４による面発光レーザアレイの概略平面図である。図８を参照して，実施の形態４による面発光レーザアレイ４００は，面発光レーザ素子４０１～４４０と，配線４４１～４８０と，パッド４８１～５２０と，基板５３０とを備える。なお，図８に示す点線は，面発光レーザ素子４０１～４４０のうち，最外周に配置された面発光レーザ素子を結んだ線を示す。
【００９８】
４個の面発光レーザ素子４０１～４０４／４０５～４０８／４０９～４１２／４１３～４１６／４１７～４２０／４２１～４２４／４２５～４２８／４２９～４３２／４３３～４３６／４３７～４４０は，直線状に配置される。
【００９９】
また，１０個の面発光レーザ素子４０１，４０５，４０９，４１３，４１７，４２１，４２５，４２９，４３３，４３７／４０２，４０６，４１０，４１４，４１８，４２２，４２６，４３０，４３４，４３８／４０３，４０７，４１１，４１５，４１９，４２３，４２７，４３１，４３５，４３９／４０４，４０８，４１２，４１６，４２０，４２４，４２８，４３２，４３６，４４０は，ジグザグ状に配置される。その結果，４０個の面発光レーザ素子４０１～４４０から放射された４０個のレーザ光は，相互に重なることがない。
・・・・・・
【０１０９】
面発光レーザアレイ４００においては，最外周に位置する面発光レーザ素子の個数は，２４個であり，内周側に位置する面発光レーザ素子の個数は，１８個である。したがって，面発光レーザアレイ４００は，式（１）を満たし，最外周に位置する面発光レーザ素子の間を通過する配線の本数を１本または０本に設定できる。その結果，面発光レーザ素子４０１～４４０の配置密度を高くして面発光レーザアレイ４００のサイズを小さくできる。
【０１１０】
実施の形態４による面発光レーザアレイは，図９に示す面発光レーザアレイ４００Ａであってもよい。図９は，実施の形態４による面発光レーザアレイの他の概略平面図である。
【０１１１】
図９を参照して，面発光レーザアレイ４００Ａは，図１に示す面発光レーザアレイ１００の面発光レーザ素子１８，１９，２６，２７，配線５８，５９，６６，６７およびパッド９８，９９，１０６，１０７を削除したものであり，その他は，面発光レーザアレイ１００と同じである。
【０１１２】
面発光レーザアレイ４００Ａは，面発光レーザアレイ１００の内周側に配置された面発光レーザ１８，１９，２６，２７を削除した構成からなる･･･」
【図１】
【図８】
【図９】


(3)引用刊行物の図８におけるメサ間（発光スポット）の間隔についてみるに，上記記載によれば，引用刊行物の図９の面発光レーザアレイ４００Ａは，図１の面発光レーザアレイ１００の面発光レーザ素子１８，１９，２６，２７，配線５８，５９，６６，６７およびパッド９８，９９，１０６，１０７を削除し，その他は，面発光レーザアレイ１００と同じであること（段落【０１１１】），図８の面発光レーザアレイ４００と図９の面発光レーザアレイ４００Ａは，いずれも実施の形態４であること（段落【００９７】，【０１１０】），図１の面発光レーザアレイ１００と図８の面発光レーザアレイ４００は，いずれも４個×１０個の面発光レーザ素子を有していること（段落【００２３】，【００９８】，【００９９】）が認められ，これによれば，図８の面発光レーザアレイ４００は，図１の面発光レーザアレイ１００の面発光レーザ素子をジグザグ配置したものであって，その主走査方向は，図１の面発光レーザアレイ１００及び図９の面発光レーザアレイ４００Ａの主走査方向ＤＲ１と同じ方向，すなわち，図８の面発光レーザ素子４０５，４１３，４２９，４３７の並んでいる方向（タテ方向）であることが認められる。一方，本願発明の面発光レーザ素子は，「副走査方向にｍ行（ｍは２以上の整数），主走査方向にｎ列（ｎは３以上の整数）で２次元状に配列され」ており，面発光レーザ素子の各列は，主走査方向に並んでいるものといえるので，これに即してみると，引用刊行物の図１の面発光レーザアレイ１００において，主走査方向に並んでいる面発光レーザ素子の各列は，「面発光レーザ素子１～４」の単位，「面発光レーザ素子５～８」の単位，「面発光レーザ素子９～１２」の単位，・・・「面発光レーザ素子３７～４０」の単位からなっているといえる。そうすると，引用刊行物の図１の面発光レーザアレイ１００は，上記の各素子列の単位からなるものであり，また，上記のとおり，図８の面発光レーザアレイ４００は，図１の面発光レーザアレイ１００の面発光レーザ素子をジグザグ配置したものであるから，図８の面発光レーザアレイ４００は，素子列４０１，４０５，４０９，・・・４３７からなっているということができ，各素子列は，主走査方向にほぼ等間隔に並んでいる。そして，メサ間（発光スポット）の間隔は，格子列間隔のことを意味するものであるから，各素子列が主走査方向にほぼ等間隔に並んでいる図８の記載からは，「発光スポットが主走査方向に等間隔に並んでいない」とはいえない。
したがって，図８の記載から，引用刊行物に「その発光スポットが主走査方向に等間隔に並んでいない２次元面発光レーザアレイ」が記載されているとはいえない。引用刊行物の図９におけるメサ間（発光スポット）の間隔についてみるに，図１の面発光レーザアレイ１００は，上記の素子列の単位からなるものであり，これに引用刊行物の段落【０１１１】の記載を合わせると，図９の面発光レーザアレイ４００Ａも同様の素子列の単位からなると認めることができる。そうすると，図９の面発光レーザアレイ４００Ａの各素子列も，主走査方向にほぼ等間隔に並んでいる。メサ間（発光スポット）の間隔は，格子列間隔のことを意味するものであるから，各素子列が主走査方向にほぼ等間隔に並んでいる引用刊行物の図９の記載から，「発光スポットが主走査方向に等間隔に並んでいない」とはいえない。したがって，図９の記載からも，引用刊行物に「その発光スポットが主走査方向に等間隔に並んでいない２次元面発光レーザアレイ」が記載されているとはいえない。
(4)以上のとおり，引用刊行物には，「その発光スポットが主走査方向に等間隔に並んでいない２次元面発光レーザアレイ」が記載されているとはいえないから，被告の主張は採用できない。
５乙１及び乙２を根拠とする被告の主張について
被告は，本件出願時点で，「その発光スポットが主走査方向に等間隔に並んでいない２次元レーザアレイ」を記載した刊行物である特開平１０－２９７０１６号公報（乙１）（段落【００２０】）及び特開平１１－６９７１号公報（乙２）（段落【００５６】，図１３）が存在していたのであるから，当業者が上記着想に至ることがなかったとはいえない。」と主張する。
しかし，引用刊行物自体において本願発明の技術的思想が記載されず示唆もないことは前判示のとおりであるから，乙１及び２を根拠にして被告の主張を理由あるとすることはできない。
なお，乙１，乙２の記載についてみるに，乙１におけるメサ（発光スポット）間の間隔については，乙１記載の発光点は副走査方向に異なる位置に配置されること，及び，発光点は副走査方向に対して傾いた方向に１次元的に配置されていてもよいし，あるいは発光点が２次元的に配置されていてもよいことが記載されているものの，発光点の主走査方向の間隔についての記載や示唆はない。したがって，乙１には，「その発光スポットが主走査方向に等間隔に並んでいない２次元レーザアレイ」が記載されているとはいえない。
また，乙２におけるメサ（発光スポット）間の間隔については，乙２の図１３において，発光点は円形に配置されており，本願発明の前提となる構成（「面発光レーザ素子が，副走査方向にｍ行（ｍは２以上の整数），主走査方向にｎ列（ｎは３以上の整数）で２次元状に配列され」るという構成）とは明らかに異なっている。また，乙２には，発光点が副走査方向に不等間隔で配列することは記載されているものの，発光点の主走査方向の間隔については記載も示唆もない。したがって，乙２にも，「その発光スポットが主走査方向に等間隔に並んでいない２次元レーザアレイ」が記載されているとはいえない。
６小括
審決は，当裁判所が前記３(2)の末尾に摘示した説示部分を前提にして，相違点に係る本願発明の構成は容易想到であると判断したが，この判断部分は，引用刊行物の記載の誤認に基づくものであって，相違点に関する審決の判断も誤りである。
第６結論
以上によれば，原告主張の取消事由には理由がある。よって，審決を取り消すこととし，主文のとおり判決する。
知的財産高等裁判所第２部
裁判長裁判官
塩      月      秀      平
裁判官
池      下              朗
裁判官
古      谷      健二    郎


平成２４年１１月２９日判決言渡
平成２４年（ネ）第１００２３号製造販売禁止等請求控訴事件（原審・東京地方裁判所平成２０年（ワ）第１２４０９号）
口頭弁論終結日平成２４年９月１１日
判              決
控訴人        シノバ・ソシエテ・アノニム
訴訟代理人弁護士      橋      口      泰      典同                    達      野      大      輔同                    松      本              慶補佐人   弁理士        高      橋      詔      男同                    佐      伯      義      文同                    渡      邉              隆被控訴   人       株式会   社スギ   ノマシ   ン訴訟代理人弁護士      松      尾      和      子同                    藤      井      輝      明同                    佐      竹      勝      一同                    小      林      正      和訴訟代理人弁理士      弟子    丸              健同                    渡      邊              誠同                    鈴      木      博      子
主                文
１原判決を次のとおり変更する。
２被控訴人は，別紙物件目録記載の各製品を，製造，販売してはならない。
３被控訴人は，前項記載の各製品の販売の申出又は販売のための展示をしてはならない。
４被控訴人は，第２項記載の各製品及びその半製品を廃棄せよ。５被控訴人は，控訴人に対し，４００万円及びこれに対する平成２０年５月２７日から支払済みまで年５分の割合による金員を支払え。６控訴人のその余の請求を棄却する。
７訴訟費用は第１審，第２審を通じて，１０分し，その１を控訴人の，その余を被控訴人の負担とする。
８この判決の第２項ないし５項は仮に執行することができる。９控訴人に対し，本判決に対する上告又は上告受理の申立てのための付加期間を３０日と定める。
事実    及び    理由
第１控訴人の請求
１原判決を取り消す。
２被控訴人は，別紙物件目録記載の各製品を製造，販売してはならない。３被控訴人は，前項記載の各製品の販売の申出又は販売のための展示をしてはならない。
４被控訴人は，第２項記載の各製品及びその半製品を廃棄せよ。５被控訴人は，控訴人に対し，５００万円及びこれに対する平成２０年５月２７日から支払済みまで年５分の割合の金員を支払え。
６訴訟費用は，第１審，第２審を通じて，被控訴人の負担とする。
第２事案の概要
１原判決で用いられた略語は，本判決でもそのまま用いる。原判決を引用した部分において，「原告」は「控訴人」に，「被告」は「被控訴人」に読み替える。また，本判決の「物件目録」，「本件明細書の図面」，「乙Ａ１の図面」は，原判決添付のものと同一である。本判決の別紙１は原判決の別紙３と同一である。２本件特許権を有する控訴人（原告）は，被控訴人（被告）による被告製品の製造及び販売が本件特許権の侵害に当たる旨主張して，被控訴人に対し，特許法１００条１項及び２項に基づき，被告製品の製造，販売等の差止め並びに被告製品及びその半製品の廃棄を求めるとともに，特許権侵害の不法行為に基づく弁護士費用相当額の損害賠償及びこれに対する訴状送達の日の翌日（平成２０年５月２７日）から支払済みまで民法所定の年５分の割合による遅延損害金の支払を求めた。原判決は，控訴人の請求を全部棄却したため，控訴人がこれを不服として控訴した。３争いのない事実等及び争点は，次のとおり改める他は，原判決の「第２    事案の概要」の「２争いのない事実等」及び「３    争点」（原判決２頁２１行目から１３頁６行目まで）に記載のとおりであるからこれを引用する。(1)原判決４頁１３行目末尾に，改行の上，次のとおり挿入する。「これを受けて，特許庁は，同年１２月７日，本件訂正を適法と認めた上で，本件訂正後の請求項１ないし１６に係る発明は，被控訴人の主張する理由及び提出した証拠方法によっては無効とすることはできないとして，「訂正を認める。本件審判の請求は成り立たない。」との審決（以下「第３次審決」という。）をした。被控訴人は，これを不服として，当裁判所に審決取消訴訟（当裁判所平成２４年（行ケ）第１０００７号事件）を提起した。（甲４０，当裁判所に顕著な事実）」(2)原判決１２頁１３行目から１９行目までを次のとおり改める。「被告製品の組立て図は，乙８の１に記載のとおりであり，寸法等の詳細は乙８の２に記載のとおりである。」
第３争点に関する当事者の主張
１争点１（本件各発明の技術的範囲の属否）について次のとおり付加，訂正する他は，原判決の「１争点１(本件各発明の技術的範囲の属否)について」（原判決１３頁９行目から３２頁８行目）記載のとおりであるから，これを引用する。(1)   原判決１８頁７行目末尾に，改行の上，次のとおり挿入し，同８行目冒頭に「③」とあるのを「④」と改める。
「③被告製品と同視できる液体供給空間を用いた可視化実験の結果（甲４５・４６）によっても，被告製品にはせき止め空間がないことが立証されている。」(2)原判決２１頁１１行目末尾に，改行の上，次のとおり挿入し，１２行目冒頭に「(ｳ)」とあるのを「(ｴ)」と改める。
「(ｳ)構成要件エないしカを採用することによりノズル損傷を防いだと認められ
ることについて
ａ本件発明１では，「ノズル壁を損傷しない」との効果に係る構成が，請求項１中に記載されている。被告製品においては，「ノズル壁を損傷しない」との効果に係る構成は，以下のとおり，「せき止め空間のない」等によって実現されているといえる。ｂ   まず，甲３２及び甲３５から，グリーンレーザーを用いる被告製品においても，熱レンズの形成によるノズル損傷の問題があるため熱レンズの形成を抑圧する必要があることが立証されており，被告製品においても，熱レンズの形成を抑圧するための手段が講じられている。


乙１７（被告製品の開発担当者の陳述書）によれば，被告製品では，熱レンズの形成を抑圧するための手段として，「せき止め空間のない」構成，及び，ノズル損傷を招く熱レンズの形成を抑圧するために「レーザービームのフォーカス円錐先端範囲（５６）における液体の流速が，十分に高く（する）」との構成が採用されていることが明らかである。ｃ   本件発明１及び本件訂正発明１は，①液体供給空間がディスク状であること，②液体供給空間は，ノズルの上面と透明な窓との間に形成されること，③供給される液体がノズル入口開口の周りにおいてせき止め空間なく導かれるように，ノズルからの窓の高さを設定すること，④液体供給空間内部において，液体がノズル入口開口に向って周辺から流れるように導かれることとの構成を有する。被告製品も，かかる具体的構成を有している。本件各発明においても，被告製品においても，フォーカス円錐先端範囲における熱レンズの形成を抑圧し，ノズル壁の損傷を防ぐ，という課題を有しており，被告製品においても，そのための手段が講じられている。そして，①ないし④の具体的構成を一体として採用したのは，流体を「せき止め空間のない」ようにし，「レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される」程度に流速が十分に高くするためであり，それ以外に理由はない。上記のような構成を採用する理由が他にないにもかかわらず，かかる構成を一体として採用しているのは，被告製品においても，本件各発明と同様の課題があり，かつ同様の具体的構成により解決しているからである。ｄ以上よりすると，被告製品において「せき止め空間のない」構成が採用され，これにより「フォーカス円錐先端範囲において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される」程度に流速が十分に高く決められたものと認められる。」
(3)原判決２７頁１３行目に「別紙３」とあるのを「別紙１」と改める（別紙１は本判決に添付のとおり。）。
２争点２（本件特許権に基づく権利行使の制限の成否）について次のとおり付加，訂正する他は，原判決の「２争点２(本件特許権に基づく権利行使の制限の成否)について」（原判決３２頁１０行目から４９頁１１行目）記載のとおりであるから，これを引用する。(1)   原判決３４頁５行目末尾に，改行の上，次のとおり挿入する。「本件発明１及び５のノズル壁の「損傷」の基準となるものは存在せず，「損傷」がいかなる程度のことをいうのか記載がない。したがって，発明の詳細な説明は当業者が「レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで」との発明の手段を実施できる程度に明確かつ十分に記載されたものではないから，実施可能要件に違反する。」
(2)原判決３６頁１３行目末尾に，改行の上，次のとおり挿入し，同１４行目冒頭に「(ｵ)」とあるのを「(ｸ)」と改める。
「(ｵ)「ノズル入口開口の周り」という記載は不明瞭であること「ノズル入口開口の周り」を，特許請求の範囲における別の文言である「フォーカス円錐先端範囲」と同じ概念と捉えることは不自然であるし，また，「その近傍」との文言も曖昧であって，不明確である。
(ｶ)ノズル壁の「損傷」の意義が不明確であること本件発明における「損傷」は，本件明細書を参酌しても，「損傷」の基準となるものが存在せず，「損傷」がいかなる程度のことをいうのか不明確である。(ｷ)「周辺から流れるように導かれる」（訂正後請求項）という記載は不明確で
あること
本件訂正の後の請求項１，５の「周辺から流れるように導かれる」という用語の意義は不明確である。」
(3)原判決４６頁１４行目末尾に，改行の上，次のとおり挿入する。「ｄ「ノズル入口開口の周り」，「周辺から流れるように導かれる」についていずれも明確性に欠けるところはない。
「ノズル入口開口の周り」との語は甲２５（Ａ教授作成の平成２２年６月８日付け見解書）から明確であるし，「周辺」とは，「ディスク状液体供給空間の内周壁の近傍」と考えることができるから明確である。
ｅノズル壁の「損傷」について
ノズル壁の「損傷」とは，層流からなるビームガイドとして機能する液体ビームが形成できなくなる程度のノズル壁の損傷を意味するのであるから，ノズル壁の「損傷」との意味は明確である。」
３争点３（訂正による対抗主張の成否）について
次のとおり付加，訂正する他は，原判決の「３争点３(訂正による対抗主張の成否)について」（原判決４９頁１３行目から６１頁９行目）記載のとおりであるから，これを引用する。
原判決５５頁１０行目末尾に，改行の上，次のとおり挿入し，同１１行目冒頭に「ウ」とあるのを「エ」と改める。
「ウ本件各訂正発明の技術的範囲を基礎に侵害の有無を判断すべきこと本件訂正は，第３次審決に対する審決取消訴訟が係属しており，未だ確定していない。もっとも，特許権侵害訴訟係属中に訂正審判請求がされた場合の侵害訴訟における判断については，訂正の目的が明瞭でない記載の釈明である場合には，訂正後の請求項を前提に判断するべきである。訂正の目的が明瞭でない記載の釈明である場合には，訂正前の請求項では技術的範囲に属さないと判断される場合でも，訂正後の請求項では技術的範囲に属すると判断される可能性が指摘されている。本件訂正は，明瞭でない記載の釈明を主たる目的としているから，訂正後の請求項に基づく判断が要求される。」
４争点４（控訴人の損害額）について
原判決６１頁１１行目から２１行目記載のとおりであるから，これを引用する。
第４当裁判所の判断
当裁判所は，控訴人の請求には，主文の限度で理由があると判断する。その理由は，次のとおりである。
１争点１（本件各発明の技術的範囲の属否）について当裁判所は，被告製品又は被告製品を使用する加工方法は，本件発明１，５及び１０の技術的範囲に属すると判断する。その理由は次のとおりである。
(1)本件発明１について
本件発明１を構成要件に分説すると，次のとおりである(アないしキは分説記号である。)。
「ア収束されるレーザービームによる材料加工方法であって，レーザービーム（３）を導く液体ビーム（１２）がノズル（４３）により形成され，加工すべき加
工片（９）へ向けられるものにおいて，
イレーザービームガイドとして作用する液体ビーム（１２）へレーザービーム
（３）を導入するため，
ウレーザービーム（３）がノズル（４３）のビーム通路（２３）の入口開口（３０）の所で収束され，
エ液体供給空間（３５）へ供給される液体が，ノズル入口開口（３０）の周り
においてせき止め空間のないように導かれ，
オそれによりレーザービームのフォーカス円錐先端範囲（５６）における液体
の流速が，十分に高く決められるようにし，


カしたがってフォーカス円錐先端範囲（５６）において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧されることを特徴と
する，
キ材料を加工する方法。」
被告製品を使用する加工方法が本件発明１の構成要件アないしウ及びキを充足することは，原判決の「２争いのない事実等」の(4)ウ（原判決１２頁）のとおりである。そこで，被告製品を使用する加工方法が，本件発明１の構成要件エないしカを充足するか否かについて判断する。
ア本件明細書の記載事項等   (ｱ)本件明細書（甲２）の発明の詳細な説明には，次のとおりの記載がある。ａ「本発明は，特許請求の範囲第１項の上位概念に記載された装置に関する。レーザービームは，種々の方法で工業における材料加工－切断，穴あけ，溶接，マーキング及び材料切除－のために利用される。・・・ほぼこれらすべての方法においてレーザービームは，加工過程に必要な強度を発生するために，例えばレンズのような光学要素によって加工すべき材料上に収束される。この強制的なビーム収束に基づいて，作業は，焦点の場所又はそのすぐ近くの周囲においてしか可能ではない。」
（３頁１２行～１９行）
ｂ「ドイツ連邦共和国特許出願公開第３６４３２８４号明細書によれば，レーザービームにより材料を切断する方法が公知であり，ここではこのレーザービームは，切断すべき材料に向けられた水ビーム内に結合され，かつこの中において案内されている。ビームの供給は，ビームガイド（ファイバ）を介して行なわれ，このビームガイドの一方の端部は，ノズル内において発生される水ビーム内に突出している。水ビームの直径は，ビームガイドのものより大きい。公知の装置は，水ビームの直径が，決してビームガイドのものより小さくてはいけないという欠点を有する。しかし加工場所における大きな強度を維持するために，できるだけ小さなビーム直径が必要である。ビーム直径が小さくなるほど，レーザービーム源のわずかな出力で加工を行なうことができる。」（３頁２０行～２９行），「ドイツ連邦共和国特許出願公開第３６４３２８４号明細書の装置のその他の欠点は，水ビーム内に突出したビームガイド端部によって明らかである。すなわちガイド端部の下に死水領域が生じ，この死水領域は，とりわけ流れ内に妨害を形成し，これら妨害は，水ビームの長さにわたって指数状に増大し，かつ最終的に水ビームの分離水滴を生じる。それ故にこの装置によって，３０ｍｍを越す層状のコンパクトなビーム長さを得ることは不可能である。」（３頁３０行～３５行）
ｃ「この時，ヨーロッパ特許出願公開第０５１５９８３号明細書において，もはやビームガイドを直接含まない水ノズルを構成することによって，前記の欠点を解消することが試みられている。水ビームを形成するノズルの前に，水入口とノズル入口に対して空間を閉じるフォーカスレンズとを有する水空間がある。このフォーカスレンズは，光学系の一部であり，それによりビームガイドから出たビームは，ノズルのノズル通路内に収束することができる。空間は，水ビームのためにその中にある水が，擬似的に静止状態に，すなわち緊張解除した状態にあるように構成されている。この時，水ビーム内に結合されたレーザービームのこの第２の構成変形は，ノズル通路入口の周範囲におけるノズルの壁に管理できない損傷を引起こすことがわかった。」（３頁３６行～４４行）
ｄ「本発明の課題は，液体ビームを形成するノズルをレーザーのビームによって損傷することなく，レーザービームを材料加工のために液体ビーム内に光学的に結合することができる装置を提供することにある。」（３頁４５行～４７行）ｅ「本発明は，フォーカス光学系によってノズルの範囲に収束したレーザービームが，液体における強度の分布に応じてこの液体を多かれ少なかれ強力に加熱することができるという知識に基づいている。異なった温度，空間的温度勾配を有する液体範囲は，空間的に固有の密度分布を有するだけでなく，空間的な屈折率分布も有する。すなわち空間的な温度勾配を有する液体は，光学的にレンズとして反応し，かつ収束したレーザービームのフォーカス円錐内において，通常発散レンズとして反応する。」，「この時，ヨーロッパ特許出願公開第０５１５９８３号明細書の図２に示されたように，ノズル通路内において形成される液体（水）ビーム内へのレーザービーム“製図的に最適な”結合は，残念ながら推測したようには作用しない。すなわちヨーロッパ特許出願公開第０５１５９８３号明細書に示された装置において，ノズル通路入口の上のフォーカス円錐先端の範囲に，熱レンズが生じ，この熱レンズは，ここに示された焦点の場所を上方へずらし，かつ焦点直径を大幅に増加する。それによりフォーカス円錐内のレーザービームの一部は，ノズル壁に，とくにここにおいて利用された液体せき止め空間の方に向いたノズル表面に当たる。この時一方において材料加工のために必要な高い強度によって，この時ノズルの壁が損傷する。」（以上，３頁４８行～４頁１２行）
ｆ「ヨーロッパ特許出願公開第０５１５９８３号明細書により公知の構造において，さらに液体として水を利用し，かつレーザービームとして，１．０６４μｍのＮＤ：ＹＡＧのものを利用することは，不利に作用する。この時，このビームは，ちょうど水中において無視できない吸収を有する。収束したビームのピラミッド先端の上側範囲（フォーカス円錐の先端範囲）における水の範囲は，強度分布（軸線における高い強度及び縁におけるわずかなもの）に相応して加熱され，かつ前に予想された熱レンズが生じ，この熱レンズは，ノズル壁の，とくにノズル入口の範囲におけるノズル表面の損傷を引起こし，かつ結局液体ビームを形成するノズルの破壊を引起こす。」（４頁１３行～２０行），「水の使用だけが，結合効率を悪化するのではなく，ノズル入口前の液体空間の全構造的構成も悪化する。・・・ノズル入口前においてできるだけ液体の静止状態を達成する努力が試みられた。まさしくこの液体静止状態は，熱レンズの構成を可能にし，又は強化する。すなわち（すでにわずかな）吸収によって加熱される液体は，なお強力に加熱されることがなく，それによりレンズ効果を減少するようにするため，できるだけ早く運び去るのではなく，逆に進行する加熱によってなお生じる熱レンズの屈折力の増強が行なわれる。」（４頁２１行～２７行）
ｇ「しかし本発明は，別の方法をとる。ここではすべてのことは，できるだけ熱レンズを生じることがなく，又はその作用を大幅に小さくすることにかけている。」，「本発明において，利用したレーザービームにおいてできるだけ小さな吸収を有する液体が使用され，すなわちＮＤ：ＹＡＧレーザーのビームにおいてシリコンオイルが利用される。」，「さらにノズル装置及びフォーカスユニットを含む加工モジュールの構造的構成は，無視できない小さなビーム吸収の場合にも，熱レンズの効果が，そもそも生じるかぎり，最小に，したがって無視できる程度に維持されるように選択されている。」（以上，４頁２８行～３４行）ｈ「本発明は，次のことを提案する。すなわち加熱時間をそもそもできるだけ短く維持するために，液体が，レーザービームのフォーカス円錐の範囲から，とくにその先端範囲からできるだけ迅速に運び出される。明らかに最善の結果は，わずかな吸収を有するフォーカス円錐における液体の短い滞在時間の際に達成される。」


（４頁３５行～３８行）
ｉ「前記の条件を達成するために，ヨーロッパ特許出願公開第０５１５９８３号明細書において利用された。液体を静止状態に維持するここに普及された液体せき止め空間を有する液体空間は，完全に回避される。ノズルへの液体供給の高さは，流れの渦形成を減少するために，ほぼノズル通路の直径を有し，又はそれよりわずかだけ大きい。」（４頁３９行～４２行），「ノズル入口に対向する壁に，ヨーロッパ特許出願公開第０５１５９８３号明細書におけるようなフォーカスレンズも組込まれず，レーザービームを損失なく伝達する窓が組込まれるだけである。ノズル入口のほぼ真上にあるこの窓だけによって，フォーカス円錐の先端における液体容量をそもそもできるだけ少なく，かつ流速をそもそもできるだけ高く維持することが可能である。」（４頁４３行～４７行）
ｊ「提案された装置は，・・・ノズル通路への入口における支障ない流れが保証されるならば，液体圧力を上昇することができ，かつコンパクトな液体ビーム長さは，とりわけ利用した液体とノズル直径に依存する最大値にまで増加する。例えば水及び１５０μｍのノズル通路直径に対して，８０バールの液体圧力の際に１５０ｍｍの最大のコンパクトなビーム長さが得られる。・・・コンパクトな液体ビーム長さとは，“分離水滴”の始まる前の長さのことである。この分離水滴は，周囲空気及び表面張力によって引起こされる不可避の渦形成に基づいている。」（５頁２８行～３６行）ｋ   「レーザービームの最適な結合は，焦点が，ノズル開口の平面内に置かれたときに達成される。レーザービームを伝達する窓の，ノズル開口の方に向いた下側は，１００μｍのノズル直径の際に２００μｍないし５００μｍの距離のところにあるようにする。それにより熱レンズの形成を助長する液体せき止め空間が避けられる。」（６頁６行～９行）
ｌ「次に本発明による装置の例を図面により詳細に説明する。」（７頁７行），「図１に示された材料加工装置は，ビーム源としてＮＤ：ＹＡＧレーザー１を有し，このレーザーは，１．０６４μｍの波長を有するレーザービーム３を送出する。ここではレーザー１は，１００Ｗの出力を有する。このレーザービーム３は，フォーカスユニット５によって・・・ビームガイド６に結合される。」（７頁１５行～２０行），「加工モジュール７の下に，加工すべき，ここでは切断すべき加工片９が配置されている。」（７頁２５行），「加工モジュール７は，ビームガイド６によって近くに案内されるレーザービームを平行化するコリメータ２１，加工片９上の加工位置２４に向けられた液体ビーム１２を形成するノズル通路２３を有するノズルブロック４３，及び図３に拡大して示すように，ノズルブロック４３のノズル通路２３のノズル軸線３１の場所における入口開口３０の平面２９に平行化されたレーザービーム２７を収束するフォーカスレンズ２５を有する。」（７頁３２行～３６行）ｍ「ノズル入口開口３０の上に，液体供給導管としてディスク状の液体供給空間３５がある。液体供給空間３５は，ノズル入口開口３０の周囲にせき止め空間として作用する液体空間を持たない。」（７頁３６行～３９行），「液体供給空間３５の高さは，理論的にはノズル通路２３の横断面の半分を有するだけでよい。しかしこれは，液体の管摩擦損失を減少するため及び渦形成を避けるために，それよりいくらか大きく選定されている。」（７頁３９行～４１行），「液体供給空間３５をディスク状に構成する代わりに，この液体供給空間は，鋭角半角を有する円錐状に製造してもよく，その際，角頂点（円錐先端）は，この時ノズル入口開口の上方にあるようにする。」（８頁３２行～３４行）
ｎ「液体供給空間３５の壁内に，ノズル入口開口３０の上においてなるべく反射防止コーティングされた窓３６が挿入されており，これを通ってレーザービームは，フォーカスレンズ２５によってノズル通路２３の入口開口３０の平面内の収束することができる。」（７頁４１行～４４行），「液体ビーム１２を形成する“ノズルブロック”４３のノズル通路２３は，図２に示すように，加工モジュール７の底部要素４７において液体ビーム１２のための中心貫通穴４５を有するノズルブロック保持体４６内に保持されている。」（８頁５行～７行），「窓３６は，挿入体５３の中心切り欠き５１内に配置されている。・・・挿入体５３は，同軸的に分配された複数の軸線方向液体通路６１ａ及び６１ｂを有し，これら液体通路の幅は，液体を確実に液体供給空間３５内に移すように選定されている。液体供給空間３５の高さは，挿入体５３のねじ込み深さによって調節される。」（８頁１０行～１８行）(ｲ)本件発明１の特許請求の範囲の記載及び発明の詳細な説明欄の記載を総合すれば，本件発明１は，①従来，レーザービームを導く液体ビームがノズルにより形成される材料加工方法及びその方法を実施した装置においては，水ビーム（液体ビーム）の直径をビームガイドの直径よりも小さくすることができないという欠点や，ビームガイド端部の下に死水領域が生じるため，水ビームの長さが増大すると，水ビームの分離水滴を生じて，３０ｍｍを超える層状のコンパクトなビーム長さを得ることができないといった欠点があったことから，ビームガイドを直接含まない水ノズルを構成することで，これらの欠点を解消することが試みられたが，かかる従来技術（「ヨーロッパ特許出願公開第０５１５９８３号明細書」に示された装置）では，フォーカス光学系によってノズルの範囲に収束したレーザービームが，液体における強度の分布に応じて液体を多かれ少なかれ強力に加熱し，この空間的な温度勾配を有する液体範囲が，空間的に固有の密度分布を有するだけでなく，空間的な屈折率分布も有し，光学的に発散レンズとして反応し（いわゆる熱レンズ効果），ノズル通路入口の上のフォーカス円錐先端の範囲に熱レンズが生じ，この熱レンズがノズル通路入口の周範囲におけるノズル壁に管理できない損傷を引き起こすという問題があったこと，②本件発明１は，上記問題を解消し，液体ビームを形成するノズルをレーザービームによって損傷することなく，レーザービームを材料加工のために液体ビーム内に光学的に結合することができる装置を提供することを課題とし，上記課題を解決するための手段として，「液体供給空間へ供給される液体が，ノズル入口開口の周りにおいてせき止め空間のないように導かれ，それによりレーザービームのフォーカス円錐先端範囲における液体の流速が十分に高く決められるようにし，したがって，フォーカス円錐先端範囲において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで熱レンズの形成が抑圧される」構成を採用した発明であると認められる。
イ構成要件エないしカの意義等について


(ｱ)構成要件エにおける「せき止め空間のない」の意義ａ「せき止め空間」あるいは「せき止め空間のない」は，本件発明１の技術分野である流体力学の分野における学術用語ではない（甲２１の３頁，乙１４の１２頁～１３頁）。一般に，「せきとめる」には，「さえぎりとめる。さえぎる。」の意味があり（広辞苑），流体力学の分野では「せき」とは，「水路を板又は壁でせき止め，これを越えて水が流れる場合」を意味するが（甲２１の資料８（「改訂版流体の力学」）の６４頁），これらを前提としても，特許請求の範囲の記載のみから「せき止め空間」あるいは「せき止め空間のない」の意義を確定することは困難である。ｂそこで，本件明細書の発明の詳細な説明の記載を参照することとする。発明の詳細な説明には，「せき止め空間」あるいは「せき止め空間のない」に関し，①従来技術である「ヨーロッパ特許出願公開第０５１５９８３号明細書」（乙Ａ１）に示された装置においては，「空間」（水入口とノズル入口に対して空間を閉じるフォーカスレンズとを有する水空間）は，「水ビームのためにその中にある水が，擬似的に静止状態に・・・構成されている。この時，水ビーム内に結合されたレーザービームのこの第２の構成変形は，ノズル通路入口の周範囲におけるノズルの壁に管理できない損傷を引起こすことがわかった。」（前記ア(ｱ)ｃ），②上記装置においては，「ノズル通路入口の上のフォーカス円錐先端の範囲に，熱レンズが生じ，・・・それによりフォーカス円錐内のレーザービームの一部は，・・・とくにここにおいて利用された液体せき止め空間の方に向いたノズル表面に当たる。」（同ｅ），③「ヨーロッパ特許出願公開第０５１５９８３号明細書において利用された。液体を静止状態に維持する・・・液体せき止め空間を有する液体空間・・・」（同ｉ），④「本発明」による装置においては，「加熱時間をそもそもできるだけ短く維持するために，液体が，レーザービームのフォーカス円錐の範囲から，とくにその先端範囲からできるだけ迅速に運び出される。明らかに最善の結果は，わずかな吸収を有するフォーカス円錐における液体の短い滞在時間の際に達成される。」（同ｈ），「熱レンズの形成を助長する液体せき止め空間が避けられる。」（同ｋ），「ノズル入口開口３０の上に，液体供給導管としてディスク状の液体供給空間３５がある。液体供給空間３５は，ノズル入口開口３０の周囲にせき止め空間として作用する液体空間を持たない。」（同ｍ）との記載がある。
上記①ないし④のとおりの発明の詳細な説明の記載を参照すると，構成要件エにおける「せき止め空間」（液体せき止め空間）とは，同空間において液体が静止するために，透過するレーザービームにより温度が上昇し，これによって発生した熱レンズによってレーザービームの焦点がずれ，ノズル壁の損傷を引き起こす空間を意味すると解すべきであり，構成要件エの「せき止め空間のない」とは，上記の意味での空間がないとの意味に解するのが相当である。もっとも，流体空間が一つの連通空間である場合，空間内で流速は連続的に変化し，流速が完全に零になることはないと認められるから，ここでの「静止」とは，流速が完全に零であることを意味するものではなく，ほぼ零を含むと解すべきである。
(ｲ)構成要件オにおける「液体の流速が，十分に高く」の意義構成要件オには「十分に高」いとされる液体の速度については特段の数値限定等はされておらず，その意義を，特許請求の範囲の記載のみから確定することは困難である。そこで，本件明細書の発明の詳細な説明の記載を参照すると，液体の流速については，「加熱時間をそもそもできるだけ短く維持するために，液体が，レーザービームのフォーカス円錐の範囲から，とくにその先端範囲からできるだけ迅速に運び出される。明らかに最善の結果は，わずかな吸収を有するフォーカス円錐における液体の短い滞在時間の際に達成される。」（前記ア(ｱ)ｈ），「ノズル入口のほぼ真上にあるこの窓だけによって，フォーカス円錐の先端における液体容量をそもそもできるだけ少なく，かつ流速をそもそもできるだけ高く維持することが可能である。」（同ｉ）との記載がある。
これらの記載からすると，「液体の流速が，十分に高く」することは，液体がレーザービームによって加熱される時間を短くすることで熱レンズの発生を防止しようとするものであるから，「液体の流速が，十分に高く」とは，「フォーカス円錐先端範囲（５６）において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される」（構成要件カ）程度に流速が高いことを意味するものと解される。
(ｳ)構成要件カにおける「ノズル壁を損傷しないところまで」の意義構成要件カに「ノズル壁を損傷しないところまで」についても，その意義を特許請求の範囲の記載のみから確定することは困難である。そこで，本件明細書の発明の詳細な説明の記載を参照することとする。「予想された熱レンズが生じ，この熱レンズは，ノズル壁の，とくにノズル入口の範囲におけるノズル表面の損傷を引起こし，かつ結局液体ビームを形成するノズルの破壊を引起こす。」（前記ア(ｱ)ｆ）と記載されていることからして，「ノズル壁を損傷」とは，層流からなるビームガイドとして機能する液体ビームが形成できなくなる程度のノズル壁の損傷を意味すると解するのが相当である。
なお，本件発明１を実施した装置においても，装置の継続使用による液体供給空間内の熱レンズの形成そのものは不可避であり，いずれは熱レンズの形成によって発散したレーザービームがノズル壁の表面に当たること，あるいは，高圧で供給される液体の摩擦によって，層流からなるビームガイドとして機能する液体ビームが形成できなくなる程度のノズル壁の損傷が生じることは明らかである。このようにノズルに寿命があるとしても，通常の使用の範囲において，熱レンズ現象により，層流からなるビームガイドとして機能する液体ビームが形成できなくなる程度のノズル壁の損傷が生じていなければ，構成要件カにおける「ノズル壁を損傷しないところまで」との要件を充足するものと解すべきである。
(ｴ)構成要件エないしカについて


構成要件オの「それにより」，構成要件カの「したがって」との文言を併せて読めば，構成要件オの「液体の流速が，十分に高く」するとの構成は，「液体が，ノズル入口開口（３０）の周りにおいてせき止め空間のないように導かれ」ること（構成要件エ）によってもたらされており，構成要件カの「ノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される」との効果は，「液体が，ノズル入口開口（３０）の周りにおいてせき止め空間のないように導かれ」（構成要件エ），「液体の流速が，十分に高く」された（構成要件オ）ことによる必要がある。ウ被告製品の構成要件エないしカへの充足性について(ｱ)以上を前提に，構成要件エないしカの充足性の有無を判断する。次のとおり，①被告製品においては，グリーンレーザーが使用されているところ，グリーンレーザーにおいても，流速が十分でなく，水がフォーカス円錐先端範囲内に長時間滞留している場合には，時間の経過により熱レンズが発生し，ノズル壁が損傷することがあり，②被告製品においてノズル壁の損傷を防ぐための対応がされることが必要であること等からすると，被告製品の液体貯留室内のフォーカス円錐先端範囲においては，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される程度に，流速が十分に高いものといえるから，被告製品は構成要件エないしカを充足すると認められる。
(ｲ)グリーンレーザーの使用と熱レンズによるノズル壁の損傷との関係についてａ   被控訴人は，被告製品では，水に対する吸収率が極端に小さいグリーンレーザーを使用しているから，ノズル壁を損傷する程度の熱レンズが形成されることはない旨主張する。ｂ   証拠によれば，次の各事実が認められる。
(a)甲３２の記載
甲３２は，控訴人作成に係る２０１１年（平成２３年）３月２９日付け「Impactofthermallensingon   Laser-Microjet」（訳文・「レーザー・マイクロジェットにおける熱レンズ効果」）と題する実験結果報告書であるが，グリーンレーザー（５３２ｎｍ波長）と熱レンズに関して，次のような内容が記載されている。
①「１    はじめに
このレポートは水ジェット誘導レーザーシステム（レーザー・マイクロジェット，あるいはＬＭＪ）における熱レンズの影響を評価したものである。・・・レーザー・マイクロジェットの基本原理は，レーザービームの全てのエネルギーを水ジェットに焦点させることである。寄生的な熱レンズ効果によりノズル開口部でのレーザースポットが大きくなり，このことによるノズルの寿命が短くなる。本報告はこの現象が１０６４ｎｍより水の吸収が少ない５３２ｎｍ波長のレーザーにも成り立っていることを示す。」（訳文１頁１行～１０行）②「２    実験的研究－熱的な焦点ずれのノズル寿命への影響淀み空間のノズル寿命に対する影響を確認するために，以下の二つのチャンバーを用いて実験を行った。ａ）高さ（Ｈ）２５ｍｍ，直径２５ｍｍ，流入口は直径１．５ｍｍで一箇所だけ側壁についている。ｂ）Ｓｙｎｏｖａの水チャンバー，高さ０．５ｍｍ，直径１０ｍｍ，側方２４箇所から均等に直径１ｍｍの流入口を持つ。
２．１実験装置
以下の実験では全て波長５３２ｎｍ，平均レーザー出力１００Ｗ，パルス繰り返し周波数１０ｋＨｚを用いた。レーザービームはコア径ｄｆが１００μｍの光ファイバーにカップリングさせた。ファイバー端でのレーザービーム発散の半角θは０．０８８ｒａｄである。・・・収束レンズ後のビームウェストの直径（ｄｓ）は下記の式で計算される。ｄｓ＝・・・＝４１．７μｍ
チャンバーでのビーム拡がり半角は０．１６ｒａｄである。着脱可能なサファイヤ製のノズル開口部が８０μｍのノズルを使用した。１００気圧の超純水を二種類のチャンバーに供給した。・・・ビームウェストが正確にノズルオリフィスにアライメントされるように，チャンバーをビームに対して垂直，水平に動かして水ジェットに伝達されるレーザー強度を最適化した。」（訳文１頁２５行～２頁１２行）
③「２．２    結果
上記の実験構成で大きなチャンバーとＳＹＮＯＶＡチャンバーでノズル寿命を測定した。８０μｍノズルではノズル寿命に顕著な違いが認められた。ａ）大きなチャンバーでは５個の異なる測定したノズルの寿命は最大で２４０秒であったが，ｂ）ＳＹＮＯＶＡチャンバーではノズル破壊は認められなかった（６００秒後に実験終了）。」（訳文３頁１行～５行）
④「３    理論的考察
文献値によると５３２ｎｍ波長では１０６４ｎｍより相当小さな吸収しか起きない。このことは決まった距離に対してより小さな強度減少（即ちパワー密度）しかもたらさないことを意味する。しかしながら，熱効果による焦点ずれは，吸収されるエネルギーに依るものであり減少したエネルギー強度によるものではない。・・・このことにより水は非常に局所的に加熱され，レーザービーム中に大きな熱勾配を発生する。この考察によりチャンバー全体でのレーザー出力の吸収は小さく，従って平均的な温度上昇が無視できても，レーザービーム内には局所的な吸収による大きな熱勾配が存在することがわかる。一方，レーザーのエネルギーは吸収係数だけではなく，照射の時間にも依存する。吸収されるエネルギーは，連続波であれ，パルスであれ時間と伴に増加する。」（訳文３頁７行～４頁４行）
⑤「３．４    ノズル破壊のメカニズム
・・・また光学系では常に収差があり，レーザーのスポットの周辺領域では強度が増加する。その結果，ある量のレーザーのエネルギーは，たとえ理論的なビーム径がノズルよりのはるかに（判決注・「ノズルよりはるかに」の誤記と認める。）小さくても，ノズルエッジにもたらされる。熱によりビームウェストでビームが拡がり平坦化するので，ビームの周辺にはよりパワーがもたらされる。増加した光学パワーがノズルエッジで吸収され，応力が増加する。これらの応力があるパワー以上でパルス的に周期的に負荷されるとノズルを劣化させると同時に水ジェットを不安定にする。破壊が起こるまでの時間はノズルオリフィスに対するビームウェストのアライメント（中心あわせ）の正確さに依存する。」（訳文７頁５行～１３行）
⑥「４    結論
本報告書の第２節にある実験により，８０μｍノズルの寿命はチャンバーの構造に大きく依存して変わることがわかった。大きなチャンバーを使うとノズル寿命が短くなり，ＳＹＮＯＶＡ特許の淀みのないチャンバーだと長いノズル寿命が得られる。


解析的な結果では，大きなチャンバーでは５３２ｎｍにおいても熱レズ効果（判決注・「熱レンズ効果」の誤記と認める。）が発生しうることを示した。この効果によりノズル開口部でレーザースポットが大きくなりノズ破壊に至る。以上の計算および実験事実に基づき，淀みのある水チャンバーでは波長に関係なく熱レンズ効果が起こりノズル破壊による短寿命化が起こることは疑いがない。」（訳文７頁１４行～２１行）
(b)甲３５の記載
甲３５は，控訴人作成に係る２０１１年（平成２３年）９月１日付け「Impactofthermallensingon   waterjetguided   laser」（訳文・「水ジェット誘導レーザーにおける熱レンズ効果の影響」）と題する実験結果報告書であるが，甲３２の実験の追加実験をした結果として，次のような内容が記載されている。
①「２    実験的検証
２．１実験条件
Picture１は，今回の実験に用いた光学系の配置を示すが，これは，前回（判決注・甲３２の実験）と同じものである。今回も高さ２５ｍｍ（水の淀み有り），５３２ｎｍグリーンレーザー，繰り返し周波数は５あるいは１０ｋＨｚ，水圧１００気圧の条件である。選択された８０μｍノズル口径に対してノズルオリフィスでのビームスポットサイズが５０μｍになるようにした。この光学系で異なるレーザー出力レベルで２つの実験を行った。以下のノズルの写真は，実験前後に撮影され，比較結果を示すものである。」（訳文１頁３０行～２頁２行）
②「２．２    観察結果
Pictures２と３の実験前後のノズルの顕微鏡写真をみると，熱効果による焦点ボケのノズルへの影響した損傷を，Picture３のオリフィス境界の左下に明瞭に目視することができる。実験前の整った境界・・・は，実験後には，荒れて，層流水ジェットを作り出すことはできない。このように水が淀んでいると，熱効果による焦点ボケを引き起こした。５３２ｎｍにおける僅か４０Ｗの出力でもノズルを損傷させた。この結果の後，同じ条件，但し，５３２ｎｍのレーザーでレーザー出力のみ２０Ｗに下げて実験を行った。実験前後の結果をPicture４と５にそれぞれ示す。ここでもまた，Picture５の境界右上に目視できるように，熱効果による焦点ボケによりノズルが損傷を受けている。・・・
実験で用いたパラメータのまとめ：
レーザー出力          ２０Ｗ及び４０Ｗ
パルス繰り返し周波数５及び１０ｋＨｚ
レーザー波長          ５３２ｎｍ
レーザースポット径    ５０μｍ（ファイバー径１５０μｍ，縮小比３：１）チャンバー高さ        ２５ｍｍ（淀み空間有り）
ノズル径              ８０μｍ
４０Ｗ，１０ｋＨｚでのノズル損傷に至る時間：４００秒２０Ｗ，５ｋＨｚでのノズル損傷に至る時間・・・：７２０ｓ」（訳文２頁３行～３頁１８行）③「・・・高出力のレーザーを（訳注：水中の）ノズルに意図的にアライメントをずらせて照射した場合を視覚化するための実験を行った。これにより，アライメントをずらせた場合とレーザービームの熱効果による焦点ボケの場合との違いが示される。ここでは，標準的な装置（ここでは示さない）を用いノズルオリフィスに対して意図的にずらし，４０Ｗのグリーンレーザーを照射した。明らかに，ノズルは直ぐに損傷を受けた。実験前後における損傷の激しさを示すノズル写真をPicture６，７にそれぞれ示す。」（訳文３頁２０行～４頁２行）
④「３    理論的分析
・・・今回の実験で，レーザーの出力が小さくても，（訳注：水の流れの）淀みのない構造の光と水のカップリング・ユニットを使わない限り（訳注：ノズルに対して）損傷をもたらすことが示された。確かに，ある範囲では，より程度が大きいあるいは小さい淀み空間と都合のよいレーザー出力の組み合わせにより，ノズルの損傷を回避することは可能かもしれない。それにもかかわらず，水の淀みをなくして動作させることによって熱効果による焦点ボケを避けることは明確に利点がある。なぜなら，そのことにより如何なる種類のレーザー光に対しても，パラメーター条件を広くすることができるからである。」（訳文４頁３行，１７行～末行）
(c)乙１６の記載
乙１６は，富山県工業技術センター所長作成に係る平成２２年１０月２８日付けの試験成績通知書であるが，同センター所長が被控訴人の依頼により被控訴人の工場で行った「レーザー光の吸収特性試験」の試験結果に関して，次のような内容が記載されている。
①「１．レーザ光の水に対する吸収試験
１－１．試験方法
試験装置・・・
試験条件：出射レンズユニット集光側焦点距離：１００ｍｍガラスビーカー容量：５０ｍｌ（外径：φ４６．５ｍｍ，高さ：６１ｍｍ）
水の深さ：３６ｍｍ
レーザの焦点位置：水面より下方１８ｍｍ
室温：２５℃
レーザ波長（発振周波数）：グリーンレーザ５３２ｎｍ（２０ｋＨｚ）ＹＡＧレーザ１０６４ｎｍ（２０ｋＨｚ）
・・・レーザ吸収試験は，各レーザを上記レーザ出力でガラスビーカー（５０ｍｌ）中の水（５０ｍｌ）に照射して，ガラス容器の表面温度を表面温度計（Ｔ型熱電対）で測定した。また，ガラス容器表面の温度は照射前（０分），３分後，１０分後，３０分後の温度をデータロガーに記録した。」（１頁）
②「１－２．試験結果
・・・次に，各レーザ照射前（０分），３分，１０分，３０分後のガラスビーカーの表面温度の測定結果を表２に示す。」，表２   ガラスビーカー表面温度の測定結果
グリーンレーザ    ＹＡＧレーザ基本波
経過時間（分）                  表面温度（℃）０                ２６．２            ２６．０３                ２９．４            ３０．５１０                ３０．５            ３９．０３０                ３３．３            ５１．６」（以上，２頁。ただし，上記②は，乙１６の「表２」の罫線等を省略して表記している。）
(d)乙１７の記載


乙１７は，被控訴人従業員Ｂ作成の平成２２年１１月１日付け陳述書であるが，前記乙１６の試験結果に関して，次のような内容が記載されている。①「表２（判決注・乙１６の「表２」）は，表面温度計によって測定された温度の時間に対する変化を示しています。表２から明らかなように，ビーカー内の水の温度上昇は，各経過時間において何れもＹＡＧレーザーの基本波の方がグリーンレーザーよりも大きく，ＹＡＧレーザーの基本波では水温が急激に上昇しているのに対し，グリーンレーザーでは水温が緩やかに上昇しています。この結果から，グリーンレーザーの水による吸収は，ＹＡＧレーザー基本波の水による吸収よりも小さく，グリーンレーザーはＹＡＧレーザー基本波よりも水に吸収されにくいレーザーであることが確認されました。」（３頁２行～９行）②「なお，本レーザー光の水に対する吸収試験では，グリーンレーザーを使用した場合にも水の温度は上昇していますが，実際の被告製品ＷｂＭでは，液体供給空間内の水の温度上昇は無視できる程度です。すなわち，ＷｂＭでは，液体供給空間内の水は常にノズルから噴射されているので，この試験において温度上昇を観測している時間よりも遙かに短い時間で新しく流入した水と入れ替わります。このため，実際の被告製品の液体供給空間内において，この試験で測定されたような温度上昇が発生することはありません。」（３頁１０行～１７行）
(e)乙３０の記載
乙３０は，富山県工業技術センター所長作成の平成２３年５月３１日付け試験成績通知書であるが，同センター所長が被控訴人の依頼により被控訴人の工場で被告製品（ＷｂＭ４０３２）を用いて行った「レーザー光の液体貯留室透過試験」の試験結果について，次のような内容が記載されている。
①「レーザー光の液体貯留室透過試験
１．試験方法
試験装置：レーザー・ウォータージェット複合加工機：（株）スギノマシン製ＷｂＭ４０３２・・・試験条件：ウォータージェットノズル径：φ１００μｍ
水圧：１０ＭＰａ
使用液体：純水
コリメートレンズ焦点距離：２５０ｍｍ
集光レンズ焦点距離：５０ｍｍ
液体貯留室高さ：１０，１５，２５ｍｍ
試験時温度：室温
レーザー波長（発振周波数）：グリーンレーザー５３２ｎｍ（１０ｋＨｚ）
レーザー入力設定値：４０Ｗ（実測値３９．６Ｗ）
・・・試験は，液体貯留室（ウォータージェット噴射ノズルの手前で水を留める空間）の内部高さ（Ｈ）を１０，１５，２５ｍｍと変え，それぞれについて５分毎に３０分間ウォータージェット透過後のレーザー出力（Ｗ）をレーザーパワーメータにより測定した。また，液体貯留室透過前のレーザー出力も測定した。加えて，試験開始時（０分経過）と試験終了時（３０分経過）でステンレス板（厚さ０．１ｍｍ）の加工を行った。」（１頁）
②「２．試験結果
貯留室高さ（Ｈ）が１０，１５，２５ｍｍの場合のウォータージェット透過後のレーザー出力測定結果を表１に，グラフを図３に示す。」（３頁），「・・・すべての貯留室高さにおいて，ステンレス板（厚さ０．１ｍｍ）をφ１０ｍｍの円盤状に切り出した加工ワーク外観を写真２に示す。」（４頁）
(f)乙３１の記載
乙３１は，被控訴人従業員Ｂ作成の平成２３年６月１日付け陳述書であるが，前記乙３０の試験結果に関し，次のような内容が記載されている。①「試験結果は試験成績通知書の表１及び図３に示されています。図３のグラフに示されているように，高さ１０ｍｍ，１５ｍｍ，２５ｍｍの何れの液体供給空間においても，実験開始から３０分間に亘り，水ジェットにより導光されるレーザーの出力はほぼ一定です。また，実験終了後，ノズル壁の損傷も見られませんでした。」（２頁９行～１３行）
②「試験成績通知書の写真２は，透過試験の前後に加工したステンレス板の写真です。この加工は，厚さ０．１ｍｍのステンレス板を直径１０ｍｍの円形に切り抜くもので，１つの円形の加工時間は約６．５秒でした。写真から明らかなように，ステンレス板の加工状態は３０分の導光の前後で特に変化はなく，バリ等のない良好な切断面が得られています。このことからも，３０分の導光によりノズル壁に損傷がないことは明らかです。」（２頁３０行～３５行）
ｃ上記(a)ないし(f)の実験の結果等を総合すると，レーザービームを材料加工のために液体ビーム内に光学的に結合する装置において，レーザービームとしてグリーンレーザーを使用する場合においても，液体ビームを形成するノズルの壁を損傷する程度の熱レンズが液体供給空間に形成されることがあり得ると解される。その理由は，以下のとおりである。


まず，①甲３２によれば，控訴人の製品である「ＳＹＮＯＶＡチャンバー」（高さ０．５ｍｍ，直径１０ｍｍ，側方２４箇所から均等に直径１ｍｍの流入口）とこれよりも大きなチャンバー（高さ２５ｍｍ，直径２５ｍｍ，側壁の一箇所に直径１．５ｍｍの流入口）について，波長５３２ｎｍのグリーンレーザーを用いて，液体を超純水とし，平均レーザー出力１００Ｗ，パルス繰り返し周波数１０ｋＨｚ，水圧１００気圧，ノズル直径８０μｍ，収束レンズ後のビームウェストの直径４１．７μｍの条件で，ノズル寿命を測定する実験を行ったところ，大きなチャンバーでは，ノズル破壊に至るまで最大で２４０秒であったのに対し，「ＳＹＮＯＶＡチャンバー」では，６００秒後の実験終了時までにノズル破壊が認められなかったこと（前記(a)），②甲３５によれば，甲３２と同様の「大きなチャンバー」について，平均レーザー出力を甲３２の１００Ｗよりも低い４０Ｗ又は２０Ｗに設定し，平均レーザー出力が４０Ｗの場合はパルス繰り返し周波数１０ｋＨｚ，平均レーザー出力が２０Ｗの場合はパルス繰り返し周波数５ｋＨｚとし，それ以外の条件は甲３２の実験と同様の条件（ただし，レーザースポット径は５０μｍ）で，グリーンレーザーを用いた実験を行ったところ，平均レーザー出力が４０Ｗの条件の場合はノズル損傷に至る時間が４００秒，平均レーザー出力が２０Ｗの条件の場合はノズル損傷に至る時間が７２０秒であり，さらに，平均レーザー出力が４０Ｗの条件の場合に意図的にノズルのアラインメントを意図的にずらして照射したところ，ノズルはすぐに損傷を受けたこと（前記(b)），③甲３５におけるアラインメントを意図的にずらして照射した場合のノズルの損傷の写真（Picture６，７）と，平均レーザー出力が２０Ｗと４０Ｗの場合のノズルの損傷の写真（Picture３ないし５）とを比較すると，両者の損傷の状況は相当異なり，後者の損傷がレーザーのアラインメントがずれたことによるものとは認め難いことが認められる。以上の事実を総合すると，少なくとも，甲３２にいう「大きなチャンバー」（高さ２５ｍｍ，直径２５ｍｍ，流入口は直径１．５ｍｍで一箇所だけ側壁についている。）においては，グリーンレーザーを使用した場合であっても，ノズル壁を損傷する程度の熱レンズが形成されることがあり得ると解するのが合理的である。この点に対し，乙３０には，グリーンレーザーを使用する被告製品において，液体を純水とし，その液体貯留室の高さを１０，１５，２５ｍｍと変えた上で，レーザービーム照射開始時（０分経過）と照射開始後３０分経過時におけるステンレス板（厚さ０．１ｍｍ）の加工を行う試験を行い，その加工ワークの外観を「写真２」を示して比較した旨の記載（前記(e)）があり，被控訴人従業員のＢは，乙３１で，上記加工ワークの外観において，照射開始時と照射開始後３０分経過時の両者共に，バリ等のない良好な切断面が得られていることから，照射開始後３０分経過しても，ノズルに損傷が生じなかったとの見解を述べている（前記(f)）。しかし，甲３２及び３５の各実験と乙３０の試験を対比すると，甲３２及び３５の各実験では直径８０μｍのノズルが使用されているのに対し，乙３０の試験では直径１００μｍのノズルが使用されていること，甲３２及び３５の各実験ではビームスポット径（ビームウエスト径）が明らかにされている（４１．７μｍ，５０μｍ）のに対し，乙３０の試験ではこれが明らかにされていないこと，甲３２及び３５の各実験では超純水を使用するのに対して，乙３０の実験では純水を使用することなどに照らすならば，甲３２及び３５の各実験と乙３０の試験では，実施条件が同一でなく，乙３０の試験結果から，直ちに，甲３２及び３５の各実験結果に基づく評価を否定することはできない。のみならず，乙３０からは，加工ワークの切断面の状況の詳細までは判然とせず，レーザービームの照射開始後３０分経過時までの間に，乙３０の加工ワークの切断が不可能になるほどには，ノズル壁の損傷が生じなかったといえたとしても，ノズル壁に何らかの影響が生じている可能性までを否定することはできない。そうすると，乙３０の試験結果は上記認定を妨げるものではない。ｄ   以上によれば，レーザービームとしてグリーンレーザーを使用した場合であっても，液体供給空間内にノズル壁を損傷する程度の熱レンズが形成されることがあり得るものと認められる。
(ｳ)熱レンズの形成が抑圧される程度に，流速が十分に高いものといえることに
ついて
前記イのとおり，構成要件エの「せき止め空間のない」とは，液体が静止するために，透過するレーザービームにより温度が上昇し，これによって発生した熱レンズによってレーザービームの焦点がずれ，ノズル壁の損傷を引き起こす空間がないことを意味する。また，構成要件オの「液体の流速が，十分に高く」とは，上記「せき止め空間のない」との構成を採用することによって，「フォーカス円錐先端範囲において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される」程度に流速が高いことを意味する。
ところで，ノズル壁の損傷防止に影響を与えるファクターとしては，熱レンズの形成が抑圧されること以外にも，①使用するレーザービームの種類（液体による吸収率の違い），②ノズル径がレーザースポットサイズよりも相当程度大きいこと，③ノズルの耐久性が高いこと，④レーザー出力，使用する液体の種類・純度，⑤液体供給空間に液体を供給する圧力，⑥液体供給空間の高さ等のさまざまなファクターが考えられる（甲２，３２，３５，甲Ａ５，乙１６，１７，３０ないし３２，弁論の全趣旨）。もっとも，被控訴人は，前記①に関してグリーンレーザーを使用することを主張する点を除いては，これら他のファクターを具体的に主張・立証するものではない。


そして，①前記(ｲ)のとおりレーザービームとしてグリーンレーザーを使用した場合であっても，液体供給空間内にノズル壁を損傷する程度の熱レンズが形成されることがあり得ること，②被告製品では，前記(1)イ(ｳ)の意味でのノズル壁の損傷が防がれていること，③乙７では，液体貯留室の高さは「２～４０ｍｍの間で適宜設定する」（【００４６】），「液体貯留室の高さＨを低くして液体貯留室内における流速を大きくし熱レンズを抑制」（【００７１】）するとされているところ，被告製品（乙７記載の発明の実施例であるとされる。）では，液体貯留室の高さは，乙７で開示された範囲の下限近くに設定され（乙８の１，８の２），このことは，流速を高める目的でされていると認められること（甲４２），④ノズル径やレーザースポットサイズは，加工形状，製造限界等から，その選択の余地は，必ずしも多くないと認められること（甲４２）を総合するならば，被告製品は，「ノズル入口開口（３０）の周りにおいてせき止め空間のないように導かれ（る）」（構成要件エ）との構成が採用され，そのことによって「フォーカス円錐先端範囲において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される」程度（構成要件カ）に「流速が，十分に高く」（構成要件オ）したとの構成が採用されていると解するのが自然である。
(ｴ)以上によれば，被告製品を使用する加工方法は本件発明１の構成要件エないしカをいずれも充足する。
エ小括
被告製品を使用する加工方法は，本件発明１の技術的範囲に属する。
(2)本件発明５及び１０について
ア構成要件ク，ケ，サないしスについて
前記(1)のとおり，被告製品は，本件発明１の方法を実施する装置であり，「レーザービームを送出するレーザー，及び液体ビームを形成するノズル通路を備えたノズルとビームガイドとしての液体ビームへレーザービームを導入する光学要素とを有する加工モジュール」によるもの（乙８の１，８の２，弁論の全趣旨）であるから，本件発明５の構成要件クを充足する。
被告製品が構成要件ケ及びスを充足することは，原判決の「２争いのない事実等」の(4)ウ（原判決１２頁）のとおりである。
構成要件サ及びシはそれぞれ構成要件オ及びカと共通するから，前記(1)のとおり，被告製品は，構成要件サ及びシを充足する。
イ構成要件コについて
(ｱ)「ディスク」とは，「①円盤。円板。②レコード。音盤。また，コンパクト・ディスク。③フロッピー・ディスク，ハードディスクなどの略。」を意味する（広辞苑）。そして，本件明細書の発明の詳細な説明には，「液体供給空間３５をディスク状に構成する代わりに，この液体供給空間は，鋭角半角を有する円錐状に製造してもよく，その際，角頂点（円錐先端）は，この時ノズル入口開口の上方にあるようにする。」（前記(1)ア(ｱ)ｍ）との記載がある。これらを前提とすると，構成要件コにおける「ディスク状に従って」とは，液体供給空間が円盤状である（なお，円錐状を含まない。）と理解することができる。この点について，被控訴人は，「ディスク状」とは，直径が高さ（厚さ）に対して，オーダー（桁）が異なる程度（数十倍以上）に大きい形状を呈するものに限定されると主張するが，以下のとおり，同主張を採用することはできない。(ｲ)被告製品の液体貯留室は，逆円錐台形状ではあるものの，扁平な形状であって（乙８の１，８の２），円盤状であると認めることができる。なお，乙１４の資料７の図５で被告製品のシミュレーションに用いられた液体貯留室は，逆円錐台形状の上辺の直径が２１ｍｍ，下辺の直径が１６ｍｍ，高さが４ｍｍであって，上下辺は，高さの４倍ないし５倍強の大きさがあるのであるから，これを前提としても，「ディスク状に従って」を充足するといえる。
(ｳ)被告製品は，構成要件コのその他の構成も充足する（乙８の１，８の２）。
ウ小括
以上によれば，被告製品は，構成要件クないしスをいずれも充足するから，本件発明５の技術的範囲に属するものと認めることができる。また，構成要件セを充足することも認められる（原判決の「２争いのない事実等」の(4)ウ）から，被告製品は，本件発明１０の技術的範囲に含まれる。２争点２（本件特許権に基づく権利行使の制限の成否）及び争点３（訂正による対抗主張の成否）について
控訴人が本件訂正をしており，第３次審決に対する審決取消訴訟においても，本件訂正の適法性については争点とされていないことに鑑みて，本件各訂正発明に係る特許が被控訴人主張の無効理由によって無効とされるべきかを検討する。当裁判所は，本件各訂正発明に係る特許には被控訴人主張の無効理由はなく，また，被告製品又は被告製品を使用する加工方法は本件各訂正発明の技術的範囲に属するから，訂正による対抗主張は成立し（争点３），本件特許権に基づく権利行使の制限がされることはない（争点２）と判断する。その理由の詳細は次のとおりである。
(1)無効理由１（実施可能要件違反）について


ア被控訴人は，熱レンズの形成を抑圧するという本件各発明の効果は，使用するレーザービームの種類（波長），レーザーの出力（ワット数），使用する液体の種類，液体供給空間の構造，液体供給空間に液体を供給する圧力，液体の流速等の実施条件を適切に組み合せることによって初めて得られるものであるところ，本件明細書には，上記効果を得るために必要な実施条件の一部が個別に記載されてはいるものの，それらの各実施条件をいかに組み合せるべきかについての記載は一切なく，当業者が本件明細書を参照しても本件各訂正発明を容易に実施できない旨を主張する。イ   この点，前記１(1)ウ(ｳ)のとおり，ノズル壁の損傷に至る熱レンズの形成は，液体供給空間内のレーザービームのフォーカス円錐先端範囲（の領域）における液体の流速のみならず，使用するレーザービームの種類（液体による吸収率の違い），レーザー出力，使用する液体の種類・純度，液体供給空間に液体を供給する圧力，液体供給空間の高さ等の諸条件に依存するものと考えられる。本件訂正においては，液体供給空間の高さについて，液体供給空間の形状を「ディスク状」として，形状面からの限定がされている。加工対象及び加工態様によって，レーザーの種類，レーザーの出力，ノズル径，液体を供給する圧力等は，ほぼ決まると認められるから（甲４２），このような観点から，加工条件に応じてノズル入口開口の周りにおいて「せき止め空間」がないように液体供給空間の高さを含む「液体供給空間」の構造を選択することができ，各要素の選択に関する予測可能性について，実施可能な程度に確保されていると解することができる。そして，本件明細書には，「ＮＤ：ＹＡＧレーザー」の基本波である「１．０６４μｍの波長を有するレーザービーム３」（７頁１５行）が開示されているほか，液体としては，水，シリコンオイル及びコロイド状の溶液も開示され（８頁３０行～３１行），液体の圧力の例示としては，「１０バール」（６頁４８行），「８０バール」（５頁３１行），「１００バール」（６頁５０行）及び「１０００バール」（７頁３行）が記載されていることを総合するならば，当業者であれば，明細書の記載に基づいて過度の試行錯誤なく実施可能であると考えられる。
この点，被控訴人は，乙１６，１７を根拠として，液体供給空間の高さを変化させた場合，レーザーの入力の増大に伴う出力の変化は，線形となる場合もあれば，突然に，非線形的かつ特異的な挙動を示す場合もあり，熱レンズの形成は予測が困難な程度に特異的に起こり得るとも主張する。しかし，被控訴人の指摘する証拠（例えば，乙１６の図４，５）は，水ジェット（液体ビーム）へのレーザー光の導光試験における水ジェット入射前レーザーの出力と同入射後の出力との関係から，熱レンズ現象の発生に関与する要因の一つについて検証をしたものと理解できる。その試験結果（乙１６の図４，５）は，使用するレーザーと液体の種類に応じて定まるエネルギー吸収の程度が高い場合（ＹＡＧレーザー基本波）であれば，出力の低い範囲では入射後のレーザー出力が順次増加するものの，出力の高い範囲では，水がレーザーのエネルギーを吸収することによる熱的影響（熱レンズ）から，レーザーが拡散し，その分出力が漸次低下していることが認められる。反対に，エネルギー吸収の程度が低い場合（グリーンレーザー）では，ＹＡＧレーザー基本波での出力が低い範囲での挙動と同様の挙動が，試験した出力の範囲内全域において認められる。このような乙１６の図４，５に見られる挙動は，熱レンズ現象発生の機序に照らして，何ら特異なものではなく，相当程度予測できる範囲のものといえる。したがって，本件各訂正発明を実施するに当たって，熱レンズの形成を予測することが困難であるとも，特異的な挙動を示す場合があるとも認められず，被控訴人の当該主張は採用できない。
ウ被控訴人は，「損傷」が，どのような程度か不明であるとして，実施可能要件違反を主張する。しかし，「損傷」の意義は前記１(1)イ(ｳ)のとおりであり，被控訴人の主張は採用の限りではない。
エ以上によれば，本件訂正後の発明の詳細な説明の記載は，実施可能要件を満たす。(2)   無効理由２（特許請求の範囲の記載不備）についてア被控訴人は，本件訂正発明１，５及び９の特許請求の範囲の記載は，「特許を受けようとする発明の構成に欠くことができない事項のみ」を記載したものとはいえないから，本件各訂正発明には，旧特許法３６条５項２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされた無効理由（同法１２３条１項４号）があると主張する。イ   しかし，被控訴人の主張は，以下のとおり失当である。すなわち，本件明細書の【図２】，【図３】及び本件明細書に「同軸的に分配された複数の軸線方向液体通路６１ａ及び６１ｂ」から液体供給空間３５に流れ込む旨の記載（８頁１５行～１６行）を参照すれば，①「せき止め空間」，「せき止め空間のない」，「液体の流速が，十分に高く」の意義については，前記１(1)イのとおりであり，「フォーカス円錐先端範囲（５６）における液体の流速が，十分に高く」とは，フォーカス円錐先端範囲の全体において，前記のとおりに液体の流速を十分に高くするとの趣旨であると理解され，また，②「ノズル入口開口の周り」とは，フォーカス円錐先端範囲及びその近傍と理解され，「周辺」とは，「ディスク状液体供給空間内の内周壁の近傍」であるとの趣旨であると合理的に理解することができる。以上のとおりであり，本件各訂正発明１，５及び９に係る特許請求の範囲の記載には，被控訴人の主張に係る不備はない。
(3)無効理由３（乙Ａ１に基づく新規性欠如）及び無効理由４（乙Ａ１を主引例とする進歩性欠如）について
ア被控訴人は，本件各訂正発明は，乙Ａ１に記載されている発明であるか，乙Ａ１に記載された発明と周知技術によって容易に想到することができた発明である旨を主張する。イ   各文献の記載内容
(ｱ)本件各訂正発明１に係る特許請求の範囲の記載は，次のとおりである（ア’ないしキ’は分説記号である。）。発明の詳細な説明の記載は，前記第４，１(1)ア(ｱ)記載のとおりである（本件訂正は特許請求の範囲の記載のみに係るものである（甲１８）。）。
「ア’収束されるレーザービームによる材料加工方法であって，レーザービーム（３）を導く液体ビーム（１２）がノズル（４３）により形成され，加工すべき加工片（９）へ向けられるものにおいて，前記ノズル（４３）の上面と，前記ノズル（４３）の上方に配置されるとともに前記レーザービーム（３）に対して透明な窓（３６）の下面との間には，前記液体ビーム（１２）を形成するための液体を供給するディスク状液体供給空間（３５）が形成され，前記ノズル（４３）は，ノズ
ル通路（２３）のノズル入口開口（３０）を有し，
イ’レーザービームガイドとして作用する液体ビーム（１２）へレーザービー


ム（３）を導入するため，
ウ’前記レーザービーム（３）がノズル（４３）のノズル通路（２３）の前記
ノズル入口開口（３０）の所で収束され，
エ’前記ディスク状液体供給空間（３５）へ供給される液体が，前記ノズル入口開口（３０）の周りにおいてせき止め空間のないように前記ノズル（４３）からの前記窓（３６）の高さを設定した前記ディスク状液体供給空間（３５）内を前記ノズル入口開口（３０）に向かって周辺から流れるように導かれ，オ’それによりレーザービームのフォーカス円錐先端範囲（５６）における液
体の流速が，十分に高く決められるようにし，
カ’したがってフォーカス円錐先端範囲（５６）において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧されることを特徴とする，キ’   材料を加工する方法。」
(ｲ)乙Ａ１（ヨーロッパ特許第０５１５９８３Ａ１号公報，以下訳文による。）には，次のとおりの記載がある。
「特許請求の範囲
１．材料アブレーション装置，特に歯科用ハンドピース（１）において，ボディー（４）および作業ヘッド（５）を画定するケース（２）と，コヒーレント光ビーム（１０）を作業表面まで伝播および案内する光学的手段（６，１６，２２，３２；５０，５２，６６）であって，光軸（１８）を画定し，コヒーレント光発生源（１２）に接続されるようになっている光学的手段と，加圧流体を前記作業ヘッド（５）まで供給し，加圧液状流体発生源（２６）に接続されるようになっている
配管手段（２４，３０；６２）と，
前記配管手段（２４，３０；６２）の下流側の前記作業ヘッド（５）内に位置し，液状流体噴流（３２）を形成するためにこれらの手段に通じているノズル（２０；６４）を備え，前記ノズル（２０；６４）の管路（４４）が前記光軸（１８）とほぼ一直線になり，前記配管手段が，前記ノズル（２０；６４）のすぐ上流側に位置し前記加圧液状流体を受け入れるようになっている少なくとも１つの体積（４６；６０）を備えるチャンバー（３０；６２）を含み，コヒーレント光ビーム（１０）が前記ノズル（２０；６４）の管路（４４）に入る前にこのコヒーレント光ビームが前記体積（４６；６０）を横断し，前記液状流体が，加圧された状態で前記体積（４６；６０）内および前記ノズル（２０；６４）の管路（４４）内に供給されること，ならびにこのノズルにより発生した前記液状流体噴流（３２）が，前記コヒーレント光ビーム（１０）の光学的伝播および案内手段となることを特徴とする装置。
２．前記光学的伝播および案内手段が，
基本的に，グリップボディーとなる前記ボディー（４）の領域内の前記ケース（２）の内部に位置する光ファイバー（６）であって，端面（８）が前記作業ヘッド（５）の領域内に位置する光ファイバー（６）と，光ファイバー（６）の前記端面（８）の下流側であって前記ノズル（２０）の上流側の前記作業ヘッド（５）の領域内に位置し，焦点がノズル（２０）の前記管路（４４）の内部に位置するよう前記コヒーレント光ビーム（１０）の焦点を合せるのに使用される前記コヒーレント光ビーム（１０）の合焦手段（２２）を備えることを特徴とする，請求項１に記載の装置。」（原文１１欄２７行～１２欄３３行。訳文１０頁１行～２８行）
「本発明は材料アブレーション装置に関し，より詳細には，コヒーレント光ビームを使用する歯科用ハンドピースに関する。そのような装置はまた，コヒーレント光ビームにより処理された表面に到達する液状流体噴流を形成させるための手段も備える。」（原文１欄１行～７行。訳文１頁１２～１４行）「ノズルのすぐ上流側に位置する体積は，膨張チャンバーとなるチャンバー内に含まれる。この膨張チャンバーにより，加圧状態で供給される流体の準よどみが確保される。」（原文４欄５～９行。訳文３頁３１～３２行）」
「このハンドピース１は，グリップボディー４ならびに作業ヘッド５を有するケース２を備える。ケース２の内部には，コヒーレント光ビーム１０を光ファイバー６の端部８まで伝播および案内するための手段となる光ファイバーが設置される。光ファイバー６は，コヒーレント光ビーム１０のフレキシブル伝播案内手段１４によりコヒーレント光発生源１２に接続されるようになっている。フレキシブル手段１４は光ファイバー６の延長部により形成されるのが好ましく，そうすることにより２つの伝播案内手段間での接続を回避することができる。コヒーレント光発生源１２はたとえば，パルスモードで供給されマルチモードまたは基本モードＴＥＭ００で動作するＮｄ：ＹＡＧタイプのレーザーで構成される。もちろん他の種類のレーザーも使用することができる。」（原文６欄１１～２８行。訳文５頁２０～２８行）「したがってチャンバー３０により加圧液状流体の準停留が確保され，その後，この流体はノズル２０の管略に入り，液状流体の層流噴流３２が形成される。チャンバー３０は，ノズル２０と最後尾合焦レンズ３４の間に位置する体積を画定し，このレンズは，コヒーレント光ビーム１０がチャンバー３０内に入ることができるよう，合焦光学部２２とチャンバーの間に透明なウインドウ３６を画定する。こうすることにより，最後尾合焦レンズ３４から出たコヒーレント光ビーム１０は，膨張チャンバー３０内にある加圧液状流体内を直接伝播する。したがって合焦光学部２２を出たところの界面は，レンズ－液状流体界面である。このようにビーム１０は加圧液状流体内をノズル２０の管路の入口まで伝播し，次に液状流体の層流噴流３２と結合される。するとこの層流噴流３２はコヒーレント光ビーム１０用の光導波路となる。」（原文７欄３２～５２行。訳文６頁２６～３５行）


「管路２４によって供給される加圧液状流体は膨張チャンバー３０に到達し，このチャンバー内で順定常状態に保たれる。チャンバー３０からはこの液状流体はノズル２０の管路４４を通過し，液状流体の層流噴流３２を形成する。」（原文８欄３１～３６行。訳文７頁１９～２１行）「ノズル２０のレベルにおいて光エネルギーの大きな損失を防止し，特に乱流のリスクを制限するためには，長さが比較的短い管路が有利であり，この管路がコヒーレント光ビーム１０の光軸１８に完壁に一致していることが最も重要である。液状流体噴流３２内においてコヒーレント光ビーム１０の最良の結合が得られるようにするために，焦点がノズル２０の管路４４の内部に位置しかつコヒーレント光ビーム１０の包絡線４５がノズル２０の管路４４の壁に触れないようにして，コヒーレント光ビーム１０が合焦される。したがってそのような特性を保証する合焦光学部が設けられる。」（原文８欄５８行～９欄１５行。訳文７頁３３～８頁５行）「加圧液状流体中を伝播するコヒーレント光ビーム１０にとって高品質な光路を保証するために，膨張チャンバー３０の内部にある自由体積４６は，最後尾の合焦レンズ３４とノズル２０の管路４４の入口の間を通るコヒーレント光ビームが通過する体積の全部は少なくとも包含する。次に，管路４４の入口側に収束するコヒーレント光ビーム１０は界面を通過することなく管路４４に入るが，この管路４４自体は完全に自由である。」（原文９欄２９～４０行。訳文８頁１２行～１７行）」「したがって自由体積４６内にある液状流体自体も加圧されており，これにより液状流体の均質性が増加し，したがってこの自由体積４６の内部のコヒーレント光ビーム１０のための光路の品質が向上する。上で記載した種々の適切な手段により発生する液状流体噴流３２は，ノズル２０の管路２４の入口から少なくとも１cm程度の距離までは完全に層流である。」（原文９欄４６～５６行。訳文８頁２０～２６行）(ｳ)乙２０のＡ１３（特開昭５０－１１８１２１号公報）には，次の記載がある。「本発明は，・・・特に燃料用の噴出ノズルに関する。・・・本発明の目的は，・・・様々な燃料で内燃機関を運転し得るようにした，噴出ノズルを提供することである。」（１頁左下欄下３行～右下欄１１行）「本発明は・・・次のように構成されている。旋回室が本質的に，ノズル体における環状の凹部とここに取付けられたカバープレートから形成され，カバープレートが旋回室によって区画されたノズル体の芯部の端面と共に円板状の間隙を形成し，カバープレートに存する出口開口部が円板状の間隙を介して旋回室と通じており，出口開口部の断面が間隙の周面よりも数倍大きく構成されている。公知の構造の場合にはノズルの最も狭い位置が噴出孔であったが，本発明によりこれは噴出孔の前に配設される。これにより，従来この技術分野で達成できないと考えられていたような噴出比が得られる。本発明の有利な構成によれば，ノズル体の芯部に，出口開口部と整列していてしかも流れ方向において円板状間隙の後方で且つ出口開口部の前方に配設された孔が設けられている。孔により形成された鋭い縁部は良好な噴霧に寄与する。
本発明のさらに他の構成により，ノズル体の芯部に存する孔が貫通孔として構成され且つ逆行路を形成するようにすれば都合が良い。」（１頁右下欄１２行～２頁左上欄１４行）「第４図に示すように受入室１１と旋回室１２との間には接線方向の旋回路１３が形成されており，前記旋回室１２は内方の環状溝７とカバープレート８とにより形成されている。旋回室１２により囲まれたノズル本体５の芯部１４における端面と，カバープレート８とにより円板状の間隙１５が形成され，該間隙の周面は，カバープレート８における出口開口部９断面よりも何倍も小さく形成されている。
さらにカバープレートを芯部１４の端面に弾性的に当て，したがって円板状の間隙１５を実際上零に等しいように対接させ，そして相当する噴出圧力が生じた際に初めにわずかだけ広げるように構成することができる。」（同２頁右上欄９行～左下欄２行）
(ｴ)乙２０のＡ１４文献（特開平６－４２４３２号公報）には，次の記載がある。「【産業上の利用分野】本発明は，ノズル本体が流入通路と，それに接続された，渦流室の方へ向いている接線方向の渦流通路と，ノズルコア内に設けられた中央の戻し通路とを備え，渦流室が実質的にノズル本体の出口側の端面に形成された環状の溝と，このノズル本体の端面に固定された，中央の出口を有する被覆板とによって形成され，この被覆板がノズルコアと共に，円板状の隙間を形成し，この隙間が一方では渦流室を被覆板の出口に接続し，他方では渦流室を戻し通路に接続し，出口の横断面積が円板状隙間の外周面積の数倍の大きさであり，被覆板がノズル本体を取り囲むノズルケーシングのつばに載っている，液状媒体，特に燃料のための噴射ノズルに関する。」（段落【０００１】）
「【従来の技術】このような噴射ノズルはドイツ連邦共和国特許第２４０７８５６号明細書によって知られており，0.05～10kg/hの噴出量に適することが実証されている。環境を汚さないようにする要求や燃焼装置やエンジンの経済性に対する要求が高まって来ており，噴出量をきわめて少ない量に低減する必要がある。この場合，噴射流を非常に正確に形成することが非常に重要である。これは非常に正確な製作を前提条件として必要とする。」（段落【０００２】）
「被覆板とそれに固定されたノズル本体を単に挿入するだけでは，誤差が異なるときに噴射状態が非常に乱れ，特に噴射流の形が乱れ，そしてノズルの組み立て分解時に新たな誤差を生じることが判った。良好な噴射状態とするためには，噴射通路と出口とをきわめて正確に一直線上に並べることと，噴射流の偏向を回避するために渦流室に対して出口をきわめて正確にセンタリングすることが必要である。」（段落【０００３】）「【発明が解決しようとする課題】本発明の根底をなす課題は，公知の噴射ノズルの噴射精度を改善することである。」（段落【０００４】）
「【課題を解決するための手段】この課題は冒頭に述べた種類の噴射ノズルにおいて本発明に従い，被覆板の直径がノズル本体の直径よりも小さく，ノズル本体がその出口側の端面に，被覆板を形状補完的に収容するための中央の窪みを備え，窪みの深さが被覆板の厚さよりも浅いことによって解決される。これにより，被覆板が渦流室の中心にきわめて正確に保持され，それによって出口が渦流室の中心に配置されないことによる噴射流の偏向が回避される。」（段落【０００５】）


「噴射媒体は高圧で渦流室に達し，この渦流室内で強い渦流を生じる。そして，噴射媒体は渦流室によって囲まれたノズルコアと被覆板との間の円板状の隙間を高圧で流れて，非常に加速されてあらゆる側から被覆板の出口内に直接達し，ここで噴霧が行われる。」（段落【０００６】）「図１は，液状媒体，例えば燃料のための噴射ノズルの下側部分を示している。この噴射ノズルは中央の穴２を有するノズルケーシング１を備えている。この穴の出口側の端部はつば３によって直径が縮小している。」
（段落「【００１２】）
「ノズル本体４の下側端面５は更に，中央の窪み１１を有する。この窪みは被覆板１２の厚さの一部を形状補完的に収容する働きをする。被覆板は前述の溝６，７を被覆し，溝７によって包囲されたノズルコア１４の端面１３と共に，円板状の隙間１５を形成する。この隙間の外周面積は被覆板１２内の中央の出口１６の横断面積よりもはるかに小さい。更に，被覆板１２は溝６と共に収容室を形成し，かつ溝７と共に噴射媒体用渦流室１８を形成する。」（段落【００１５】）
「数μの厚さである被覆板１２は好ましくは弾性材料，例えばばね鋼からなり，ノズルコア１４の端面１３に次のように接触している。すなわち，静止位置で円板状の隙間１５の厚さが零であり，適当な噴射圧力のときに初めてほんの少し大きくなるように接触している。」（段落【００１６】）「被覆板１２の出口１６はそのノズルコア１４側に，窪み２２を備えている。この窪みの深さは被覆板１２の厚さの主要な部分を占めている。この窪みは，大きな加速を受けて円板状隙間１５を通って来る噴射物のために，この噴射物があらゆる側から異なる速度および量で渦流室に流れるときにも，静め室を形成する。これによって，噴射物が出口１６の横断面積全体にわたって均一に分配された圧力で流出することにより，噴霧流が変形したり偏向することが回避される。」（段落【００２０】）「図２に更に示すように，ノズルケーシング１のつば３は円錐形の窪みを有する。この窪みは円錐形の噴出口２３を形成している。この噴出口の開放角度βは１００°よりも大きい。」（段落【００２１】）「この構造により，噴霧流の円錐形の境界層２４上で空気が吸い込まれる。この空気は噴出口２３の壁に沿って出口１６まで移動し，妨害する噴射物フィルムの堆積を防止する。この噴射物フィルムは噴射流を偏向し，流出口を変更する。この構造は同時に噴射ノズルの自己清掃を生じる。」（段落【００２２】）(ｵ)乙Ａ４（特開昭６０－１９３４５２号公報）には，「ウォータージェット型レーザー治療装置」において，「レーザー光（１０）としては，水による吸収の少ない波長を選択する必要があり，可視域から近赤外領域の波長が適している」（２頁左下欄５～７行）として，レーザー光は水による吸収の少ない波長を選択する必要がある旨が記載されている。
ウ新規性について
(ｱ)前記イ(ｲ)によれば，乙Ａ１には次の内容の発明（以下「乙Ａ１発明」という。）が記載されていると認められる。
「合焦されるレーザービームによる材料アブレーション方法であって，レーザービーム１０を導く液状流体噴流３２がノズル２０により形成され，加工すべき材料
へ向けられるものにおいて，
前記ノズル２０の上面と，前記ノズル２０の上方に配置されるとともに前記レーザービーム１０に対して透明なウインドウ３６の下面との間には，前記液状流体噴流３２を形成するための液体を供給するチャンバー３０が形成され，前記ノズル２０は，ノズル通路のノズル入口開口を有し，レーザービームガイドとして作用する液状流体噴流３２へレーザービーム１０を
導入するため，
レーザービーム１０がノズル２０の管路４４の入口開口の所で合焦され，チャンバー３０内に加圧液状流体の準停留，順定常状態が確保される，材料アブレーション方法。」
(ｲ)乙Ａ１発明と本件訂正発明１とを対比すると，次の一致点及び相違点が存在すると認められる。
ａ一致点
「収束されるレーザービームによる材料加工方法であって，レーザービームを導く液体ビームがノズルにより形成され，加工すべき加工片へ向けられるものにおい
て，
前記ノズルの上面と，前記ノズルの上方に配置されるとともに前記レーザービームに対して透明な窓の下面との間には，前記液体ビームを形成するための液体を供
給する液体供給空間が形成され，
前記ノズルは，ノズル通路のノズル入口開口を有し，
レーザービームガイドとして作用する液体ビームへレーザービームを導入するた
め，
前記レーザービームがノズルのノズル通路の前記ノズル入口開口の所で収束され，
液体供給空間へ液体が供給される，
材料を加工する方法。」
ｂ相違点１
「『液体供給空間』について，本件訂正発明１は『ディスク状』であるが，乙Ａ１発明はそのようなものではない点。」
ｃ相違点２
「液体供給空間への液体の供給について，本件訂正発明１は，『ディスク状液体供給空間（３５）へ供給される液体が，ノズル入口開口（３０）の周りにおいてせき止め空間のないように前記ノズル（４３）からの前記窓（３６）の高さを設定した前記ディスク状液体供給空間（３５）内を前記ノズル入口開口（３０）に向かって周辺から流れるように導かれ，それによりレーザービームのフォーカス円錐先端範囲（５６）における液体の流速が，十分に高く決められるようにし，したがってフォーカス円錐先端範囲（５６）において，レーザービームの一部がノズル壁を損傷しないところまで，熱レンズの形成が抑圧される』ものであるが，乙Ａ１発明は，『チャンバー３０内に加圧液状流体の準停留，順定常状態が確保される』ものであり，『熱レンズの形成が抑圧される』か不明である点。」(ｳ)以上のとおり，本件訂正発明１と乙Ａ１発明との間には，前記の相違点１及び相違点２が存在し，実質的にも異なる作用効果を奏するから，本件訂正発明１は新規性を有し，同様に，本件訂正発明５及び９も新規性を有すると認められる。なお，被控訴人は，乙Ａ２（日本洗浄協会「産業洗浄」昭和５７年９月１０日発行）及び乙Ａ３（Ｃほか「医療用赤外中空ファイバの開発」日立電線No.２４（２００５－１））を前提とするならば，相違点に係る構成は乙Ａ１に実質的に開示されているとの趣旨を主張するものとも解される。しかし，前者には，ノズルからの噴射水量とノズル口径及び噴射圧力の関係が記載され，後者には，各種レーザーの水に対する吸収係数がレーザーの波長により大幅に異なることが記載されているにすぎないから，これによって相違点に係る構成が乙Ａ１に実質的に記載されていると認めることはできない。


エ進歩性について
(ｱ)被控訴人は，相違点１に係る構成は，乙２０のＡ１４及び乙２０のＡ１５に記載されているとおり周知であり，また，相違点２に係る構成は，ノズル損傷の原因たる熱レンズ現象を抑制するため流体が滞留しないように，ディスク状として周辺から流体を供給する構成を採用することは容易であると主張する。しかし，被控訴人の上記主張は，いずれも採用することはできない。すなわち，
(ｲ)相違点１について
本件訂正発明１は，収束されるレーザービームによる材料加工方法であってレーザービームを導く液体ビームがノズルにより形成されて加工すべき加工片へ向けられる加工方法における「ディスク状」の「液体供給空間」を対象とする発明である。これに対し，乙２０のＡ１３は，前記イ(ｳ)のとおり，内燃機関に用いられる燃料用の噴出ノズルに関し，従来この技術分野で達成できないと考えられていたような噴出比を得ることを課題とするものであり，本件訂正発明１とは技術分野及び解決機序において相違する。また，乙２０のＡ１３は，前記課題を解決するために，カバープレートが旋回室によって区画されたノズル体の芯部の端面と共に円板状の間隙１５を形成し，カバープレートに存する出口開口部が円板状の間隙１５を介して旋回室と通じ，出口開口部の断面が間隙の周面よりも数倍大きく構成することを中核的解決手段としているものであって，出口開口部の断面が間隙の周面よりも数倍大きく構成されていることに鑑みれば，「円板状の間隙１５」のみを独立した空間と捉えるのは不自然であり，むしろ，出口開口部と一体の空間，そして，好ましくはさらに出口開口部と整列して形成される孔も含めた一体の空間として課題を解決するものである。さらに，「円板状の間隙１５」を実際上「零」に等しいように対接させる態様もあり得るものとされており，もはや「ディスク状」の形状の空間を備えているものとはいえないというべきである。
また，乙２０のＡ１４に記載された発明は，前記イ(ｴ)のとおり，燃焼装置やエンジンに用いられ，燃料のような液状媒体のための噴出ノズルに関し，噴射精度を改善するというものであり，本件訂正発明１とは技術分野及び課題解決の機序において相違する。しかも，乙２０のＡ１４は，前記課題を解決するために，被覆板の直径がノズル本体の直径よりも小さく，ノズル本体がその出口側の端面に，被覆板を形状補完的に収容するための中央の窪みを備え，窪みの深さが被覆板の厚さよりも浅く構成することを中核的解決手段としているものであって，円板状の隙間１５の外周面積は被覆板１２内の中央の出口１６の横断面積よりもはるかに小さく構成されていることに鑑みれば，「円板状の隙間１５」のみを独立した空間と捉えるのは不自然であり，むしろ，出口と一体の空間として所要の機序を備えるものである。さらに，乙２０のＡ１４では，静止位置で「円板状の隙間１５」の厚さが「零」であり，適当な噴射圧力のときに初めてほんの少し大きくなるように接触する態様もあり得るものとされていることに照らすならば，「ディスク状」の形状の空間を備えているものとはいえない。以上によれば，本件訂正発明１の「ディスク状」「液体供給空間」が乙２０のＡ１３や乙２０のＡ１４から周知ということはできない。
(ｳ)相違点２について
乙２４（被控訴人従業員Ｂ作成の陳述書）によれば，ＹＡＧレーザー基本波が水を熱し，その屈折率を変えることを観察することができることまでは認められ，また，乙１９のＡ９（「JournalofApplied   PhysicsVol.36,No.36   pp.3-8」），乙２０のＡ１６（特開平６－１１２５７５号公報），乙２０のＡ１７（特開平６－５９６２号公報）によれば，本件特許の優先日（平成６年５月３０日）当時，レーザービームの加熱による熱レンズ現象と呼ばれる物理的現象が生じることについては，一般的に知られていた事項と認められる。しかし，上記各証拠は，熱レンズ現象がある旨を示すにとどまり，流れのある液体に関して熱レンズ現象の発生や消失に関し，これを利用，制御するなどの手段が知られていたことを示すものではない。乙Ａ１発明は，液体を「準停留状態」にすることによって所定の課題を解決する発明と認められるから，同発明を起点として，「準停留状態」と異なる「液体がよどむことなく流れる」との構成に想到することが容易であるとはいえない。以上よりすれば，相違点２に係る構成が，当業者において容易に想到することができたとは認められないというほかない。
(4)本件各訂正発明の技術的範囲に属することについて被告製品を使用する加工方法が，本件訂正発明１の構成要件ア’ないしウ’及びキ’を充足することは，原判決の「２争いのない事実等」の(4)ウ（原判決１２頁）のとおりである。構成要件オ’及びカ’は，それぞれ構成要件オ及びカと同一の内容であり，前記１(1)のとおり，被告製品を使用する加工方法は，構成要件オ’及びカ’を充足する。構成要件エ’は，構成要件エに，液体供給空間が「ディスク状」であるとの限定及び液体が「ノズル入口開口（３０）に向かって周辺から流れるように導かれ」るとの限定を付加するものである。被告製品の液体供給空間の形状が「ディスク状」であることについては，前記１(2)イのとおりであり，分配流路２１，連絡流路２２の外周面及び液体貯蔵室２３の外周面を伝ってノズル入り口開口に向かって液体が流れるように導かれている（乙８の１，８の２）から，被告製品は，構成要件エ’を充足する。よって，被告製品は，本件訂正発明１の技術的範囲に属する。
被告製品は，本件訂正発明５の構成要件ケ’及びス’を充足することは，原判決の「２争いのない事実等」の(4)ウ（原判決１２頁）のとおりである。また，被告製品は，上記のとおり本件訂正発明１の方法を実施する装置であり，構成要件ク’を充足する（乙８の１，８の２，弁論の全趣旨）。構成要件コ’は，構成要件エ’と共通であるから上記のとおり充足する。構成要件サ’及びシ’も，構成要件サ及びシと共通であり，前記１(2)アのとおり，それぞれ充足する。よって，被告製品は，本件訂正発明５の技術的範囲に属する。
被告製品は，本件訂正発明９の構成要件セ’を充足することは，争いがない（原判決の「２争いのない事実等」の(4)ウ）。被告製品は，構成要件ソ’も充足する。以上によれば，被告製品及び被告製品を使用する加工方法は，本件訂正発明１，５及び９の技術的範囲に属する。
(5)小括


以上によれば，本件各訂正発明には被控訴人主張に係る無効理由はなく，被告製品及び被告製品を使用する加工方法は，本件訂正発明１，５及び９の技術的範囲に属する。したがって，本件各発明が特許無効審判により無効にされるべきものであるとしても（争点２），本件各訂正発明には無効理由はないことからすれば，本件訂正によって無効理由は解消されていると認められ，かつ，被告製品及び被告製品を使用する加工方法は本件訂正発明１，５及び９の技術的範囲に属するから，いずれにしても，訂正による対抗主張は成立しており（争点３），結局，本件特許権の行使が特許法１０４条の３第１項に基づいて制限されるものではない。
３争点４（控訴人の損害額）について
本件の争点，本件の難易度・複雑性，本判決に至るまでの係属期間等，本件に現れた一切の事情を考慮すれば，弁護士費用としては４００万円（及びこれに対する訴状送達の日の翌日（平成２０年５月２７日）から支払済みまで民法所定の年５分の割合による遅延損害金）を相当と認める。
４その他について
(1)被控訴人は，被告製品を設計変更したので，「控訴人のいう物件目録記載の装置・方法を製造販売していない」とも主張する。被控訴人が本件特許権の侵害を争っていること及び被控訴人が被告製品の製造能力を有すること等を総合するならば，本件において，仮に被控訴人が設計変更をした事実があったとしても，その事実のみによっては，本件特許権を侵害するおそれがなくなったとまではいえない。(2)本件訴訟では原審で秘密保持命令が発令されているが，秘密保持命令に係る手続に関し，以下の２点について付言する。
ア第１に，控訴人は，その代表者等において秘密記載文書（乙８の１・８の２）を閲覧できなかったことについて問題がある旨主張する。しかし，秘密記載文書については，閲覧等の制限（民事訴訟法９２条１項）など秘密保護の規定が存するものの，「当事者」（当事者の法定代理人を含む。）に関する限り，秘密保持命令の発令に至るまでの協議の過程で，当該当事者が営業秘密の開示を受けないことが合意されていたような特段の事情が存在する場合を除き，その閲覧（同法９１条１項）が制限されることはない。そこで，特許法は，特許法１０５条の６第１項所定の「当事者」（民事訴訟法９２条１項の「当事者」と同義と解される。）から秘密記載部分の閲覧請求がされた場合に，その者が秘密保持命令を受けていない者であるときは，秘密保護を要する当事者のために，所定の期間を設けて秘密保持命令を申し立てる機会を付与している（同条２項参照）。本件においても，控訴人代表者は控訴人の法定代理人であると解されるから，かかる特段の事情がない限り秘密記載文書の閲読が許されるのであり，控訴人の指摘は当たらない。イ第２に，本件訴訟では，準備書面等に，秘密記載文書の写しが添付されている。しかし，このような営業秘密に関する安易な取扱いは，秘密漏洩を防止するための記録管理をいたずらに煩雑にさせ，また，漏洩の危険性を著しく高めることになる。準備書面等に営業秘密の内容に言及する場合には，営業秘密の内容を準備書面等に転記するような方法を避けた，秘密記載文書（原本）における掲載箇所（開始頁及び行と終了頁及び行、図面の番号）の特定にとどめるなどの工夫をすることにより，営業秘密が拡散することのないよう，配慮をすべきである。
５結論
被控訴人はその他縷々主張するが，いずれも採用の限りではない。以上によれば，控訴人の請求は主文第２項ないし第５項の限度で認容され，その余の請求は理由がないから棄却すべきである。よって，主文のとおり判決する。
知的財産高等裁判所第１部
裁判長裁判官
飯      村      敏      明
裁判官
八      木      貴美    子
裁判官
小      田      真      治
（別紙）                物件目録
製品名    ウオータービームマシン
製品番号ＷｂＭ４０３２，ＷｂＭ３０２５
（別紙）                    本件明細書の図面
【図１】
図２】                                【図３】（別紙）                    乙Ａ１の図面図１】
図２】
【図３】，【図４】，【図５】
（別紙）                乙２０のＡ１３の図面図４】
【図５】
（別紙）                乙２０のＡ１４の図面図１】
【図２】
（別紙１）          被告製品の概要
１全体構成
被告製品は，噴流液柱内に導かれたレーザー光により熱影響の少ない加工を目的とする加工装置である。
全体構成は，別添模式図１に示すとおり，主要構成はグリーンレーザー発振器１と，高圧水を噴射するノズル７及びそのノズル７上流側に隣接して設けられ高圧水をノズル７に供給する液体貯留空間を備えた加工ヘッド６と，レーザー光１１をノズル７に導くための光学装置２と，ノズル７に高圧水を供給する液体供給手段３と，からなる。
２各構成部分の説明
(1)加工ヘッド部の構成（別添模式図２参照)
略円筒形状に形成されたハウジング５と，ハウジング５内の上部に収容された光学装置２と，光学装置２の下方に配設された液体貯留空間と，下方に配設されたノズル７と，からなる。
ア光学部の構成（別添模式図２－１参照)
光ファイバ１０に結合された光学装置２は，ハウジング５の頂部から放射されたレーザー光１１を平行光に変換するコリメートレンズ１２と，コリメートレンズ１２で変換された平行光をノズル７の入口開口部に集光する集光レンズ１３と，液体貯留空間の上方に隣接して配設されレーザー光１１を導入するウインド１４と，からなる。
イノズル部の構成（別添模式図２－２参照)
ノズル７は，いわゆるオリフィスノズルを使用している。また，ノズル径は４０～２００μｍのものが使われる。
ウ配管流路(層流形成流路)の構成
液体貯留空間は，液体供給手段３から供給された噴流液体である高圧水を貯留してノズル７に供給する液体貯留室２３を備えている。液体貯留室２３は，ノズルの軸線Ｇ方向下流側が上流側よりも縮径された逆円錐台形状として形成されている。
また，連絡流路２２の外周面と液体貯留室２３の外周面とは，段差がなく同一面上に連続するように延設されている。また，外周面に沿う方向は，ノズル７の軸線Ｇ方向に対して内側（ノズル７側）に傾斜している。かかる構成により，分配流路２１に貯留された高圧水は連絡流路２２から液体貯留室２３の外周面の傾斜を伝わるように導入されることで，流体の流れが整えられ，液体貯留室２３に貯留されノズル７に高圧水が供給される。
(2)ポンプ


平成２６年８月７日判決言渡
平成２５年（行ケ）第１０３３４号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成２６年６月２４日
判            決
原         告                    Ｘ被            告        特許庁   長官指定    代理    人       北      川    清    伸同                      土      屋    知    久同                        相      崎    裕    恒同                        堀      内    仁    子
主               文
１原告の請求を棄却する。
２訴訟費用は原告の負担とする。
事実    及び    理由
第１請求
特許庁が不服２０１２－２５３３６号事件について平成２５年１０月８日にした審決を取り消す。
第２前提となる事実
１特許庁における手続の概要（弁論の全趣旨）
原告は，発明の名称を「半導体装置の製造方法」とする特許について，平成２２年３月３１日，特許出願（特願２０１０－８０７６２号。平成１７年２月４日を国際出願日とする特許出願（特願２００５－５１７７４１号。優先権主張・平成１６年２月９日）の分割出願である。以下「本願」という。）をし，平成２４年２月３日付けの手続補正書により，特許請求の範囲の補正をした。原告は，同年４月９日付けで拒絶理由（最後）の通知を受けたので，同年６月２８日付けの手続補正書により，特許請求の範囲の補正をしたが，同年８月２９日付けで補正が却下されるとともに同日付けで拒絶の査定を受けたことから，同年１２月２０日，拒絶査定に対する不服の審判（不服２０１２－２５３３６号事件）を請求するとともに，同日付けの手続補正書により，特許請求の範囲及び明細書の補正（以下，併せて「本件補正」という。）をした。
特許庁は，平成２５年１０月８日，本件補正を却下するとともに，「本件審判の請求は成り立たない」との審決をし，その謄本を，同年１１月１６日，原告に送達した。
２本件補正前の特許請求の範囲
本件補正前の特許請求の範囲（請求項の数１４）の請求項７の記載は，次のとおりである（甲１３。以下，同請求項に記載された発明を「本願発明」といい，本件補正前の明細書と図面を併せて「本件明細書」という。）。「ＤＲＡＭ，フラッシュメモリ，マイクロプロセッサなどの半導体装置，または同一基板上に設けたＤＲＡＭ，フラッシュメモリ，マイクロプロセッサを含む半導
体装置を製造する方法であって，
半導体ウエハ上に絶縁膜または導電膜を含む皮膜を形成するステップと，前記皮膜上にフォトレジスト膜を形成するステップと，前記皮膜に形成する回路パターンのマスクを設計，作製するステップと，前記フォトレジスト膜を露光するステップと，を含み，前記マスクを設計，作製するステップは，被露光面とフォーカス合せのための校正用パターン，または転写パターンの結像位置合せのための校正用パターンの内の少なくとも一方の校正用パターンを含む回路パターンのマスクを設計，作製するス
テップであり，
前記フォトレジスト膜を露光するステップは，前記マスクを縮小投影露光装置の
所定の箇所に配置するステップと，
前記半導体ウエハ上への回路パターンの形成は，露光の際に所定の厚さとなるようにした透明な液体からなるウエハカバーを半導体ウエハ上に設けると共に，前記半導体ウエハを縮小投影露光装置の所定の箇所に配置するステップと，前記校正用パターンの透過光を利用して，露光光が前記ウエハカバーを透過させることに起因する前記縮小投影露光装置の投影レンズのフォーカス位置ズレ，または光軸との直交面上の結像位置ズレの少なくとも一方を校正するステップと，透明な液体からなるウエハカバーを透過した露光光により，前記フォトレジスト
膜を露光するステップであり，
露光後前記ウエハカバーを除去し，フォトレジスト膜を現像することによって半導体ウエハ上に回路パターンを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。」
３本件補正後の特許請求の範囲
本件補正後の特許請求の範囲（請求項の数１４）の請求項７の記載は，次のとおりである（甲１６。以下，同請求項に記載された発明を「本願補正発明」という。補正部分には下線を付した。）。
「DRAM，フラッシュメモリ，マイクロプロセッサなどの半導体装置，または同一基板上に設けたDRAM，フラッシュメモリ，マイクロプロセッサを含む半導体装置を
製造する方法であって，
半導体ウエハ上に絶縁膜または導電膜を含む皮膜を形成するステップと，前記皮膜上にフォトレジスト膜を形成するステップと，前記皮膜に形成する回路パターンのマスクを設計，作製するステップと，前記フォトレジスト膜を露光するステップと，を含み，前記マスクを設計，作製するステップは，被露光面とフォーカス合せのための校正用パターン，または転写パターンの結像位置合せのための校正用パターンの内の少なくとも一方の校正用パターンを含む回路パターンのマスクを設計，作製するス
テップであり，
前記フォトレジスト膜を露光するステップは，前記マスクを縮小投影露光装置の
所定の箇所に配置するステップと，
露光光が高屈折率の透明媒体からなるウエハカバーを透過してフォトレジスト膜を露光可能とし，前記透明媒体が液体であって均一厚さとする条件と，解像度が向上する透明媒体厚さの条件とを満たすウエハカバーを半導体ウエハ上に設けると共に，前記半導体ウエハを縮小投影露光装置の所定の箇所に配置するステップと，前記校正用パターンの透過光を利用して，露光光が前記ウエハカバーを透過させることに起因する前記縮小投影露光装置の投影レンズのフォーカス位置ズレ，または光軸との直交面上の結像位置ズレの少なくとも一方を校正するステップと，透明な液体からなるウエハカバーを透過した露光光により，前記フォトレジスト
膜を露光するステップであり，
露光後前記ウエハカバーを除去し，フォトレジスト膜を現像することによって半導体ウエハ上に回路パターンを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。」
４審決の理由


審決の理由は，別紙審決書写しに記載のとおりである。要するに，①本件補正は，願書に最初に添付された明細書，特許請求の範囲又は図面に記載した範囲内においてしたものとはいえないから，特許法１７条の２第３項の規定に違反するので，却下すべきである，②本件補正は，特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に当たるところ，本願補正発明は，特開平１０－３０３１１４号公報（甲９。以下「引用例」という。）に記載された発明（以下「引用発明」という。）及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって，特許法２９条２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから，本件補正は，平成１８年法律第５５号による改正前の特許法１７条の２第５項において準用する同法１２６条５項の規定に違反するので，却下すべきものである，そして，③本願発明は，本願補正発明の限定事項を省いたものであるから，本願発明も，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであり，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない，というものである。
第３原告の主張する取消事由
１取消事由１（前置報告書の認定の誤り）
不服審判の前置報告書（甲４）においては，「引用文献５に記載された発明において，投影光学系の開口数を１以上とするとともに，これに対応したマスクを作製することは，当業者が適宜なし得たことである。」と記載されている。しかし，引用文献５（甲５）に記載された投影光学系は，その開口数１以上とすることが自然科学技術上の基礎事実に反するから，当業者は，引用文献５により，投影光学系の開口数を１以上とすることが開示されていると解せないし，縮小投影レンズの開口数を１以上とする数値制限が想定できるとはいえない。本願補正発明は，開口数を１以上とする投影光学系を前提条件として，他の構成要件と組み合わせた手法を提示し，新たな効果が得られることを示した発明であるから，引用文献５から，当業者が適宜なし得たということはできない。したがって，前置報告書の上記記載は，自然科学技術上の基礎事実に反し，誤りである。そして，審決は，前置報告書が正しいということを前提としたものであり，前置報告書が誤っているのであるから，審決も誤っている。２取消事由２（最後の拒絶理由通知の認定の誤り）(1)最後の拒絶理由通知の内容は，以下のとおり誤っているから，審決も誤っている。
ア最後の拒絶理由通知には，引用文献１ないし５に記載された発明は，縮小投影レンズの開口数を１以上にし得るものであると記載されている。しかし，これらの引用文献の記載からは，投影光学系の開口数を１以上とすることが開示されているとは解せないし，縮小投影レンズの開口数を１以上とする数値制限まで想定できるとはいえない。一方，本件明細書には，投影光学系の開口数を１以上とすることが，平成２４年２月３日付けの補正（請求項１，３，５，９）及び平成２３年９月２２日付けの補正（請求項２，４，６，１０）に記載されており，これは本願にかかる発明の構成要件である。したがって，最後の拒絶理由通知の上記記載は誤っている。
イまた，最後の拒絶理由通知は，本願の各請求項の中の「所定の厚さ」の用語の技術的意味が把握できない旨を指摘しているが，引用文献１ないし５が「均一の厚さ」の透明媒体であるとの基準で選定されている事実等からすれば，審査官は，請求項の中の「所定の厚さ」という用語を，明細書全体の記述から「均一の厚さ」と解していたとしか解されず，「所定の厚さ」の技術内容が把握できていたことを示している。したがって，最後の拒絶理由通知の上記指摘には根拠がない。ウ最後の拒絶理由通知には，投影光学系の開口数１以上の露光装置に対応したマスクを当業者が容易に作製できると記載されている。しかし，引用文献１ないし５には，投影光学系の開口数１以上とする露光装置に対応するマスクは開示されておらず，投影光学系の開口数が１以上に対応するマスクの作製を当業者が容易に想定できるとはいえない。一方，本願の請求項１ないし６，９，１０は，投影光学系の開口数が１以上とする条件をマスクの回路パターンの作製条件に変える特殊なマスクを構成要件とするものである。したがって，最後の拒絶理由通知の上記記載は誤っている。
エ最後の拒絶理由通知には，請求項２，４，６，１０，１１に係る発明について，ＣＭＰ等によって各種の皮膜表面を平坦化することは，当業者が容易になし得たとの記載がある。しかし，これらの発明は，液浸露光の際に，ウエハステージの移動によって液体媒体中に微細な泡が発生する問題を指摘し，その微細な泡の発生を低減する手法を開示したものである。一方，引用文献１ないし５の発明は，液体中の投影露光に係わる発明であるが，すべて半導体ウエハが平坦として扱われ，特別に平坦化することを想定しておらず，半導体ウエハ上の微細な段差による微細な泡発生や，これを抑制するために絶縁膜や導電膜を平坦化することの開示がない。したがって，最後の拒絶理由通知の上記記載は誤りである。(2)被告は，１４個ある請求項のうち，請求項７については拒絶理由通知の理由がある旨主張する。しかし，同主張は，拒絶理由通知において，複数の請求項のうち１つでも理由があれば，該当しない請求項については拒絶理由通知の理由がなくてもよいとするものであり，拒絶理由通知の制度が存在する意義を無視した独善的見解である。「投影光学系の開口数１以上とする」ことを構成要件とする請求項１ないし６，９ないし１４については，拒絶理由通知の根拠がなく，最後の拒絶理由通知には，被告が主張する請求項の他の有効な特許請求項を潰すことになる重大な瑕疵がある。
(3)また，原告は，被告が主張する請求項７（本願発明）の拒絶理由をそのまま認めた訳ではない。
請求項７は，露光光が透過する液体の透明媒体に対して，「所定の厚さ」である条件を構成要件としている。ところが，被告が提示した引用例には，当該発明者が意図した発明の特徴を示すため，明らかに透明媒体の厚さが異なる複数の実施例（図３，５，８）が開示されている。引用発明を特徴付けるこれらの実施例の開示内容からすれば，引用例には，所定の厚さであるとの条件が開示されていないし，引用例からこれを当業者が想定できるということもできない。すなわち，引用例には，露光光が透過する液体の透明媒体に対して，所定の厚さであるとの条件を構成要件とする公知例が記載されているということはできない。したがって，公平な観点に立てば，請求項７については，前記引用例は，拒絶理由通知の理由であるということはできない。
３取消事由３（本件補正却下の判断の誤り）


(1)補正却下理由１（新規事項に当たるとの認定）の誤り審決は，本件補正は，「願書に最初に添付された明細書，特許請求の範囲又は図面の記載から自明な事項であるとも認められない」と認定している。アしかし，本件明細書の図４の黒丸（最適化前）は，投影光学系に均一厚さの透明媒体を設けたときに投影光学系に生じる波面収差であるところ，図４の黒丸をみれば，「透明媒体は，均一の厚さとした場合，単に設けただけでは解像度を低下させる」と当業者は容易に解する。
一方，図４の白丸（最適化後と記入）は，黒丸（最適化前と記入）と異なって，投影光学系に生じる波面収差が著しく低減する基板厚さがあることが一目で分かるところ，図４の白丸を見れば，当該分野の当時の当業者は，「均一の厚さ条件と，解像度が向上する透明媒体厚さの条件と」があり，それらの条件を満たすことが解決策であると容易に解する。
当業者の当時の状況を考慮すれば，当業者は，図４の黒丸と白丸とを比較して見れば，「透明媒体は，均一の厚さとした場合，単に設けただけでは解像度を低下させ，逆に解像度を向上させる透明媒体厚さの条件がある」と解するものである。イまた，本件明細書の図４は，マスク面と投影レンズ系との間に均一な厚さの透明媒体を設けたときの解析結果を示したものであるが，本件明細書の実施例の説明において，「仮にウエハ面から光を透過するならば，光束は最短距離となる光路パスを逆に進み，マスク面上の対応箇所に結像する。」と記述している。光束が最短距離となる光路を進み，光束の進行方向を逆にしても同じ光路となるということは，光束の逆進の原理と称し，自然科学上の基礎的な事実である。マスク面上の１点がウエハ上の１点に１対１で対応する投影光学系においては，ウエハ上から光束の進行方向を逆にすれば，マスク上の同じ一点に結像する。これは，当時も今も当業者に広く知られている。
したがって，当業者は，前記記述から，ウエハ面と投影レンズ系との間に均一な厚さの透明媒体を設けたときも同じ結果になると当業者は解する。ウ以上からすれば，本件補正の内容が，本件明細書の図面に記載した事項から自明でないとの審決の認定は間違いである。
(2)補正却下理由２（特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当するとの認定）の誤り
ア本件補正が特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当するとの審決の認定は，本件明細書の記載から，補正内容が自明な事項でないことが前提である。しかし，上記(1)のとおり，本件補正の内容は，本件明細書の図４から自明な事項であるから，同前提は誤っており，本件補正が，特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当するということはできない。
イまた，本件補正は，明りょうでない記載の釈明を目的とした補正である。(3)なお，原告の上記３(1)及び(2)の主張は，最後の拒絶理由通知に瑕疵がないことを前提にして行ったものである。しかし，被告は，その後の主張において同通知の引用文献の解釈が自然科学上の基礎事実に反する誤りがあることを認めており，これを前提とすれば，審決に提出された請求項に関し，そもそも本件補正を行う必要性はまったくなかったものである。拒絶理由通知の瑕疵が訂正されたとすれば，原告の手続補正も大幅に変わり，拒絶査定されないことになる。
第４被告の反論
１取消事由１（前置報告書の認定の誤り）について前置報告書は，本件補正後の請求項１について引用文献５から容易としているのに対し，審決においては，補正の却下は本件補正後の請求項７について，補正の却下後は本件補正前の請求項７について，それぞれ引用例から容易と判断している。したがって，前置報告書と審決とでは対象としている請求項および引用文献が異なっており，しかも審決が対象とした請求項７には「投影光学系の開口数を１以上」とすることは記載されていないから，審決が前置報告書の認定を前提としていないことは明らかである。また，原告の主張は，もっぱら前置報告の瑕疵を主張するものにすぎない。したがって，原告の主張は失当である。２取消事由２（最後の拒絶理由通知における認定の誤り）について原告の主張する内容は，以下のとおり審決の対象となっていない又は審決が前提としない事項であり，また，原告の主張は，もっぱら拒絶理由の瑕疵を主張するものにすぎない。したがって，原告の主張は失当である。(1)原告は，最後の拒絶理由通知の引用発明には，投影光学系の開口数１以上とすることの開示がないと主張するが，上記１のとおり，審決が対象としている請求項は，本件補正後の請求項７と本件補正前の請求項７であり，何れも投影光学系の開口数が１以上であることを発明特定事項としていない請求項である。(2)原告は，本願の各請求項の中の「所定の厚さ」の用語の技術的意味が把握できないとする拒絶理由通知には根拠がないと主張する。しかし，審決は特許法３６条６項２号の明確性要件違反については判断していないから，審決が原告の主張するような最後の拒絶理由通知の認定を前提としたものでないことは明らかである。(3)原告は，最後の拒絶理由通知の引用発明からは，投影光学系の開口数１以上に対応するマスク作製を当業者が容易になし得ないと主張する。しかし，上記(1)のとおり，審決が対象としている請求項７は，本件補正前も本件補正後も，何れも投影光学系の開口数が１以上であることを発明特定事項としていない請求項である。(4)原告は，最後の拒絶理由通知の引用発明には，半導体ウエハ上の微細な段差による微細な泡発生の開示がないと主張する。しかし，上記(1)のとおり，審決が対象としている請求項７は，本件補正前も本件補正後も，何れも平坦化することを発明特定事項としていない請求項である。


３取消事由３（本件補正却下の判断の誤り）について(1)補正却下理由１（新規事項に当たるとの認定）の誤りについて原告は，本件補正は，本件明細書の図４から自明な事項である旨主張する。しかし，図４は，（液体からなる）ウエハカバーについて記載されたものではなく，合成石英ガラスからなるマスクカバーについて記載されたものであり，材質およびカバーする対象が異なっているから，図４の記載から（液体からなる）ウエハカバーの厚さに関し「均一厚さとする条件と，解像度が向上する透明媒体厚さの条件とを満たす」ことや，「均一厚さとした場合，単に設けただけでは解像度低下させ，逆に解像度向上させる透明媒体厚さの条件がある」ことが自明な事項であるとはいえない。また原告は，光束の逆進の原理により図４の記載からウエハ面と投影レンズ系との間に均一な厚さの透明媒体を設けたときも同じ結果になると当業者は解する旨の主張をしている。しかし，図４の記載から当業者がそのように解することができたとしても，そのことが図４に記載されているのと同然であるとはいえない。また，原告は図４の黒丸（最適化前と記入）と白丸（最適化後と記入）とを比較してみれば，「透明媒体は，均一の厚さとした場合，単に設けただけでは解像度低下させ，逆に解像度向上させる透明媒体厚さの条件がある」と当業者は容易に解する旨の主張をしている。しかし，本件明細書には，マスクカバーを設ければその厚さに依存して波面収差が激増するが，マスク面と結像面位置を光軸方向に補正して最適化した場合，波面収差が小さくなることは記載されているといえるとしても，マスク面と結像面位置を光軸方向に補正することとは無関係にマスクカバーの厚さの条件によって解像度を向上できることは何ら記載されていない。したがって，原告の主張は何れも失当であり，審決の認定に誤りはない。(2)補正却下理由２（特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当するとの認定）の誤りについて
ア原告は，本件補正が特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当するとの審決の認定は，同補正が，本件明細書の記載から自明な事項でないことが前提である旨の主張をしている。しかし，審決では，本件補正前の請求項７の記載と，本件補正後の請求項７の記載を比べて，補正後の特許請求の範囲が減縮されていると認定しただけであり，本件明細書の記載から自明な事項でないことを前提とはしていない。
イまた，原告は，本件補正は，明りようでない記載の釈明を目的とした補正である旨の主張をしている。しかし，本件補正は，透明な液体からなるウエハカバーの厚さについて，補正前は「所定の厚さとなる」であったものを，補正後は「均一厚さとする条件と，解像度が向上する透明媒体厚さの条件とを満たす」と補正しており，補正前の「所定の厚さとなる」ことと，補正後の「均一厚さとする条件と，解像度が向上する透明媒体厚さの条件とを満たす」ことが同じ意味であるとは考えにくいから，明りようでない記載の釈明を目的とした補正であるとはいえない。むしろ補正前の「所定の厚さとなる」では特に条件による限定がなかったものが，補正後では「均一厚さとする条件と，解像度が向上する透明媒体厚さの条件とを満たす」と，二つの条件を満たすものに限定されているといえるから，特許請求の範囲の減縮を目的とした補正であると考える方が自然である。ウしたがって，原告の主張は何れも失当である。
第５当裁判所の判断
当裁判所は，原告の主張する取消事由はいずれも理由がなく，審決に取り消すべき違法はないと判断する。その理由は次のとおりである。
１認定事実
(1)審決に至る経緯として，以下の事実が認められる。ア特許庁は，平成２４年４月９日付けで，原告に対し，最後の拒絶理由通知（甲７。以下「最後の拒絶理由通知」という。）をした。同通知における拒絶理由は，①請求項１，３，５，７，９，１１及び１３に係る発明の，「露光の際に所定の厚さとなるようにした」透明な液体からなるウエハカバーを半導体ウエハ上に設けることについて，ウエハカバーを「露光の際に所定の厚さとなるようにした」ことの技術的意味が把握できないから，同各請求項に係る発明は明確ではなく，したがってこれらを引用する請求項２，４，６，８，１０，１２及び１４に係る発明も明確でないので，特許法３６条６項２号に規定する要件を満たしていないこと（理由１），②請求項１ないし１４に係る発明は，引用文献１ないし５に記載された発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易になし得たものであること（理由２。なお，引用例は，引用文献２として引用されていた。）であった。
イ原告は，上記通知を受けて，平成２４年６月２８日付けで，請求項１，３，５，７，９，１１及び１３について補正をしたが，同年８月２９日付けで，特許法１７条の２第３項の規定に違反するものであるとして補正が却下されるとともに，同日付けで拒絶の査定を受けた（乙１）。拒絶査定においては，最後の拒絶理由通知書に記載した理由２によって，拒絶をするものとされた。ウ原告は，平成２４年１２月２０日，請求項１，３，５，７，９，１１及び１３並びに本件明細書について本件補正をするとともに，拒絶査定に対する不服審判請求をした。特許庁は，平成２５年２月２７日付けで，原告に対し，審査官による前置審査の結果，前置報告書の内容のとおり，特許をすべき旨の査定ができない旨の報告がされたので，その内容について意見があれば回答するよう求めた（甲４）。同前置報告書の内容は，本件補正後の請求項１に係る発明は，拒絶査定で示した引用文献５に記載された発明から容易に想到できるものであるから，特許法２９条２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができず，本件補正は却下されるべきものであるから，本願は拒絶査定の理由のとおり拒絶されるべきであるというものであった。
エ特許庁は，平成２５年１０月８日，前記第２の４のとおりの内容の審決をした。
(2)本件明細書の記載について
本件明細書（甲３。なお，明細書については，出願時から本件補正時まで補正されていない。）には，以下の記載がある。
ア「【技術分野】【０００１】本発明は，光露光技術に係り，例えば半導体集積回路等の製造プロセスにおける回路パタ－ンの転写技術等に適用して有効な技術に関するものである。」
イ「【背景技術】【０００２】集積回路パターンの微細化および高集積化が進み，遠紫外光又は真空紫外光を使用してマスク上の集積回路パターンを半導体ウエハに転写するフォトリソグラフィ工程においては，露光波長の半分より微細な寸法の回路パターンを高精度に半導体ウエハ上へ露光し，パターン形成できる手段が求められている。」


ウ「【発明が解決しようとする課題】【０００８】半導体集積回路装置の高集積化は留まることなく進展している。半導体集積回路パターンの最小寸法は，量産レベルでも１００ナノメータ以下まで微細化されつつある。このような微細な回路パターン形成には主に縮小投影露光方式が用いられてきた。この縮小投影露光方式は，これまでのように光源の短波長化，レンズの大口径化がますます困難になり，高集積化の進展に伴って要求される回路パターンの微細化に対応できなくなっている。」「【０００９】・・・本発明の目的は，縮小投影露光法を用いて，露光波長の半分より微細な回路パターンの半導体集積回路装置を精度良く，かつ，効率よく製造する手段を提供することである。」
「【００１０】・・・本発明の具体的な一つの目的は，半導体ウエハ上の絶縁膜，導電膜に回路パターンを形成する工程において・・・露光光の波長より微細な回路パターンを精度よく形成する手法を提供することである。」エ「【課題を解決するための手段】【００１１】本願において開示される発明のうち，代表的なものの概要を簡単に説明すれば，次のとおりである。すなわち，本発明は，集積回路パターンを形成したマスク，マスクの集積回路パターン面に接触させたマスクカバー，半導体ウエハ上のフォトレジスト面に接触させたウエハカバーを用い，縮小投影露光法により，半導体ウエハ上のフォトレジスト面に回路パターンを露光するものである。露光光は，マスクを照明し，マスクカバー，縮小投影露光装置の投影レンズ，ウエハカバーを透過して，半導体ウエハ上のフォトレジストを露光させる。ウエハカバーを除去して，フォトレジストを現像し，半導体ウエハ上に回路パターンを形成する。
【００１２】・・・本発明は，フォトレジスト面に接触した透明液体から成るウエハカバー，ガラスの投影レンズカバーを設けた縮小投影露光装置であり，マスクの集積回路パターンを半導体ウエハ上のフォトレジストに露光する装置である。露光光は，マスクを照明して，縮小投影露光装置の投影レンズ，投影レンズカバー，ウエハカバーを透過し，前記半導体ウエハ上のフォトレジスト面に結像し，露光する機能を備えた装置である。・・・追加縮小して良好なパターン形成するため，フォトレジスト面に接触させたウエハカバーを用いる。露光光は，マスク，縮小投影露光装置の投影レンズ，ウエハカバーを透過し，半導体ウエハ上のフォトレジスト面にマスクの集積回路パターンを結像させ，露光するものである。また，本発明は，マスクに形成した集積回路パターンを半導体ウエハ上のフォトレジストに露光するため，次の第一の機能と第二の機能と両方備えた縮小投影露光装置である。
【００１３】第一の機能は，フォトレジスト面に接触させたウエハカバーを用い，半導体ウエハ上のフォトレジストを露光する機能である。露光光は，マスク，縮小投影露光装置の投影レンズ，ウエハカバーを透過し，フォトレジスト面に結像する。」オ「【発明の効果】【００１６】本願によって開示される発明のうち，代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば，以下の通りである。マスクの回路パターン面にマスクカバー，半導体ウエハのフォトレジスト面にウエハカバーを設け，マスクと縮小投影露光装置により，半導体ウエハ上のフォトレジストに露光することにより，縮小投影露光の収差問題を抑制し，半導体ウエハへ転写される回路パターンの精度を向上させる。」
カ「【実施例１】【００２１】実施例
１は，集積回路パターンを形成したマス
クと縮小投影レンズを利用して半導体ウ
エハ上のフォトレジスト面へ回路パター
ンを露光するためのマスク，縮小投影露
光装置，および集積回路パターンの形成
手法に関するものである。
図１は，半導体集積回路装置の製造に
用いるマスク，縮小投影露光装置，半導
体ウエハの全体構成図の一例を示してい
る。マスクには，回路パターン面に接触
させたマスクカバーと半導体ウエハには，
フォトレジスト面に接触させたウエハカ
バーを設けている。・・・」
「図４は，マスクカバーの厚さに対して，設計した縮小投影レンズの波面収差の変化を調べたものである。マスクカバーの材質は，屈折率１．４７の合成石英ガラスである。波面収差は，マスクカバーを設ければその厚さに依存して激増する。図４に示したように，マスク面と結像面位置を光軸方向に補正し，最適化した場合，その波面収差は，マスクカバーの厚さに依存して変化した。」「本発明者は，マスクカバーの厚さが，０．１ｍｍから０．６ｍｍとし，マスク面と結像面位置を光軸方向に位置を補正して最適化すれば，マスクカバーを設けなかった時より小さくなることを見出した。マスクカバーの厚さが０．３ｍｍの時，縮小投影レンズの波面収差は，図５に示すように，ｒｍｓ値が０．０００８λである。
【００２２】縮小投影光学システムでは，マスク上の一点から出た光がウエハ上のフォトレジスト面の一点に結像する。結像投影光学系においては，マスク面であ
る物面とウエハ面である結像面とは，投
影レンズを挟んで一対一に対応する。仮
に，ウエハ面から光を照射するならば，
光束は最短距離となる光路パスを逆に進
み，マスク面の対応箇所に結像する。
上記の検討から，本発明者は，マスク
の回路パターン面でなく，ウエハ上のフ
ォトレジスト面へウエハカバーを付加す
ることで，縮小投影レンズを利用してフ
ォトレジスト面へ露光するとパターン転
写の解像度が向上することを見出した。」
「【００２４】発明の実施形態としては，フォトレジスト面上に所定の厚さのウエハカバーを設けることで，転写パターンの解像度を向上させることができる。以下に，図１に示した実施例１の縮小投影露光装置とウエハカバーについて詳細に説明する。」
「・・・マスクＭ１は，・・露光体に対して透明なマスクカバーＭ２が設けられている。」


「半導体ウエハＷ１は，ＸＹＺステージＥ８上に載置されている。この半導体ウエハＷ１の主面には，露光光に対して感光性を有するフォトレジストが形成されている。このフォトレジスト面に接触させたウエハカバーＷ２が設けられている。ウエハカバーは，屈折率が高い材質が望ましい。ウエハカバーＷ２は，露光光に対して実質的に透明なマスクの基板材料である合成石英ガラス（１ｍｍ厚，屈折率が１．４７）を用いた。投影レンズの結像面側のレンズ端面とウエハカバーとのギャップは，１００ミクロンとした。ウエハカバーは，投影レンズの結像面側のレンズ端面からフォトレジスト面まで，９０％以上となる光路長の厚さとなった。投影レンズの結像面側のレンズ端面からフォトレジスト面までの光路長に対し，ウエハカバーの厚さを増す程，転写パターンの解像度向上の大きい効果を得ることができる。」「【００２６】」「・・・本発明の露光装置は，ウエハカバーとして，純水を用いる液侵露光装置としても露光できるようにした。」
(3)引用例の記載について
引用例（甲９）には，以下の記載がある。
「【０００１】【発明の属する技術分野】本発明は，レチクル上に描画されたパターンを投影光学系によってウエハに焼付ける露光装置に関し，特に液浸型の露光装置に関する。」
「【０００４】【発明が解決しようとする
課題】・・・本発明は，ワーキングディスタ
ンスを満たす液体の温度制御を容易にして，
結像性能の劣化を招くことのない液浸型露
光装置を提供することを課題とする。」
「【００１２】【第１の実施例の説明】・・・
【００１７】・・・本実施例では，・・・液浸状態における投影レンズ系ＰＬの最良結像面（レチクル共役面）が，先端のレンズ素子の下面から約２～１ｍｍの位置に形成されるように設計されている。従って，先端のレンズ素子の下面とウエハＷの表面との間に形成される液体層の厚みも２～１ｍｍ程度になり，・・・」「【００２０】・・・本実施例では・・・投影レンズＰＬの先端のレンズ素子とウエハＷとの間の２～１ｍｍ程度の狭い間隔に液体ＬＱを満たす・・・」「【００３１】・・・本実施例では図３に示したように，投影レンズ系ＰＬの先端のレンズ素子ＬＥ１の下面ＰｅとウエハＷ（又は補助プレート部ＨＲＳ）の表面とのベストフォーカス状態での間隔Ｌは，２～１ｍｍ程度に設定される。・・・このように本実施例では，投影レンズ系ＰＬのワーキングディスタンスとしての間隔Ｌを極めて小さくしたため，ホルダテーブルＷＨ内に満たされる液体ＬＱの総量も少なくて済み，温度制御も容易になる。」
「【００４１】【第３の実施例の
説明】次に第３の実施例について
図５を参照して説明する。」
「【００４３】・・・本実施例で
使用する投影レンズ系ＰＬの先端
部には，サブ鏡筒８０の先端に光
軸ＡＸと垂直に固定された石英の
平行平板ＣＧが取り付けられ，し
たがって先端のレンズ素子ＬＥ１（平凸レンズ）が液体ＬＱに浸かることがないように構成されている。本実施例では，この平行平板ＣＧの下面とウエハＷの表面との間隔が，見かけ上のワーキングディスタンスとなり，先の実施例と同様に２ｍｍ以下に設定される。またサブ鏡筒８０の平行平板ＣＧとの取付け面は防水加工され，サブ鏡筒８０の内部には窒素ガスが充填されている。
【００４４】このように投影レンズ系ＰＬの先端に平行平板ＣＧを設けるようにすると，投影レンズ系ＰＬの実質的なバックフォーカス距離（屈折力を持つ先端の光学素子から像面までの距離）が１０～１５ｍｍ程度であっても，容易にワーキングディスタンスＬを１～２ｍｍ程度にして液体の温度変化の影響を低減させた液浸投影法が実現できる。」
「【００５５】
【第６の実施例の説明】次に図８は本発明
の第６の実施例を示し，この実施例では下部
容器７と上部容器８を用いている。ウエハ３
を載置するウエハホルダー３ａは下部容器７
の内面底部に形成されており，下部容器７の
上面は上部容器８の底面によって密閉されて
おり，下部容器７の全容積は浸液７ａによっ
て完全に満たされている。他方上部容器８に
も浸液８ａが満たされており，その浸液８ａ内に投影光学系１の最終レンズ面１ａが浸されている。」
「【００５７】この実施例においては，下部容器７と上部容器８を一体として移動することにより，ウエハ３を移動している。」
「【００５８】なお本実施例では下部容器７と上部容器８を一体として移動したが，下部容器７のみを移動し，上部容器８を固定することもできる。この構成のときには，上部容器８内の浸液８ａは完全に停止することになる。したがってワーキングディスタンスＬのうちで，上部容器８内の浸液８ａの厚さＬ８よりも，下部容器７内の浸液７ａの厚さＬ７の方を十分に薄く形成することが好ましい。」２原告主張の取消事由１（前置報告書の認定の誤り）について原告は，前置報告書の引用文献５（甲５）に関する認定は誤りであるところ，審決は前置報告書が正しいということを前提としたものであるから，審決も誤っている旨主張する。
(1)しかし，審決取消訴訟において，審理の対象となるのは，審決の違法性であるところ，前置報告書の内容の違法性は，審決が違法となる理由には当たらないから，原告の主張は失当である。


(2)また，原告の主張を，審決の判断内容の誤りをいうものであると解したとしても，上記１の認定事実のとおり，審決においては，前置報告書記載の内容とは異なり，引用文献５（甲５）ではなく，引用例（甲９）記載の発明を引用発明として認定して，かつ，請求項１ではなく，本件補正による補正後及び補正前の請求項７に係る発明を対象とする判断をしているのであって，審決の判断内容は，前置報告書記載の内容を前提としたものではない。したがって，仮に前置報告書に記載された内容が誤っているとしても，審決の内容が誤っているということはできず，審決が違法となるものではないから，原告の主張は理由がない。(3)なお，仮に原告の主張が審判手続の違法をいうものであると解したとしても，前置報告とは，拒絶査定不服審判請求と同時に補正があったときに，審査官がその請求を審査し（特許法１６２条。前置審査），拒絶査定を取り消す場合を除いて，その審査の結果を特許庁長官にする報告（同法１６４条３項）である。そして，審判手続においては，前置報告の内容に対する意見陳述の機会を与えるため，審判長が審判請求人（出願人）に対して，前置報告の内容を審尋（同法１３４条４項）により送付するという運用が行われているものであり，前置報告の内容が正しいことが審判手続の前提となっているものではない。そうすると，仮に前置報告の内容が誤っているとしても，そのことをもって審判手続に何らかの瑕疵があるということもできない。
(4)したがって，取消事由１についての原告の主張を採用することはできない。３原告主張の取消事由２（最後の拒絶理由通知の認定の誤り）について(1)原告は，最後の拒絶理由通知は，①引用文献１ないし５に記載された発明は，縮小投影レンズの開口数を１以上にし得るものであると記載した点，②「所定の厚さ」の用語の技術的意味が把握できないと指摘した点，③投影光学系の開口数１以上の露光装置に対応したマスクを当業者が容易に作製できると記載した点，④ＣＭＰ等によって各種の皮膜表面を平坦化することを当業者が容易になし得たと記載した点で誤っており，したがって，審決も誤っている旨主張する。アしかし，前記２(1)で説示したとおり，審決取消訴訟において，審理の対象となるのは，審決の違法性であるところ，最後の拒絶理由通知の内容の誤り自体は，審決が違法となる理由には当たらないから，原告の主張は失当である。イまた，原告の主張を，審決の判断内容の誤りをいうものと解したとしても，前記１(1)の認定事実のとおり，審決においては，本件補正前の請求項７（本願発明）及び本件補正後の請求項７（本願補正発明）についての判断がされているところ，原告の主張する上記①，③又は④の記載に係る構成要件は，いずれも本願発明又は本願補正発明の特許請求の範囲に含まれていないから（このことは，原告の主張自体からも明らかである。），上記①，③又は④についての最後の拒絶理由通知の記載内容は，審決の判断内容の前提となっているものではない。また，審決は，最後の拒絶理由通知とは異なり，特許法３６条６項２号違反を理由として特許を受けることができないと判断しているものでもないから，上記②についての最後の拒絶理由通知の指摘も，審決の判断内容となっているものではない。したがって，仮に最後の拒絶理由通知の上記①ないし④の記載が誤っているとしても，そのことをもって審決の内容が誤っているということはできず，審決が違法となるものではないから，原告の主張は理由がない。
(2)原告は，請求項７について拒絶理由があるとしても，その他の請求項についての拒絶理由が根拠がないものである以上，最後の拒絶理由通知には重大な瑕疵があると主張する。
しかし，特許法は，一つの特許出願に対し，一つの行政処分としての特許査定又は特許審決がされ，これに基づいて一つの特許が付与され，一つの特許権が発生するという基本構造を前提としており，請求項ごとに個別に特許が付与されるものではない。複数の請求項に係る特許出願であっても，特許出願の分割をしない限り，当該特許出願の全体を一体不可分のものとして特許査定又は拒絶査定するほかなく，一部の請求項に係る特許出願について特許査定をし，他の請求項に係る特許出願について拒絶査定をするという可分的な扱いは予定されていない（最高裁平成２０年７月１０日第一小法廷判決・民集６２巻７号１９０５頁参照）。したがって，複数の請求項のうち，一つの請求項について拒絶すべき理由があれば，他の請求項について拒絶理由がないとしても，特許出願全体が一体不可分のものとして拒絶査定をすべきものである。
そして，拒絶査定又は審決において拒絶理由があると判断された請求項以外の請求項に係る発明について，拒絶理由通知における拒絶理由が根拠を欠くものであるとしても，そのことをもって拒絶理由通知が違法となるものではなく，審判手続に審決を取り消すべき瑕疵があるということはできない（審決において拒絶理由があると判断された請求項に係る発明について，拒絶理由通知においても当該拒絶理由が示されていれば足りると解される。）。したがって，原告の主張は理由がない。(3)原告は，引用例には，液体の透明媒体について「所定の厚さ」であるとの条件が開示されているとはいえないから，引用例を理由とする本件補正前の請求項７（本願発明）の拒絶理由も理由がない旨主張する。
原告の上記主張は，拒絶理由通知の瑕疵の一つとして主張されているものであるところ，拒絶理由通知の内容の誤りが審決の取消事由とはならないことは前記(1)のとおりである。また，同主張を，本願発明について特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないとした審決の判断内容の誤りをいうものと善解したとしても，以下のとおり理由がない。


ア上記１(2)によれば，本願発明は，半導体集積回路装置の微細な回路パターン形成には，主に縮小投影露光方式が用いられてきたところ，縮小投影露光方式は，高集積化の進展に伴って要求される回路パターンの微細化に対応できなくなっている（【０００８】）という課題を解決するため，縮小投影露光法を用いて，露光波長の半分より微細な回路パターンの半導体集積回路装置を精度良く，かつ，効率よく製造する手段を提供することを目的とする（【０００９】），半導体装置の製造方法に係る発明である。そして，本願発明は，半導体ウエハ上への回路パターンの形成において，露光の際に「所定の厚さ」となるようにした透明な液体からなるウエハカバーを半導体ウエハ上に設けるステップを有することを特徴とする。しかし，本願発明の特許請求の範囲の文言上，「所定の厚さ」についての条件は何ら付されておらず，「所定」との文言の通常の意義は，「定まっていること，定めてあること」（岩波書店・広辞苑第６版）であると認められるから，本願発明の構成要件は，「定まった厚さ」となるようにした透明な液体からなるウエハカバーを半導体ウエハ上に設けるステップを有するものと解するのが相当である（なお，本件明細書中に「所定の厚さ」との文言の言及があるのは，段落【００２４】に「発明の実施形態としては，フォトレジスト面上に所定の厚さのウエハカバーを設けることで，転写パターンの解像度を向上させることができる。」と記載されている部分のみであるところ，仮に同記載部分を参酌して，本願発明の「所定の厚さ」の意義について，単に「定まった厚さ」ではなく，「解像度を向上させることができる定まった厚さ」と解したとしても，後記のとおり，結論は左右されない。）。イ一方，上記１(3)によれば，引用例には，以下のとおりの点で本願発明に一致する引用発明が開示されていると認められる（原告も明示的に争っていない。）。
「半導体装置を製造する方法であって，
半導体ウエハ上に絶縁膜または導電膜を含む皮膜を形成するステップと，前記皮膜上にフォトレジスト膜を形成するステップと，前記皮膜に形成する回路パターンのマスクを設計，作製するステップと，前記フォトレジスト膜を露光するステップと，を含み，前記マスクを設計，作製するステップは，被露光面とフォーカス合せのための校正用パターン，または転写パターンの結像位置合せのための校正用パターンの内の少なくとも一方の校正用パターンを含む回路パターンのマスクを設計，作製するス
テップであり，
前記フォトレジスト膜を露光するステップは，前記マスクを縮小投影露光装置の
所定の箇所に配置するステップと，
露光光が高屈折率の透明媒体からなるウエハカバーを透過してフォトレジスト膜を露光可能とし，前記透明媒体が液体であって均一厚さとする条件を満たすウエハカバーを半導体ウエハ上に設けると共に，前記半導体ウエハを縮小投影露光装置の
所定の箇所に配置するステップと，
前記校正用パターンの透過光を利用して，露光光が前記ウエハカバーを透過させることに起因する前記縮小投影露光装置の投影レンズのフォーカス位置ズレ，または光軸との直交面上の結像位置ズレの少なくとも一方を校正するステップと，透明な液体からなるウエハカバーを透過した露光光により，前記フォトレジスト
膜を露光するステップであり，
露光後前記ウエハカバーを除去し，フォトレジスト膜を現像することによって半導体ウエハ上に回路パターンを形成する半導体装置の製造方法。」ウそうすると，引用発明と本願発明は，いずれも上記構成を有する点で一致するが，本願発明のウエハカバーが「所定の厚さ」，すなわち「定まった厚さ」となるようにしたものであるのに対し，引用発明ではそのようにしたものか否かが不明であるという点での相違点がある。
しかし，上記１(3)のとおり，引用発明は，「投影レンズ系ＰＬの先端のレンズ素子ＬＥ１の下面ＰｅとウエハＷの表面とのベストフォーカス状態での間隔Ｌは，２～１ｍｍ程度に設定される」とされていることからすれば（【００１７】【００２０】【００３１】），引用発明においては，投影レンズ系の先端とウエハ表面との間に形成される液体層の厚さが「定まっている」といえる。したがって，本願発明のウエハカバーが「所定の厚さ」となるようにしたことは，引用発明との実質的な相違点とはいえない（なお，仮に本願発明の「所定の厚さ」の意義について，「解像度を向上させることができる定まった厚さ」と解したとしても，引用発明の上記液体層の厚さは「ベストフォーカス状態での間隔」として定められるものであるから，転写パターンの解像度を向上させることができる定まった厚さのウエハカバーが開示されているといえる。）。
エこの点，原告は，引用例には，明らかに透明媒体の厚さが異なる複数の実施例（図３，５，８）が開示されているから，引用例には，所定の厚さであるとの条件が開示されていないし，引用例からこれを当業者が想定できるということもできないと主張する。
しかし，上記１(3)のとおり，引用例に記載された図３，５，８は，それぞれ，第１，３，６の実施例を示すものであるところ（【００３１】【００４１】【００５５】），投影レンズ系の構造等は各実施例で異なっているのであるから，ベストフォーカス状態における投影レンズ系の先端とウエハ表面との間に形成される液体層の厚さも，各実施例で異なることは当然である。したがって，投影レンズ系の先端とウエハ表面との間隔が各実施例で異なるとしても，それは，それぞれの実施例において，ベストフォーカス状態における投影レンズ系の先端とウエハ表面との間に形成される液体層の厚さが異なるからであり，引用例には，各実施例それぞれについての「所定の厚さ」が開示されているといえる。
したがって，原告の主張を採用することはできない。
４原告主張の取消事由３（本件補正却下の判断の誤り）について(1)補正却下理由１（新規事項に当たるとの認定）の誤りについて原告は，本件補正は，当業者にとって本件明細書の図４から自明の事項であるから，新規事項の追加には当たらないと主張する。
アこの点，原告は，本件補正により，前記第２の３のとおりの請求項７の補正をするとともに，以下のとおり，本件明細書の段落【００２２】について補正をしたことが認められる（甲１７。補正部分には下線を付した。）。
（本件補正前）
「仮に，ウエハ面から光を照射するならば，光束は最短距離となる光路パスを逆に進み，マスク面の対応箇所に結像する。」
（本件補正後）


「仮に，ウエハ面から光を照射するならば，光束は最短距離となる光路パスを逆に進み，マスク面の対応箇所に結像する。ウエハ面から光を照射するならば，光路パスを逆に進み，マスク面の対応箇所に結像するとは，前記した投影光学系の物面であるマスク面側の透明媒体が結像面であるウエハ面側の透明媒体になるということであり，前記マスク面側の透明媒体は，均一の厚さとした場合，単に設けただけでは解像度低下させ，逆に解像度向上させる透明媒体厚さの条件がある，と同じように，前記結像面側の透明媒体は，均一の厚さとした場合，単に設けただけでは解像度低下させ，逆に解像度向上させる透明媒体厚さの条件があるということである。」イ特許法１７条の２第３項は，「願書に最初に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしなければならない」と定めているところ，「明細書又は図面に記載した事項」とは，当業者によって，明細書又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項をいうと解される。そこで，本件明細書を検討するに，図４は，マスクの回路パターン面と縮小投影レンズとの間に屈折率が１より大きい媒質（屈折率１．４７の合成石英ガラス）の「マスクカバー」（透明媒体）を設けた場合に，マスクカバーの厚さに対して，設計した縮小投影レンズの波面収差の変化を調べた結果をグラフにしたものである（【００２１】）。そして，一般的には，マスクカバーを設けると，マスクカバーを設けなかった場合と比して波面収差が大きくなり，その厚さに依存して波面収差が激増するという状態が確認されているところ，図４によれば，縮小投影レンズ，マスク面と結像面位置を光軸方向に位置を補正して最適化した場合に，マスクカバーを設けると，マスクカバーの厚さが０．１ｍｍから０．６ｍｍの範囲では，マスクカバーを設けなかった時よりも縮小投影レンズの波面収差が小さくなるという結果となっていることを理解することができる。
一方，本件補正による本件明細書の補正の内容は，マスク面側の透明媒体（マスクカバー）と同じように，ウエハ面側の透明媒体（ウエハカバー）についても，均一の厚さとした場合，単に設けただけでは解像度を低下させ，逆に解像度を向上させる透明媒体厚さの条件があるという記載を追加するものであるところ，原告は，このようにマスクカバー（マスク面側の透明媒体）についての図４の実験結果が，当然にウエハカバー（ウエハ面側の透明媒体）についても当てはまるのは，光束の逆進の原理と称する自然科学上の基礎的な事実であり，当業者は，図４から，ウエハ面と投影レンズ系との間に均一な厚さの透明媒体を設けたときも同じ結果になると解すると主張する。
しかし，図４の実験結果は，「縮小投影レンズ，マスク面と結像面位置を光軸方向に位置を補正して最適化した」とあるだけで，その具体的な距離関係等の実施条件は不明であり，マスクカバーの他にウエハカバーも設けられているのか，マスクカバーだけが設けられているのかも不明であるし，仮に，図４の実験結果がウエハカバーにもそのまま当てはまるのであれば，ウエハカバーを設けると，０．１ｍｍから０．６ｍｍの厚みの範囲では波面収差が小さくなるとしても，それ以外ではウエハカバーの厚さに依存して波面収差が激増するはずである。しかし，本件明細書中には，発明の実施形態として，マスクカバーと同じ材質（屈折率）の合成石英ガラスで形成したウエハカバーを設ける場合に（なお，この実施形態ではマスクカバーも設けられている。），その厚さを「１ｍｍ」とすることとされているし（【００２４】），さらに，「ウエハカバーの厚さを増す程，転写パターンの解像度向上の大きい効果を得ることができる」という記載がされている（【００２４】）。このような記載は，図４のグラフから読み取れる内容と矛盾するものであるから，本件明細書全体の記載をみた当業者が，マスクカバーについて行った図４の実験結果について，直ちに，ウエハカバーに対しても適用できると理解できるものとは認められない。ウしたがって，本件明細書についての補正は，図４から自明の事項であるとの原告の主張を採用することはできず，本件補正は，特許法１７条の２第３項に違反するとして，これを却下した審決の結論が誤っているとは認められない。(2)補正却下理由２（請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当するとの認定）
の誤りについて
原告は，本件補正が特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当するとの認定は，本件明細書の記載から，補正内容が自明な事項でないことが前提であるところ，本件補正の内容は，本件明細書の図４から自明な事項であるから，同前提は誤っており，本件補正が，特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当するということはできず，本件補正は，明りようでない記載の釈明を目的とした補正であると主張する。
しかし，上記(1)のとおり，本件補正は，特許法１７条の２第３項に違反する不適法なものであるから，その余の点について判断するまでもなく，本件補正を却下した審決の結論に誤りがあるとはいえない。なお，審決の補正却下の理由２の記載から明らかであるとおり，審決は，本件補正前の請求項７の記載と，本件補正後の請求項７の記載とを比べて，補正後の特許請求の範囲が減縮されていると認定しているだけであり，同認定の際に，本件補正が本件明細書の記載から自明な事項でないことを前提としているものではないから，いずれにせよ原告の主張は失当である（なお，審決には，補正却下の理由１と理由２の相互の関係が明示されていないため，原告は，理由２が理由１を前提としたものであると解した可能性があるが，審決の理由全体を合理的に解釈すれば，本件補正が新規事項の追加に該当するのであれば，他の要件を要せずに，それだけで却下理由となるのであるから（特許法１７条の２第３項），これとは別に，本件補正が特許請求の範囲の減縮を目的とするものとして，本願補正発明が独立特許要件を満たすかどうかについての検討をしているのは，本件補正が新規事項の追加に該当しないと解した場合の予備的な判断を示しているものと解するのが相当である。）。
(3)その他の原告の主張について
原告は，本件補正に関する各主張は，拒絶理由通知に瑕疵がないことを前提としたもので，同通知記載の引用発明の認定等が誤っているのであれば，そもそも本件補正を行わなかったはずであり，拒絶査定されないことになるなどと主張する。しかし，拒絶査定も，審決も，本件補正前の請求項７（本願発明）について，特許法２９条２項の規定に違反するとの理由で特許を受けることができないと判断しているのであり，本件補正をしなければ拒絶査定がされないことになるとはいえないから，原告の主張は理由がない。
５結論
以上のとおり，原告主張の取消事由はいずれも理由がなく，審決には取り消すべき違法があるとは認められない。原告はその他縷々主張するが，いずれも採用の限りではない。よって，原告の請求を棄却することとして，主文のとおり判決する。


平成２４年５月９日判決言渡同日原本領収    裁判所書記官平成２３年（行ケ）第１０２０４号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成２４年４月１１日
判        決
当事者の表示別紙当事者目録記載のとおり
主        文
原告の請求を棄却する。
訴訟費用は原告の負担とする。
事実及び理由
第１請求
特許庁が無効２０１０－８００２０３号事件について平成２３年５月２４日にした審決を取り消す。
第２事案の概要
本件は，原告が，下記１のとおりの手続において，被告の下記２の本件発明に係る特許に対する原告の特許無効審判の請求について，特許庁が同請求は成り立たないとした別紙審決書（写し）の本件審決（その理由の要旨は下記３のとおり）には，下記４の取消事由があると主張して，その取消しを求める事案である。
１特許庁における手続の経緯
(1)被告は，平成１７年６月１７日，発明の名称を「マッサージ機」とする特許出願（特願２００５－１７７１７７号，国内優先権主張日：平成１０年１１月２日（特願平１０－３１２４４６号））をし，平成２０年９月１９日，設定の登録（特許第４１８８９４６号）を受けた。以下，この特許を「本件特許」といい，本件特許に係る明細書（甲８）を「本件明細書」という。
(2)原告は，平成２２年１１月４日，本件特許の請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）について，特許無効審判を請求し，無効２０１０－８００２０３号事件として係属した。
(3)特許庁は，平成２３年５月２４日，「本件審判の請求は，成り立たない。」旨の本件審決をし，同年６月２日，その謄本が原告に送達された。
２本件発明の要旨
本件審決が判断の対象とした発明は，特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。文中の「／」は，原文の改行部分を指す。座部及び背凭れ部と，前記座部の前部に上下揺動自在として設けられたフットレストと，を有し，前記フットレストは，上方へ揺動して前記座部から前方へ突出している状態となることができ，前記フットレストは，使用者の脚にマッサージすることが可能な空気式のマッサージ具を有している椅子型マッサージ機において，／前記フットレストが，脚の上側をマッサージする第一フットレスト部と脚の下側をマッサージする第二フットレスト部とに分割され，／前記座部の前端下部に上下揺動自在として連結されている固定フレームと，前記固定フレームに対して前後に移動調整自在である第一スライドフレームと，前記第一スライドフレームに対して前後に移動調整自在である第二スライドフレームとを有し，／前記第一フットレスト部は，前記第一スライドフレームに固着され，前記第二フットレスト部は，前記第二スライドフレームに固着されており，／前記フットレストが前方へ突出している状態で，前記第一フットレスト部及び前記第二フットレスト部が全体として前記座部に対して前後に接離調整可能で，かつ，この第二フットレスト部が前記第一フットレスト部に対して前後方向に接離調整可能に構成されていることを特徴とする椅
子型マッサージ機
３本件審決の理由の要旨
(1)本件審決の理由は，要するに，本件発明は，下記アの引用例に記載された発明（以下「引用発明」という。）及び下記イないしキの周知例１ないし６に記載された事項又は周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではない，というものである。
ア引用例：実公昭３５－５８５号公報（甲１）
イ周知例１：特開平１０－１９６８１７号公報（平成１０年７月３１日公開。甲２）
ウ周知例２：特開平８－３２２８９５号公報（甲３）エ周知例３：特公平３－１５９１０号公報（甲４）オ周知例４：特開平９－１５４６６７号公報（甲５）カ周知例５：特開平２－２０６４０６号公報（甲６）キ周知例６：特開昭５０－１３６９９４号公報（甲７）(2)本件審決が認定した引用発明並びに本件発明と引用発明との一致点及び相違点は，次のとおりである。
ア引用発明：座褥及び背面凭掛と，座褥の前縁に起伏可動状に設けられた脛当座及び足台と，を有し，脛当座及び足台は，上方へ揺動して座褥から前方へ突出している状態となることができ，脛当座及び足台は，按摩する人のふくらはぎと足裏に振動按摩することが可能な電磁バイブレーターの振動子を有している安楽椅子において，脛当座及び足台が，ふくらはぎを振動按摩する脛当座と足裏を振動按摩する足台とに分割され，座褥の前縁に起伏可動状に連結されている剛性フレームと，剛性フレームに対して可動なく字形板金とを有し，脛当座は剛性フレームに固着され，足台は，く字形板金に固着されており，脛当座及び足台が前方へ突出している状態で，足台が座褥に対して伸縮下降可能で，かつ，足台が脛当座に対して伸縮下
降可能に構成されている安楽椅子


イ一致点：座部及び背凭れ部と，前記座部の前部に上下揺動自在として設けられたフットレストと，を有し，前記フットレストは，上方へ揺動して前記座部から前方へ突出している状態となることができ，前記フットレストは，使用者の脚にマッサージすることが可能なマッサージ具を有している椅子型マッサージ機において，前記フットレストが，脚の上側をマッサージする第一フットレスト部と，マッサージする第二フットレスト部とに分割され，前記座部の前端に上下揺動自在として連結されている固定フレームと，フレームに対して前後に移動調整自在である第二スライドフレームとを有し，前記第一フットレスト部は，フレームに固着され，前記第二フットレスト部は，前記第二スライドフレームに固着されており，前記フットレストが前方へ突出している状態で，前記第二フットレスト部が前記座部に対して前後に接離調整可能で，かつ，この第二フットレスト部が前記第一フットレスト部に対して前後方向に接離調整可能に構成されている椅子型マッサージ機という点ウ相違点１：マッサージ具について，本件発明では「空気式のマッサージ具」であるのに対し，引用発明では「電磁バイブレーターの振動子」である点エ相違点２：第二フットレスト部が，本件発明では「脚の下側」（ふくらはぎないし足首周辺（足裏は含まない）のうちの下側）をマッサージするものであるのに対し，引用発明では「足裏」をマッサージするものである点オ相違点３：固定フレームについて，本件発明では座部の「前端下部」に連結されているのに対し，引用発明では「前端」に連結されている点カ相違点４：本件発明は「前記固定フレームに対して前後に移動調整自在である第一スライドフレームと，前記第一スライドフレームに対して前後に移動調整自在である第二スライドフレームとを有し，前記第一フットレスト部は，前記第一スライドフレームに固着され」，「前記フットレストが前方へ突出している状態で，前記第一フットレスト部及び前記第二フットレスト部が全体として前記座部に対して前後に接離調整可能」であるのに対し，引用発明は，本件発明の「固定フレームに対して前後に移動調整自在である第一スライドフレーム」に相当する構成を有していない点，及びそれに伴って，第二スライドフレーム（く字形板金）は，「第一スライドフレーム」に対して前後に移動調整自在なものでなく，第一フットレスト部（脛当座）は，「第一スライドフレーム」に固着されるものでなく，第一フットレスト部（脛当座）及び第二フットレスト部（足台）が「全体として」座部（座褥）
に対して前後に接離調整可能なものでもない点
４取消事由
(1)本件発明の要旨認定の誤り（取消事由１）
(2)相違点１及び２に係る判断の誤り（取消事由２）
(3)相違点４に係る判断の誤り（取消事由３）
第３当事者の主張
１取消事由１（本件発明の要旨認定の誤り）について
〔原告の主張〕
本件審決は，周知例１，２及びその他の公知例に基づき，本件発明の要旨として，空気式のマッサージ具によってふくらはぎ又は足をマッサージするためには，ふくらはぎ等を空気式のマッサージ具で挟持するか，ふくらはぎ等を空気式のマッサージ具と壁とで挟持するように構成する必要があると認定した。しかし，本件発明の特許請求の範囲では，単に「前記フットレストは，使用者の脚にマッサージすることが可能な空気式のマッサージ具を有している」と記載されているだけであり，脚を挟持する構成に限定する旨の記載はない。本件審決の上記認定は，発明の要旨認定については，特段の事情のない限り，願書に添付した明細書の特許請求の範囲の記載に基づいてされるべきであるとする判例（最高裁昭和６２年（行ツ）第３号平成３年３月８日第二小法廷判決・民集４５巻３号１２３頁）に反するものである。
したがって，本件審決による本件発明の要旨認定は誤りである。
〔被告の主張〕
原告は，本件審決による本件発明の要旨認定は誤りであると主張する。しかし，原告が指摘している本件審決の説示部分は，本件発明の要旨を認定したものではなく，引用発明に対する周知例１，２及び６に記載された事項の適用可能性を論じたものである。原告の主張は，引用発明に対する適用可能性の問題を本件発明の要旨認定と混同したものであり，失当である。
２取消事由２（相違点１及び２に係る判断の誤り）について
〔原告の主張〕
(1)相違点１について
ア本件審決は，相違点１について，周知例１，２及び６に基づき，椅子型マッサージ機のフットレストに空気式のマッサージ具を設けることや，足裏を指圧することが可能な空気式の指圧装置は，周知技術であると認定したが，①引用発明は椅子型マッサージ機であって，そのフットレスト部はふくらはぎと足裏をマッサージする構成であるが，周知例１及び２記載の空気式マッサージ具は足裏をマッサージするものではなく，周知例６記載の空気式マッサージ具も椅子型マッサージ機に配されたものではない，②引用発明における振動子を空気式マッサージ具とすることは，引用発明の目的に沿わない，③引用発明の脛当座及び足台の形状は，ふくらはぎと足裏を挟持するように空気式のマッサージ具を配置できる形状ではないとして，引用発明に周知例１，２及び６に記載された事項又は周知技術を適用し，空気式のマッサージ具とすることは，当業者が容易に想到し得たことではないと判断した。イしかし，次のとおり，本件審決の判断は誤りである。
(ア)上記①について
椅子型マッサージ機のフットレストに配設されるマッサージ手段として，エアセルとバイブレーターの振動子とを相互に置換し得ることは従来から知られている（甲１１）。したがって，周知例１及び２記載の空気式マッサージ具が足裏をマッサージするものではないことや，周知例６記載の空気式マッサージ具が椅子型マッサージ機に配されたものではないことは，引用発明について，椅子型マッサージ機のフットレストに空気式のマッサージ具を設けるという周知技術の適用を否定する根拠にはならない。
(イ)上記②について
引用発明の目的は，最も適当な圧力と位置で按摩をすることである。この目的は，マッサージ手段の具体的構成によって影響されるものではないから，引用発明の振動子を空気式マッサージ具とすることが引用発明の目的に沿わないとした本件審決の判断は誤りである。
(ウ)上記③について
本件審決の判断は，本件発明に関する誤った要旨認定を前提とするものであるから，この判断も誤りである。
仮に，本件審決による要旨認定を前提とした場合であっても，椅子型マッサージ機のフットレストに施療部位を挟持しない空気式マッサージ具を設ける構成は，従来から存在する（甲１０）。また，必ずしもＵ字型の壁部を有さなくても，平面形状のフットレストに施療部位を挟持する空気式のマッサージ具を配することも，技術常識として存在している（甲１９，２０，２９）。したがって，本件審決の判断は誤りである。
ウ被告の主張について


(ア)被告は，振動子と空気式マッサージ具とでは技術的意義が異なるから，その置換可能性については，これらが設置される周辺構造と一体に検討されるべきであり，これらを抽象的に取り出して他の引用例と組み合わせることはできないと主張する。
しかし，本件特許の出願当初の特許請求の範囲では，フットレスト部に配設されるマッサージ具について，空気式又は振動子との限定はなかったが（甲２１），拒絶査定の後，補正により「空気式の」との文言が加えられたものである（甲２４）。また，本件明細書においても，「座部及びフットレストにおいてマッサージ具によるマッサージとともに振動によるマッサージを施すことができる」（【００３９】【００４０】）と記載されている。
したがって，本件発明の技術的意義との関係で，フットレストに配されるマッサージ具が空気式であるか否かは重要な要素ではない。
また，甲２５には，ふくらはぎを振動装置によってマッサージする平面状フットレストについて，必要に応じて，人の足首背面側をかたどった表面形状を有するエアマッサージ部を設けるため，両足首を下と横から包み込むような形状にすることが開示されている。
したがって，仮に，振動子又は空気式マッサージ具の置換可能性については，これらが配設される装置の構造を一体として検討されるべきであるとしても，フットレスト部の形状を平面状にするか又は人体の脚部の形状にかたどった表面形状にするかは，必要に応じて選択し得ることである。
(イ)被告は，引用発明において空気式マッサージ具を用いると，その伸長時に脚が左右にずれるなどして適切なマッサージができないと主張する。しかし，甲２６及び甲２８には，椅子型マッサージ機の平面状のフットレストの表面側に空気式マッサージ具を配設する技術が開示されている。また，甲２７にも，椅子型マッサージ機における，脚部を挟み込むための壁を有しないフットレストの構成に相当する表面部分に空気式マッサージ具を配設する構造が開示されている。したがって，引用発明の脛当座及び足台についても，脚が左右にずれるなどして適切なマッサージ効果を得られないという不具合を生じさせることなく，空気式マッサージ具を採用することはできるといえる。
(2)相違点２について
本件審決は，引用発明の足台は足裏を載置し，これを押し下げて，適当な圧力で足裏をマッサージすることを前提とするから，マッサージ対象を足裏に代えて，ふくらはぎないし足首周辺（足裏は含まない）のうちの下側とすることには，阻害要因がある，仮に，フットレストに配設するマッサージ具の施療範囲を足裏付近とするか，足裏からふくらはぎの下側ないし足首までも含めるかということが設計事項であるとしても，「足裏からふくらはぎの下側ないし足首」は足裏を含む以上，「脚の下側」とはいえないから，引用発明の足台を「脚の下側」，すなわち「ふくらはぎないし足首周辺（足裏は含まない）のうちの下側」をマッサージするものとすることは，当業者が容易に想到し得たこととはいえないと判断した。しかし，例えば，甲１０の図１及び２では，フットレストの当接位置及びこれに配設するマッサージ具の施療範囲を足裏から足首付近までを含めた部分とする構成が開示され，図８ないし１０では，これを足裏からふくらはぎの下側までを含めた部分とする構成が開示されているから，フットレストを有する椅子型マッサージ機に関する技術分野において，フットレストの当接位置及びこれに配設するマッサージ具の施療範囲を足裏付近とするか，あるいは，足裏からふくらはぎの下側ないし足首までとするかは，単なる設計事項である。
したがって，マッサージ具の施療範囲として，足裏から足首ないしふくらはぎまでとするか，足裏を除外した脚の下側とするかも，単なる設計事項というべきであって，引用発明の足台について，ふくらはぎないし足首周辺（足裏は含まない）のうちの下側をマッサージするものとすることは，当業者が容易に想到し得たことである。
(3)よって，相違点１及び２に係る本件審決の判断は誤りである。
〔被告の主張〕
(1)相違点１について
ア原告は，甲１１には，エアセルとバイブレーターの振動子とを置換し得ることが開示されていると主張する。
しかし，引用発明は，椅子の脛当座に足台を設け，脛当座や足台に振動子を設けるという構成を有しているところ，振動子は椅子に座った使用者が自ら脚をこれに押し当ててマッサージするというものであり，空気の供給によって伸長する空気式マッサージ具が能動的に脚を押圧する構成とは技術的意義が異なる。これらの作用からすれば，振動子と空気式マッサージ具との置換可能性は，これらが設置される装置の構造と一体に検討されるべきものであって，装置の他の要素との関係を無視して，振動子又は空気式マッサージ具のみを抽出して他の引用例に組み合せることはできないというべきである。引用発明の脛当座及び足台の振動子を空気式マッサージ具に置換すると，空気式マッサージ具の伸長時に押された脚が押圧方向に持ち上がったり，左右にずれたりして適切なマッサージ効果を得ることができなくなるのであり，空気式マッサージ具を用いるのであれば，引用発明のような構成を採用することはない。
イ原告は，引用発明の目的は最も適当な圧力と位置で按摩することに限定されるから，引用発明の振動子を空気式マッサージ具に代えるとその目的に沿わなくなるとした本件審決の判断は誤りであると主張する。
しかし，本件審決は，空気式マッサージ具と振動子とは作用形態が異なるから，引用発明のマッサージ具を空気式マッサージ具とすることは，ふくらはぎと足裏を振動子で振動按摩するという引用発明の目的に沿わないと指摘したのであって，足台の伸縮下降機能の目的について述べたものではないから，原告の主張は前提において誤りである。
ウ原告は，甲１０を挙げて，施療部位を挟持しない空気式のマッサージ具を設ける構成は従前から存在すると主張する。
しかし，甲１０記載のフットレストは，ふくらはぎを挟持するように空気式マッサージ具が配置される構成に加えて，底部にも空気袋を備えたものであって，ふくらはぎを挟持する構成が存在しないものではない。
また，原告は，甲１９及び２０には，マッサージ用袋体を平面状のフットレストに配置して施療部位を挟み得る構成が記載されているとも主張する。しかし，甲１９及び２０には，フットレストは開示されておらず，脚に対応する位置にマッサージ用袋体が配置されたマット式のエアマッサージ機が開示されているだけである。当業者は，甲１９及び２０から，マット式のエアマッサージ機では，寝転んだ使用者の脚の両側にマットから盛り上がるように膨張する空気袋を設けるものがあることを把握するにすぎない。
(2)相違点２について
原告は，甲１０の図１及び２には，足裏及び足首付近を施療範囲とすることが開示され，同図８ないし１０にも，足裏及びふくらはぎ下側を施療範囲とすることが開示されていると主張する。
しかし，甲１０の図１及び２は，地面設置型のエアーマッサージ機を開示しているにすぎず，同図８ないし１０も，ブーツ式のエアーマッサージ機を開示しているにすぎない。相違点２は，フットレスト部に関するものであり，フットレストではない装置について議論しても無意味である。


(3)よって，相違点１及び２に係る本件審決の判断に誤りはない。３取消事由３（相違点４に係る判断の誤り）について
〔原告の主張〕
(1)本件審決は，周知例１ないし３に基づき，椅子型マッサージ機において，脚をマッサージするマッサージ具を備えたフットレストを座部に対して前後に接離調整可能な構成とすることは周知技術であると認定し，また，周知例４及び５に基づき，椅子において，フットレストを着座者の体格や脚長に応じて伸縮できるように２つに分割し，分割された部分をそれぞれ又は全体として座部に対して前後に接離調整可能な構成とすることも周知技術であると認定したが，①周知例４及び５は，単に椅子のフットレストの長さを調整するものであって，脚をマッサージするものではない，②引用発明は，使用者の脚の長さが所定以上である場合に，足台を前後に接離調整可能としたものであり，使用者の脚が短い場合には，足台を前後に接離調整しないことが想定されているとして，引用発明において，固定フレームに対して前後に移動調整自在である第一スライドフレームを適用することは，当業者が容易に想到し得たものではないと判断した。
(2)しかし，本件審決の判断は，次のとおり，誤りである。
ア上記①について
周知例４及び５に記載された事項が椅子に関する技術であって，椅子型マッサージ機に関する技術ではないとしても，当業者は，椅子型マッサージ機の開発業務を遂行するに当たり，厳密な意味での椅子型マッサージ機だけでなく，椅子に関する技術も調査，分析するのであるから，上記各周知例は，本件発明の容易想到性の検討において，副引用例としての適格性を十分に有するものである。
イ上記②について
使用者の脚が所定よりも短い場合に，足台を前後に接離調整する必要がないことは，引用発明だけでなく，本件発明にも当てはまるから，引用発明に「固定フレームに対して前後に移動調整自在である第一スライドフレーム」の適用を否定する根拠にはならない。
(3)そこで，相違点４に係る本件発明の構成の容易想到性について検討すると，まず，椅子型マッサージ機に関する周知例１ないし３には，本件発明の第一スライドフレームに相当する部材が開示されており，その構成は，周知技術に属するものである。また，座席用のレッグレスト装置に関する周知例４には，レッグクッション（本件発明の第一フットレスト部に相当する。）とフットレスト本体（同様に第二フットレスト部に相当する。）が前方へ突出している状態で，レッグクッションとフットフレーム（同様に第二フットレスト部に相当する。）が全体として座席（本件発明の座部に相当する。）に対して接離調整可能となる構成や，フットフレームが両側枠（同様に第一スライドフレームに相当する。）に前後移動可能に嵌合されることにより，レッグクッションに対してフットフレームが接離調整可能となる構成が開示されている。さらに，ベッド式椅子に関する周知例５には，各足受け体として脚の上側と下側に各々分割された２つの足受け体に係る構成（本件発明のフットレストに相当する。）が前方へ突出している状態で，第１の足受け体（同様に第一フットレスト部に相当する。）及び第２の足受け体（同様に第二フットレスト部に相当する。）が，第３の水平杆（同様に第一スライドフレームに相当する。）により，座体（同様に座部に相当する。）に対して全体として伸縮動可能となる構成や，第４の水平杆（同様に第二スライドフレームに相当する。）により，第１の足受け体に対して，第２の足受け体（同様に第二フットレスト部に相当する。）が伸縮動可能となる構成が開示されている。そして，引用発明や周知例１ないし３は，使用者の脚の長さ等に合わせて脚の希望する部分をマッサージするという本件発明と共通の課題を有し，椅子型マッサージ機という技術分野でも共通している。また，周知例４は，フットレストを使用者の脚の長さ等に合わせて任意の位置に調節可能とすることを課題とし，周知例５も，椅子の状態の場合において各部を各人の身体に適合するように調整することを課題とするものである。これらの課題の共通性からすれば，当業者は，引用発明に周知例１ないし５記載の事項又は周知技術を適用することにより，相違点４に係る本件発明の構成を容易に想到することができるものというべきである。
(4)よって，相違点４に係る本件審決の判断は誤りである。
〔被告の主張〕
(1)原告は，周知例４及び５は本件発明の容易想到性の検討において，副引用例としての適格性を十分に有するものであると主張する。しかし，周知例４及び５には，相違点４に係る本件発明の構成は開示されていないから，引用発明に周知例４及び５に記載された事項を適用しても，相違点４に係る本件発明の構成は想到されない。
(2)原告は，使用者の脚が所定よりも短い場合に，足台を前後に接離調整する必要がないことは，引用発明だけでなく，本件発明にも当てはまるから，引用発明に「固定フレームに対して前後に移動調整自在である第一スライドフレーム」の適用を否定する根拠にはならないと主張する。
しかし，本件審決は，要するに，引用発明においては，脚の長い使用者に対しては足台を伸ばすことによって対処しようとしているから，引用発明に対して，第一フットレスト部をスライド可能なものとする技術を適用する必然性はないと判断しているのであって，本件発明において，使用者の脚が短いときに足台を調整する必要があるか否かは，引用発明に上記技術を適用することの必然性の有無とは関係がない。
(3)原告は，周知例１ないし３に基づき，本件発明の第一スライドフレームに相当する構成は，周知技術であると主張する。
しかし，本件発明の第一スライドフレームは，座部の前端下部に上下揺動自在として連結されている固定フレームに対して前後に移動調整自在であり，第一フットレスト部が固着され，かつ，第二フットレスト部の固着される第二スライドフレームが前後に移動調整自在に設けられたものである。つまり，本件発明は，第一スライドフレームをこのような構成とすることにより，上下揺動自在なフットレストが前方へ突出している状態で，第一フットレスト部及び第二フットレスト部が全体として座部に対して前後に接離調整可能で，かつ，この第二フットレスト部が第一フットレスト部に対して前後方向に接離調整可能であることが実現可能となったものである。周知例１ないし３には，上記のような構成をした第一スライドフレームの開示はなく，原告の主張は理由がない。
(4)原告は，引用発明や周知例１ないし３の課題は，本件発明の課題と共通すると主張する。


しかし，本件発明の課題は，フットレストの上下揺動や使用者の脚の長さ等に合わせて使用者の脚の希望する部分をマッサージすべく，脚の上側と脚の下側との両方に対してそれぞれ個別調整して好適なマッサージが行えるようにすることにある。他方，引用発明は，単に人の脚の長さに応じてその足を載せる足台の位置が下降できるようにすることを目的としたものであり，脛当座及び足台の全体を座部に対して接離調整可能なものとすることは全く示唆されていない。また，周知例１ないし３は，１つのフットレストを前後に移動させるにすぎず，フットレストの上下揺動時や使用者の脚の長さ等が変わったときにも，脚の上側と脚の下側との両方に対してそれぞれ個別に好適なマッサージを行えるものではない。したがって，引用発明や周知例１ないし３の課題は，本件発明の課題と同じではない。
(5)原告は，周知例４の両側枠が本件発明の第一スライドフレームに相当し，フットフレームが第二スライドフレームに相当すると主張する。しかし，周知例４の両側枠は，連結ブラケットに対して前後に移動調整自在なものではなく，かつ，レッグクッションが固着されるものでもないから，本件発明の第一スライドフレームに相当しない。また，周知例４のフットフレームは，第一スライドフレームではない両側枠に接続され，かつ，フットレスト本体が固着されるものでもないから，本件発明の第二スライドフレームに相当しない。また，原告は，周知例５の第３の水平杆が本件発明の第一スライドフレームに相当し，第４の水平杆が第二スライドフレームに相当するとも主張する。しかし，周知例５の第３の水平杆は，座部の前端下部に上下揺動自在として連結された固定フレームに対して移動調整自在に設けられたものではなく，本件発明の第一スライドフレームに相当しない。また，第４の水平杆は，フットレストの固定フレームに対して前後に移動調整自在なスライドフレームに対して前後に移動調整自在なものではなく，本件発明の第二スライドフレームに相当しない。(6)よって，相違点４に係る本件審決の判断にも誤りはない。
第４当裁判所の判断
１本件発明について
本件発明は，前記第２の２のとおりであるところ，本件明細書（甲８）には，本件発明について，概略，次の記載がある。
(1)本件発明は，使用者の脚の長さ等に合わせて使用者の脚の希望する部分をマッサージすることのできる椅子型マッサージ機を提供することを目的とするものである（【０００５】）。
(2)座部の前部に上下揺動自在として設けられたフットレストは，上方へ揺動して座部から前方へ突出した状態となることができる。また，フットレストは，脚の上側をマッサージする第一フットレスト部と脚の下側をマッサージする第二フットレスト部とに分割され，座部の前端下部に上下揺動自在として連結されている固定フレームと，固定フレームに対して前後に移動調整自在である第一スライドフレームと，第一スライドフレームに対して前後に移動調整自在である第二スライドフレームとを有する。第一フットレスト部は，第一スライドフレームに固着され，第二フットレスト部は，第二スライドフレームに固着されており，フットレストが前方へ突出している状態で，第一フットレスト部及び第二フットレスト部が全体として座部に対して前後に接離調整可能で，かつ，この第二フットレスト部が第一フットレスト部に対して前後方向に接離調整可能に構成されていることを特徴とする。フットレストについて，このように接離調整可能に構成されているようにしたので，使用者の脚の長さ等に合わせて使用者の脚の希望する部分をフットレストのマッサージ具で良好にマッサージすることが可能になる（【０００６】【００１６】）。
２引用発明について
(1)引用発明は，前記第２の３(2)アのとおりであるところ，引用例（甲１）には，引用発明について，概略，以下の記載がある。
ア登録請求の範囲
安楽椅子の座褥の後背部に背面凭掛を枢着し又その前縁には脛当座を起伏可動状に備えて之等を脚台上に載置し且つ該脛当座の下端に足台を設けてその表面に電磁バイブレーターの振動子を露出し又前記脛当座と足台の両側面にはく字形板金を当てて両者はバネを介して可動的に結合して成る電磁バイブレーター付安楽椅子の構造
イ実用新案の説明
(ア)引用発明は，固定座褥を脚台上に備え，電磁バイブレーターを内蔵した背面凭掛と，脛当座を起伏可動状に設けて凭掛けながら肩部背面やふくらはぎ等を振動按摩する安楽椅子において，更に足裏に振動を与えてその治療作用を増進するため，按摩する人の脚の長さに応じて足を載せる足台の位置が下降できるようにすることと，適当な圧力で足裏を押すことを目的とする。
(イ)引用発明の安楽椅子は，足台の位置が調節でき，脚長によって伸縮下降機能があるから，最も適当な圧力と位置で按摩をすることができる等の効果がある。(2)以上のとおり，引用発明は，ふくらはぎ等を振動按摩する安楽椅子において，按摩する人の脚の長さに応じてその足を載せる足台の位置が下降できるようにしたことと適切な圧力で足裏を押すことを目的としたものであり，使用者の足の長さに合わせるという点で，本件発明と共通の課題を有している。しかし，引用例には，マッサージ手段として，電磁バイブレーターの振動子に代えて，空気式マッサージ具を採用することができるかについては特段の記載はない。また，引用例には，使用者の脚の長さに合わせる構成に関しては，脛当座と足台がバネを介して可動的に結合している点が開示されているが，脚の下側をマッサージするために，脛当座とを分割し，これを個別に調整可能なものとする点についても，特段の記載や示唆はない。
３周知例について
(1)周知例１について
ア周知例１（甲２）には，概略，以下の記載がある。(ア)オットマンは，座部の前端部に回動可能に設けたフレーム，アーム部，アーム部に進退可能に装着したガイドレール，ガイドレールに固定された足受部，足受部の狭持溝に設けられた空気袋を備え，足受部は，ガイドレールとともにフレームのアーム部に沿って左右方向に移動可能となっている（【００２０】図２）。(イ)足受部の底面にはスプリング受板が取り付けられ，スプリング受板と係止板との間にスプリングが介在され，足受部がスプリングによって右方向へ移動するように付勢されている。スプリング受板とフレームに設けた支持板部との間に空気袋が配設され，空気袋の膨張によってスプリングの付勢力に抗して足受部を左方向へ移動させていくものであり，その移動量は空気袋の膨張の度合いによって調整できるようになっている（【００２１】）。


(ウ)スイッチＳ１を操作して電磁弁を作動させると，エアコンプレッサと空気袋とが連通し，空気袋が膨出することにより，足受部がスプリングの付勢力に抗して左方向へ移動するので，足受部が丁度よい位置へきたらスイッチＳ１をオフにする。足受部が左方向へ行きすぎた場合には，スイッチＳ２を操作して，空気袋を収縮させると，足受部がスプリングの付勢力により右方向へ移動するので，足受部の位置を調整することができる（【００３４】）。
(エ)スイッチＳ３の操作により第３モード又は第４モードが設定されると，空気袋が膨張，収縮され，ふくらはぎのマッサージが行われる（【００３７】【００３８】）。
イ以上のとおり，周知例１記載のエアマッサージ装置は，本件発明と同様に，空気袋の膨張，収縮によってふくらはぎをマッサージするものであって，空気袋の膨張の度合いを調整することによって，足受部の移動量を調整し，足受部の位置を丁度よい位置に調整するものであるから，使用者の脚の長さ等に合わせて脚の希望する部分をマッサージするものである本件発明とは，共通の課題を有している。そして，周知例１には，足受部の位置の調整に関して，単体の足受部をフレームのアーム部に沿って所望の位置に移動させる構成が示され，その構造からするとフレームは本件発明の固定フレームに，足受部は本件発明の第一フットレスト部に，ガイドレールは本件発明の第一スライドフレームにそれぞれ相当するといえるが，脚の下側をマッサージするために，足受部を分割し，これを個別に調整可能なものとすることについて，特段の記載や示唆はない。
(2)周知例２について
ア周知例２（甲３）には，概略，次の記載がある。
(ア)特許請求の範囲
【請求項１】座部とこの座部の後部に設けられた背もたれ部を有する椅子本体と前記座部の前方に位置して前記椅子本体に設けられた脚載置台とを備えるとともに少なくとも前記座部または背もたれ部にエアーの給排気により膨縮する複数の袋体を配設し，制御手段によって制御されるエアー供給装置からエアー給排気路を介して前記袋体にエアーを給排気し前記袋体を膨縮させてマッサージを行う椅子式エアーマッサージ機において，前記脚載置台を前記本体に取り付けられた支持台とこの支持台に前後方向に移動可能に設けられ一対の溝状の脚載部を形成するとともにこの両脚載部の両側壁に脚用袋体を互いに対向させて配設した脚支持台とから構成するとともに前記脚支持台を前後方向に移動させる移動手段を設けたことを特徴とする
椅子式エアーマッサージ機
(イ)発明の詳細な説明
ａ従来の椅子式エアーマッサージ機に設けた脚載置台は，座部側の端部から先端部までの長さが一定であり，椅子本体の座部に対して一定の位置に位置決めされていることから，標準的体形ではない使用者は，座部に座ったとき所望する脚の被施療部が脚用袋体の位置に位置せず，あらためて座部に座り直して被施療部の位置決めをしなければならないという問題や，脚載置台に配設した脚用袋体は一定の位置に位置決めされていることから，座ったままで被施療部の位置を変えたい場合は足を折り曲げたり，体の位置をずらすなどの必要があった。本発明は，これらの問題を解決するものである（【０００６】【０００７】）。ｂ請求項１記載の発明は，脚支持台を前後方向に移動させることにより使用者の所望の被施療部位置に脚用袋体を位置させることができる（【０００８】）。ｃ椅子本体の座部の前方に設けられる脚載置台は，椅子本体に肘掛け部内に設けられたフレーム枠に取り付けられた回動軸によって上下方向に回動自在に取り付けられた支持台と，この支持台に前後方向に移動可能に設けられた脚支持台とから構成されている（【００１１】）。
ｄ脚支持台には，底壁部とその両側に側壁が形成され，底壁部には両側壁の中間部に中央壁が形成されている。中央壁，両側壁及び上側底壁部によって，上方を開放し，ほぼＵ字形溝状に形成された一対の脚載部が形成され，脚載部には脚用袋体が配設されている（【００１３】【００１５】）。
ｅ使用者は，使用に当たって足を脚支持台の脚載置部に載置し，脚の被施療部の位置が脚載置部の脚用袋体と対応する位置にあるかを確認し，対応する位置にないときは，リモートコントロール装置を操作して脚支持台を移動させ，脚用袋体を所望の被施療部に位置させることができる（【００３３】）。イ以上の記載からすると，周知例２記載の椅子式エアーマッサージ機は，本件発明と同様に，エアーによる脚用袋体の膨張，収縮によりふくらはぎをマッサージするものであり，脚支持台を前後方向に移動させることにより使用者の所望の被施療部位置に脚用袋体を位置させるものであるから，使用者の脚の長さ等に合わせて脚の希望する部分をマッサージするものである本件発明とは，共通の課題を有している。
そして，周知例２には，脚支持台の位置の調整に関して，単体の脚支持台を支持台に沿って所望の位置に移動させる構成が示され，その構造からすると支持台は本件発明の固定フレームに，脚支持台，脚載置部及び脚用袋体が本件発明の第一スライドフレーム及び第一フットレスト部にそれぞれ相当するといえるが，脚支持台を分割し，これを個別に調整可能なものとすることについての特段の記載や示唆はない。
(3)周知例３について
ア周知例３（甲４）には，概略，次の記載がある。(ア)本発明は，座部に足載台が連結されているマッサージ機に関する。(イ)足載台は，ガイド部材を介して椅子のシートの前端に連結されている。ガイド部材は椅子に対して回動自在なものとし，足載台はガイド部材に対してスライド自在に取り付けられている。
(ウ)足載台の下面に配設され，ガイド部材の各側片に係合している一対の取付部材は，足載台の下面に両側縁がビス止め固定される断面Ｕ字型の取付板と，この取付板で保持されてガイド部材の側片にスライド自在に嵌合するスリーブ及び取付板に対するスリーブの位置決めと防振とを行なう一対のリングとから構成されている。
(エ)取付部材はスリーブをスラスト軸受として機能させ，ガイド部材に対し足載台をスライド自在としているが，スリーブに被せられている一対のリングはスリーブの全長のうち両端部を除く中央部にのみ被せられており，スリーブの両端部と取付板との間に空隙が生じるようになっている。


(オ)足載台の上面はブレーキ機構によって任意の傾斜角度にセットすることができ，このときのシート前端から足載台までの距離も，ガイド部材に対して足載台をスライドさせることによって設定することができるため，使用者は体格や好みに応じた姿勢をとることができる。また，足載台は振動マッサージ器を内蔵しているから，大腿部やふくらはぎに対する振動マッサージを得ることができる。イ以上の記載からすると，周知例３記載の椅子型のマッサージ機は，振動マッサージをするという点では本件発明と相違するが，足載台を前後方向に移動させることにより使用者の所望の被施療部位置に振動マッサージ機を位置させるものであり，使用者の脚の長さ等に合わせて脚の希望する部分をマッサージするものである本件発明とは，共通の課題を有しているといえる。
そして，周知例３には，足載台の位置の調整に関して，単体の足載台をガイド部材に沿って所望の位置に移動させる構成が示され，その構造からするとガイド部材は本件発明の固定フレームに，足載台が第一フットレスト部に，取付部材は第一スライドフレームにそれぞれ相当するといえるが，足載台を分割し，これを個別に調整可能なものとすることについての特段の記載や示唆はない。
(4)周知例４について
ア周知例４（甲５）には，概略，次の記載がある。(ア)本発明は，座席の前端部にレッグレスト本体を垂れ下がった状態の格納姿勢と斜め前方へ引き上げた状態の展開姿勢とに揺動可能に支持してなる座席用のレッグレスト装置において，レッグレスト本体に，フットレスト本体をレッグレスト本体側に収納された状態の収納位置と，レッグレスト本体側から突出した状態の使用位置とに移動可能に支持したことを特徴とする座席用のレッグレスト装置であり，具体的には，レッグフレームとレッグクッションとからなるレッグレスト本体をボトムフレームに揺動可能に支持し，レッグフレームに設けられたスライドレールにレッグクッションに設けられたガイド部材を嵌着し，フットフレームをレッグフレームに設けられたガイド部材に前後移動可能に嵌合するとともに，フットレスト本体をフットフレームに揺動可能に枢着するものである（【０００１】【０００４】【００１２】～【００１７】）。
(イ)フットレスト本体を前方に押し出すようにすると，フットレスト本体が，当初に突出した状態の使用位置において更に前後に移動し，その使用位置を調整することができる（【００２１】）。
イ以上の記載からすると，周知例４記載の座席用のレッグレスト装置は，レッグレスト本体とフットレスト本体を設ける構成であり，その機能に照らし，レッグフレームが本件発明の固定フレームに，ガイド部材が第一スライドフレームに，フットフレームが第二スライドフレームにそれぞれ対応するものであるが，フットフレームは，レッグフレームに対し前後方向に移動可能な構造であって，ガイド部材に対して前後方向に移動可能な構造ではないから，フットフレームは，本件発明の第二スライドフレームに相当するということはできない。原告は，レッグフレームの両側枠が第一スライドフレームに相当すると主張するが，レッグフレームがスライドレールを介してレッグクッションを支持し，レッグクッションにガイド部材が固着されている構造からすると，ガイド部材が第一スライドフレームに対応するものであると認めるのが相当であり，原告の主張は採用できない。
(5)周知例５について
ア周知例５（甲６）には，概略，次の記載がある。(ア)本発明は，ベッド式椅子に関するものであり，使用者の各人の身体に適合するように腰受け体等の各部を自由に伸縮かつ回動することができるものである。(イ)ベッド式椅子は，座体と，座体に軸支され，かつ，腰受け体角度調整部材により回動する腰受け体と，腰受け体に第１の水平杆を介し伸縮動可能に取り付けられ，かつ，背もたれ体角度調整部材により回動する背もたれ体と，背もたれ体に第２の水平杆を介して伸縮動可能に取り付けられ，かつ，第１の頭受け体角度調整部材により回動する第１の頭受け体と，座体に第３の水平杆を介して伸縮動可能に取り付けられ，かつ，第１の足受け体角度調整部材により回動する第１の足受け体と，第１の足受け体に第４の水平杆を介して伸縮動可能に取り付けられ，かつ，第２の足受け体角度調整部材により回動する第２の足受け体とからなる。(ウ)第１の足受け体伸縮動手段は，座体に横方向（第５図を基準）に固設された駆動モータと，この駆動モータの突出する出力軸に設けられた駆動歯車と，この駆動歯車とかみ合うように座体に並設された歯車と，この歯車と螺合し取付端部が第３の水平杆の中央部に取り付けられた螺杆の左右に平行に取り付けられた２本の案内杆からなり，同様に，第２の足受け体伸縮手段は，第１の足受け体に横方向（第５図を基準）に固設された駆動モータと，この駆動モータの突出する出力軸に設けられた駆動歯車と，この駆動歯車とかみ合うように第１の足受け体に並設された歯車と，この歯車と螺合し取付端部が第４の水平杆の中央部に取り付けられた螺杆の左右に平行に取り付けられた２本の案内杆からなる。
イ以上の記載からすると，周知例５記載のベッド式椅子は，第１の足受け体と第２の足受け体を設けた構成であって，使用者の身体に適合するように，第１の足受け体を座体に対して伸縮動させることができ，また，第２の足受け体も第１の足受け体に対して伸縮動させることができるものであるが，椅子の状態では，第１の足受け体は脚を支持し，第２の足受け体は足を支持するように構成されているから（第１図，第２図），第１の足受け体と第２の足受け体は，使用者の脚の長さに合わせるために分割された構成であるとはいい難い。また，水平状態（第５図）以外の角度では，第１の足受け体は前後方向（脚の長さ方向）に移動するものではない。したがって，周知例５記載のベッド式椅子については，本件発明の固定フレーム，第一スライドフレーム，第二スライドフレームに相当する部材を見いだすことはできない。
原告は，第３の水平杆が本件発明の第一スライドフレームに，第４の水平杆が第二スライドフレームにそれぞれ相当すると主張しているが，第３の水平杆は大支持板に対し前後に移動調整自在なものではないから，原告の主張を採用することはできない。
(6)周知例６について
周知例６（甲７）には，流体圧の給排により伸縮作動を繰り返す一対の指圧筒を有する指圧装置を利用者の脚の大腿部，ふくらはぎ部，頸部及び足部を指圧するように指圧台に配置したものが記載されている。
(7)甲１０について
ア甲１０には，概略，次の記載がある。
(ア)特許請求の範囲
【請求項１】上面および前後両端を開放して凹状をなした施療凹部を有する本体と，前記凹部の底面から立ち上がって相対向する凹部側面の少なくとも一方に取付けられた空気袋と，この空気袋に連通して設けられ前記空気袋に対してエアーを給排気するエアー給排気装置とを具備したエアーマッサージ機
(イ)発明の詳細な説明


ａ従前のブーツタイプのエアーマッサージ機の内面には，底部に配置される第１空気袋と，側部に配置される一対の第２空気袋と，下腿収納部の内面をほぼ一回りする第３空気袋が取付けられ，第１，第２の空気袋で足の裏及び甲をマッサージし，第３空気袋で下腿のふくらはぎ回りをマッサージするが，筒状である本体に脚を出し入れしなければならないから，取扱いが面倒であるという問題がある（【０００２】～【０００４】【０００６】）。
ｂ第１の実施例において，マッサージ機本体は，平行な一対の側壁とその間に設けられた中間壁からなる一対の施療凹部を有し，各施療凹部は上面及び前後両端をそれぞれ開放して正面から見た形状がほぼＵ字形となる凹状に形成されている。空気袋は，凹部の底面から立ち上がって相対向する凹部側面にそれぞれ取付けられ，各施療凹部の底面には半球状の施療突起がそれぞれ一つ以上突設されている（【００１７】【００１８】）。
ｃ本発明のエアーマッサージ機は，第１の実施例（図１及び２）のように単独で使用することに代えて，第２の実施例（図３ないし図７）のように椅子の座部前側に配置して椅子の構成の一部をなして使用してもよい（【００１６】【００３０】【００３１】）。
ｄ第２の実施例において，椅子本体の前端部に連結された脚載置部は，椅子本体の両肘掛部の前端部直下に位置し，一対の支持脚に渡って横架された枢軸に取付けられている。脚載置部は，枢軸を中心として回動可能であるとともに，ラチェット機構等からなる位置決め手段により複数の傾斜角度に位置決めされるように設けられている。そのため，座部の前方に脚載置部を突出した状態で固定することができ，座部に腰掛けた使用者の脚を傾斜配置の脚載置部上に載置できるようになっている。脚載置部は，幅方向両側にそれぞれ側壁を有し，幅方向中央位置に中間壁を有している。隣接する側壁間にほぼＵ字状に形成される施療凹部は，その上面及び長手方向両端がそれぞれ開放され，その内部に使用者の下肢を収納支持する。凹部側面には，それぞれ下肢をマッサージするための脚用第１空気袋が配設され，これら空気袋は，圧縮空気の給排気に伴い膨脹，収縮をするものである（【００３７】～【００４０】）。
イ以上のとおり，甲１０には，ブーツタイプのマッサージ機に空気袋を配置する構造，上面及び前後両端を開放して凹状をなした一対の施療凹部を有する本体からなるエアーマッサージ機を使用して，足を空気袋によりマッサージするとともに，突起により足裏をマッサージする構造（第１の実施例）及びエアーマッサージ機を使用して，脚用空気袋により脚をマッサージする構造（第２の実施例）が開示されている。
(8)甲１１について
ア甲１１には，概略，次の記載がある。
(ア)本発明は，下肢部マッサージユニットを備えた椅子型マッサージ機に関する。
(イ)下肢部マッサージユニットは，ユニット本体にマッサージ子として空気袋を取付けている。ユニット本体は上面及び前後両端を開放して凹状をなした一対の施療凹部を有し，空気袋は両施療凹部の相対向する凹部側面にそれぞれ取付けられている。一対の施療凹部はその上方から椅子本体に腰掛けた使用者の下肢がそれぞれ出し入れされるようになっている。使用者の座り方により，下肢のうち足及びくるぶし回り又は下腿を使用位置の施療凹部に出し入れできる（【００１４】）。(ウ)下肢部マッサージユニットは，ユニット移動手段としてのリンク機構を介して座部に取り付けられている（【００１６】）。
(エ)下肢部マッサージユニットに設けられるマッサージ子は，空気袋の膨脹，収縮を利用したものに代えて，打撃又はバイブレーションによるマッサージを行うものとしてもよい（【００３８】）。
イ以上のとおり，甲１１には，椅子型マッサージ機において，上面及び前後両端を開放して凹状をなした一対の施療凹部を有する下肢部マッサージユニットにより，下肢をマッサージする構造が記載されている。
(9)甲２５について
ア甲２５には，概略，次の記載がある。
(ア)特許請求の範囲
【請求項１】マッサージを受ける人が着座する椅子と，当該椅子の前側に移動可能に配設され，一つまたは複数のマッサージ面を有するマッサージ部と，当該マッサージ部と椅子の座部を連結し，マッサージ部を第１及び第２の所定位置のいずれかに切換えて保持して支える中間節とを備え，前記マッサージ部が前記第１の所定位置でマッサージ面が椅子の座面と略等しい高さとなると共に，第２の所定位置でマッサージ面が椅子の座面より高い前上がりの傾き状態となるように設定されること
を特徴とするマッサージ装置
【請求項２】前記請求項１に記載のマッサージ装置において，前記中間節として座部の先端部に一端を軸支し，座部下側の略垂直位置から略水平位置まで起伏可能に取付けられる支持部材を備え，前記マッサージ部を，前記支持部材の他端に所定範囲で回動可能に軸支し，当該軸支部を挟んで対向する二面がマッサージ面となるよう形成し，前記マッサージ部を軸支部で折畳んで支持部材と近接した状態で支持部材を略水平位置まで起すと一のマッサージ面が椅子の座面と略等しい高さとなると共に，支持部材を略水平位置のままでマッサージ部を回動させて所定角度に起立させると他のマッサージ面が椅子の座面より高い前上がりの傾き状態となるように設
定されることを特徴とするマッサージ装置
【請求項３】前記請求項２に記載のマッサージ装置において，前記支持部材に人の足首背面側をかたどった表面形状を有するエアーマッサージ部を設けたことを特徴
とするマッサージ装置
(イ)発明の詳細な説明
ａ足裏のマッサージにおいて，マッサージ部が座面より上にあり，かつ起立していることで，人は背中を椅子に押付けるとともに，脚を踏ん張ってマッサージ部に強く足裏を押付ける姿勢になる。その上，エアーマッサージ部で足首を支えられ，足裏の位置が変りにくいため，マッサージ部から足裏に高いマッサージ効果を与えることができる。足裏のマッサージの際に，エアーマッサージ部においては，空気圧により足首からふくらはぎ下部にかけてもマッサージを行うことができ，足裏マッサージと合せてマッサージ効果を大きくできる（【００３２】）。ｂ実施形態においては，エアーマッサージ部からの空気圧でマッサージを行う構成としているが，エアーマッサージ部に振動装置を内蔵させ，振動によりマッサージ効果を与えるなど，マッサージの方法としては他の方法を用いても構わない（【００３４】）。


イ以上のとおり，甲２５には，椅子型のマッサージ装置において，支持部材に設けられたエアーマッサージ部によりふくらはぎをマッサージするとともに，マッサージ部により足裏を振動マッサージする構造が記載されている。４取消事由１（本件発明の要旨認定の誤り）について(1)原告は，本件審決は本件発明の要旨として，空気式のマッサージ具によってふくらはぎ又は足をマッサージするためには，ふくらはぎ等を空気式のマッサージ具で挟持するか，ふくらはぎ等を空気式のマッサージ具と壁とで挟持するように構成する必要があると認定しているが，特許請求の範囲には，脚を挟持する構成に限定する旨の記載はないから，本件審決による本件発明の要旨認定は誤りであると主張する。
しかし，本件審決は，引用発明に対して周知例１，２及び６に記載された事項を適用するには，ふくらはぎ等を空気式のマッサージ具で挟持するか，ふくらはぎ等を空気式のマッサージ具と壁とで挟持するように構成する必要があると指摘しているにすぎず，このような構成を本件発明の要旨として認定したものではない。したがって，原告の主張は，その前提において誤りであり，これを採用することはできない。
また，以上のほかに，本件発明の要旨認定を誤りとすべき理由は見当たらず，この要旨認定を前提として本件審決が行った本件発明と引用発明との一致点及び相違点の認定にも誤りがあるとはいえない。
(2)よって，取消事由１は理由がない。
５取消事由２（相違点１及び２に係る判断の誤り）について
(1)相違点２について
ア前記２のとおり，引用発明は，ふくらはぎ等を振動按摩する安楽椅子において，按摩する人の脚の長さに応じてその足を載せる足台の位置が下降できるようにしたことと適切な圧力で足裏を押すことを目的としたものであるから，脛当座及び足台を必須の構成としている。
したがって，引用発明の足台において，足裏をマッサージすることに代えて，脚の下側をマッサージする構成とすることは，当業者が容易に想到し得るものとはいえない。
イまた，周知例１ないし３には，脚の下側をマッサージするために，椅子型マッサージ機のフットレストを分割した構成とすることについての特段の記載や示唆はない。周知例４には，レッグレスト本体とフットレスト本体を設ける構成，周知例５には，第１の足受け体と第２の足受け体を設ける構成がそれぞれ記載されているから，本件特許の出願当時，脚又は足を支持する手段を分割する構成は，周知の技術であったといえるものの，周知例４及び５は，乗物用座席やベッド式椅子に関するものであるから，これらの引用例における脚又は足を支持する手段を分割する構成は，使用者の脚の長さ等に合わせて脚の希望する部分をマッサージするという本件発明と共通の課題に基づいて採用されたものではない。したがって，引用発明において，脛当座を分割し，分割された脛当座にそれぞれマッサージ機能を備えた構成とすることや，足台に脚の下側をマッサージする構成を付加することも，当業者が容易に想到し得るものであるとはいえない。
ウ原告の主張について
原告は，フットレストの当接位置及びフットレストに配設するマッサージ具の施療範囲を足裏付近とするか，足裏からふくらはぎの下側ないし足首までとするかは，設計事項にすぎないと主張する。
しかしながら，椅子型マッサージ機において，一般的に，フットレストの当接位置及びフットレストに配設するマッサージ具の施療範囲を足裏付近とするか，足裏からふくらはぎの下側ないし足首までとするかということ自体は，設計事項ということができるとしても，引用発明は，足台が足裏を載置し，これを押し下げ，適当な圧力によって足裏をマッサージするという構成を有するものであるから，このような足台について，ふくらはぎないし足首周辺（足裏は含まない）のうちの下側部分をマッサージする構成とすることには阻害要因があるといわなければならない。
(2)相違点１について
ア前記(1)のとおり，引用発明は，脛当座及び足台を必須の構成とするものであるところ，引用発明の足台は，電磁バイブレーターの振動子により，足裏を振動按摩するものであって，引用例には，空気式のマッサージ具を採用することについて特段の記載はない。
イまた，前記３のとおり，周知例１，２及び甲１１には，フットレストに空気式マッサージ具を設けた椅子型マッサージ機が記載されているが，いずれもふくらはぎをマッサージするものであって，足台を備えてはいない。周知例６には，足裏を指圧することができる空気式の指圧装置が記載され，甲１０には，足裏をマッサージするための空気式マッサージ具を配置したブーツタイプのマッサージ機が記載されているが，いずれも椅子型マッサージ機ではない。さらに，甲１０の第１実施例に記載されたエアーマッサージ機は，単独で使用されるものであり，椅子型マッサージ機の一部を構成するものではないし，空気式マッサージ具で足裏をマッサージするものでもない。甲１０の第２実施例記載のエアーマッサージ機は，空気式マッサージ具によりふくらはぎをマッサージするものであり，足台を備えてはいない。甲２５には，エアーマッサージ部において，ふくらはぎを空気圧によりマッサージし，マッサージ部で足裏を振動マッサージする構成が記載され，エアーマッサージ部では振動装置を内蔵することもできるとの記載はあるが，マッサージ部を空気圧式のものとすることができるとの記載はない。
ウ以上のとおり，引用例には，空気式マッサージ具を採用することについての特段の記載はなく，また，椅子型マッサージ機の足台に空気式のマッサージ具を配置する構成について開示した周知例等も見当たらない以上，引用発明には，脛当座及び足台に設けられた振動子を空気式マッサージ具に置換することの十分な動機付けがあるとはいえず，引用発明について相違点１に係る本件発明の構成とすることが，当業者が容易に想到し得るものであるということはできない。
エ原告の主張について
(ア)原告は，甲１１を挙げて，椅子型マッサージ機のフットレストに配設されるマッサージ手段として，エアセルとバイブレーターの振動子は，相互に置換することができるものであると主張する。
確かに，甲１１（【００３８】）には，ふくらはぎをマッサージする手法として空気袋の膨張，収縮に代え，打撃又はバイブレーションによってもよいとの記載がある。
しかし，ユニット本体の上面及び前後両端が開放され，施療凹部に空気袋が取り付けられている甲１１記載の椅子型マッサージ機において，施療凹部での空気袋の膨張，収縮によるマッサージを打撃又はバイブレーションによるマッサージに置換することができるとしても，施療凹部内で両側面から挟持するように脚をマッサージすることを前提に，圧迫・弛緩を繰り返してマッサージする手段として，空気袋の膨張，収縮に代え，打撃又はバイブレーションによってもよいのであって，このような前提となる具体的構成を考慮することなく，甲１１の上記記載から直ちに，一般的にエアセルとバイブレーターの振動子の相互置換が可能であるとまでいうことはできない。


(イ)原告は，甲２６ないし２８には，椅子型マッサージ機の平面状のフットレストに空気式のマッサージ具を配置した構造が記載されているとして，引用発明の振動子についても，空気式のマッサージ具に置換することができると主張する。しかし，甲２６には，ポンプ，電磁弁，ホースに順次接続されたエアークッションを脚受台に取付け，そのエアークッションに脚を置き，電磁弁を動作させて空気圧により脚をマッサージする構成（第８図）が，甲２７には，椅子，寝台などの休息具に，指圧頭部を有する多数の蛇腹状の伸縮筒を配設するなどした指圧装置の構成（第４図）が，甲２８には，椅子本体の座席部の前端に回動可能に取り付けられたフットレスト部に装備され，フットレスト部の裏面盤の左右に設けられた孔内に空気の給排によって伸縮脈動して揉み動作を行うエアセルが配設された脚マッサージ装置（図３，５及び６）の構成がそれぞれ記載されているが，いずれも椅子型マッサージ機のフットレストに足裏をマッサージする空気式マッサージ具を配置した足台を設けることは記載されていない。これらの記載内容からすると，フットレストに平面状に配置された空気式のマッサージ具が，マッサージする部分を挟持する構造を備えていなくてもマッサージ具として機能し得る場合があることは理解できるものの，引用発明の足台について，相違点１に係る本件発明の構成を採用することが容易に想到し得ることを示すものであるということはできない。(ウ)原告は，甲１９，２０及び２９に基づき，Ｕ字型の壁部を有しなくても，平面形状のフットレストに施療部位を挟持する空気式のマッサージ具を配することは技術常識であると主張する。
しかし，甲１９，２０及び２９には，脚に対応する位置にマッサージ用袋体が配置されたマット式のエアマッサージ機を設けることは開示されているものの，椅子型マッサージ機のフットレストに足裏をマッサージする空気式マッサージ具を配置した足台を設けることは記載されていないから，上記(イ)と同様，引用発明の足台について，相違点１に係る本件発明の構成を採用することが容易に想到し得ることを示すものということはできない。
(エ)原告は，本件特許の出願当初の特許請求の範囲では，フットレスト部に配されるマッサージ具について，空気式又は振動子の限定はなかったとか，本件明細書【００３９】【００４０】には，振動式のマッサージ具を用いることも記載されているとして，本件発明の技術的意義との関係で，フットレストに配されるマッサージ具が空気式であるか否かは重要な要素ではないと主張する。しかし，本件特許の出願当初の明細書（甲２１）において，フットレストに配設されるマッサージ具として具体的な構成が開示されているのは，空気式のものだけである。また，本件明細書【００３９】【００４０】には，フットレストでは，空気式のマッサージ具とともに振動によるマッサージを施すことができることが記載されているのであって，空気式のマッサージ具に代えて，振動式のマッサージ具を用いることができるものとは記載されていない。
したがって，原告の主張は採用できない。
(3)よって，取消事由２も理由がない。
６取消事由３（相違点４に係る判断の誤り）について(1)前記２及び３のとおり，引用例及び各周知例等には，相違点４に係る本件発明の構成を備えることについての記載はなく，その構成が公知又は周知の技術であったとは認められない。
また，本件発明は，相違点４に係る構造を有することによって，座部に対して上下揺動自在なものとして連結されている固定フレームを所望の角度にした状態で，第一フットレスト部及び第二フットレスト部について，それぞれ個別にその位置を調整することが可能となり，その結果，使用者の脚の長さ等に合わせて使用者の脚の希望する部分をフットレストのマッサージ具で良好にマッサージすることが可能になるという格別の効果を奏するものであるから，相違点４に係る本件発明の構成が設計事項であるともいえない。
そうすると，引用発明において，相違点４に係る本件発明の構成とすることは，当業者が容易に想到し得るものであるとはいえない。
(2)原告の主張について
原告は，周知例１ないし３には，本件発明の第一スライドフレームに相当する構成が記載され，周知例４及び５には，本件発明の第一スライドフレーム及び第二スライドフレームに相当する構成が記載されているから，引用発明に周知例１ないし５記載の事項又は周知技術を適用して，相違点４に係る本件発明の構成とすることは，当事者が容易に想到し得ることであると主張する。しかし，前記３のとおり，周知例１ないし３には，本件発明の第一スライドフレームに相当する構成が記載されているものの，第二フットレスト部を備えた第二スライドフレームに関する記載はない。また，周知例４の座席用のレッグレスト装置のフットフレームは，レッグフレームに対し前後方向に移動可能な構造であって，ガイド部材に対して前後方向に移動可能な構造ではないから，本件発明の第二スライドフレームに相当するということはできない。さらに，周知例５記載のベッド式椅子は，水平状態（第５図）以外の角度では，第１の足受け体は前後方向（脚の長さ方向）に移動するものではないから，本件発明の固定フレーム，第一スライドフレーム，第二スライドフレームに相当する部材を見いだすことはできない。したがって，原告の主張は採用できない。
(3)よって，取消事由３も理由がない。
７結論
以上の次第であるから，原告の請求は棄却されるべきものである。
知的財産高等裁判所第４部
裁判長裁判官          滝澤孝   臣
裁判官          髙部眞   規子
裁判官          齋藤    巌
（別紙）
当事者目録
原              告        株式会   社フジ   医療器
同訴訟代理人弁護士        畑   郁夫
重冨貴   光
髙田真   司
黒田佑   輝
辻   本   希世士
辻本良   知
笠鳥智   敬
松   田   さとみ
同          弁理士        辻本一   義
神吉    出
大本久   美
丸山英   之
金澤美   奈子
坂元孝   之
被              告        ファミ   リー株   式会社
同訴訟代理人弁護士        三山峻   司
井上周   一
木村広   行
松田誠   司
同          弁理士        角田嘉   宏
古川安   航
浦   利之
下村裕   昭
山田久   就
高田    聰


平成２３年（ヨ）第２１号玄海原子力発電所３号機再稼働差止仮処分申立事件（第１事件）
平成２８年（ヨ）第４９号玄海原子力発電所４号機再稼働差止仮処分申立事件（第２事件）
決            定
当事者の表示   別紙１当事者目録記載のとおり
（以下，第１事件債権者ら及び第２事件債権者らを併せて「債権者ら」といい，第１事件及び第２事件債務者を単に「債務者」という。）
主            文
１本件各申立てをいずれも却下する。
２申立費用は，両事件を通じて，債権者らの負担とする。
理          由
第１申立ての趣旨
１第１事件
債務者は，玄海原子力発電所３号機を再稼働させてはならない。
２第２事件
債務者は，玄海原子力発電所４号機を再稼働させてはならない。
第２事案の概要
１事案の要旨
第１事件は，第１事件債権者らが，人格権又は環境権に基づき，債務者が設置している玄海原子力発電所３号機（以下「本件３号機」という。）の運転の差止めを命ずる仮処分命令を申し立てた事案である。
第２事件は，第２事件債権者らが，人格権又は環境権に基づき，債務者が設置している玄海原子力発電所４号機（以下「本件４号機」といい，本件３号機と併せて「本件各原子炉施設」という。）の運転の差止めを命ずる仮処分命令を申し立てた事案である。
２前提事実（当事者間に争いのない事実並びに証拠及び審尋の全趣旨により容易に認められる事実）
⑴当事者
ア債権者らは，その大多数が佐賀県又は福岡県に居住する者であるが，その他，九州地方の県では，５名が長崎県，７名が熊本県，４名が大分県，３名が宮崎県，２名が鹿児島県に居住し，それ以外の都府県では，１名が青森県，１名が千葉県，１名が東京都，２名が神奈川県，１名が静岡県，１名が大阪府，１名が高知県に居住する者である。
イ債務者は，福岡市に本店を置き，電気事業等を営む株式会社である。
⑵本件各原子炉施設の概要
本件各原子炉施設は，佐賀県東松浦郡玄海町大字今村（東松浦半島の北西先端部）に所在し，加圧水型原子炉（ＰＷＲ）を使用する発電用原子炉施設である。
⑶原子力発電所の仕組み
ア原子力発電所では，原子炉でウラン２３５等を核分裂させ，その際に生ずるエネルギーを蒸気の形で取り出し，蒸気でタービンを回し，タービンにより駆動される発電機で発電を行う。
イ全ての物質は，原子から成り立っており，原子は，原子核とその周りを周囲する電子から構成されている。
ウラン２３５等の原子核が，中性子を吸収すると，２つから３つの異なる原子核に変化する核分裂が起こり，これにより膨大なエネルギーが発生するとともに，核分裂生成物と２から３個の速度の速い中性子（高速中性子）が生ずる。そして，この中性子の一部が他のウラン２３５等の原子核に吸収されて次の核分裂を起こし，連鎖的に核分裂が維持される現象を，核分裂連鎖反応と呼び，こうした核分裂が安定的に継続する状態を，臨界状態という。
ウウラン２３５等の原子核が中性子を吸収して核分裂する確率は，中性子の速度が遅い場合に大きくなるため，核分裂を継続させるためには，高速中性子の速度を速度の遅い熱中性子の速度まで減速させる必要があり，原子炉では減速材が用いられる。また，核分裂連鎖反応を安定した状態に制御するためには，核分裂を起こす中性子の数を調整する必要があり，原子炉では中性子を吸収する物質である制御棒及び制御材を用いている。エ原子炉には，減速材及び冷却材（原子炉内で発生する熱を炉外に取り出し，炉心を冷却するために用いる物質）の組合せによっていくつかの種類があり，減速材及び冷却材の両者の役割を果たすものとして軽水を用いるものを軽水炉原子炉という。軽水炉原子炉のうち，高圧の１次冷却材を原子炉で高温水とし，これを蒸気発生器に導き，蒸気発生器で高温水の持つ熱エネルギーを，２次冷却設備を流れている２次冷却材に伝えてこれを蒸気に変え，この蒸気をタービンに送る方式の原子炉を加圧水型原子炉という。
⑷加圧水型原子炉を使用する本件各原子炉施設の仕組み加圧水型原子炉を使用する本件各原子炉施設は，ア）１次冷却設備，イ）２次冷却設備，ウ）電気設備，エ）工学的安全施設，オ）使用済燃料貯蔵設備等により構成されており，その概要は，以下のとおりである。ア１次冷却設備
１次冷却設備は，(ｱ)原子炉，(ｲ)加圧器，(ｳ)蒸気発生器，(ｴ)１次冷却材ポンプ及び(ｵ)１次冷却材管から構成されており，原子炉内で生じた熱エネルギーで１次冷却材を高温水とした上で，これを蒸気発生器に導き，蒸気発生器内において２次冷却材を蒸気にする機能を果たしている。なお，蒸気発生器内で温度が下がった１次冷却材は，再び原子炉に戻される。(ｱ)原子炉は，燃料集合体，制御棒，１次冷却材及びこれらの要素を取り囲む原子炉容器から構成されている。
ａ原子炉容器は，底部と上蓋が半球形となっている円筒型の容器であり，本件３号機の場合，高さ約１３ｍ，内径約４．４ｍである。ｂ燃料集合体は，ウランやプルトニウムの酸化物を小さな円柱形に焼き固めたペレットを約３００から４００個燃料被覆管（長さ約４ｍ，ジルコニウム合金製）の中に詰め，両端を溶接して密封した燃料棒を束ねたものである。本件３号機の場合，燃料棒を２６４本束ねた燃料集合体１９３体を炉心に装荷している。