ナノ表面計測事業部は、ナノプローブテクノロジー第167委員会の企業会員です。1つであり、走査型プローブ顕微鏡(SPM)の基礎・応用技術の組織的発展を目標に活動しています。nm-VI7nmノード以降最先端半導体デバイス向けフォトマスクを高精度に修正デジタルコントロールにより、さらに修正精度を向上。Placement≦2nm、Z制御≦1nmを実現しました。NanoBitTMを使用することで、微細パターンやハイアスペクトパターンの欠陥を高精度に修正します。fp-III最先端半導体デバイス用フォトマスクリペアシステムフェムト秒パルスレーザー技術の採用により石英基板への損傷、再付着から発生する透過率劣化やガリウム汚染等の現象を回避しながら、マスク修正を高速で実現します。高精度ステージコントロールテクノロジーとDUVイメージング技術の組み合わせにより高精度なマスク修正を実現します。