(亦即,有關於下部電極82的溫度之資訊)。70使電漿處理裝置60的閘門68下降。上升,以先將下部電極82與上部電極84的間隔擴大。之後,使吸引源100的負壓作用,以將晶圓11固定在工作台96上。藉由開閉機構70使閘門68上升,以將處理空間62密閉。使排氣機構80作動,而將處理空間62設為真空(低壓)。)等來將晶圓11保持於工作台96上。(例如1000W以上且3000W以下)。82側,且照射於晶圓11的背面11b。(例如1/10以下)。