Invention【0001】[0001]【産業上の利用分野】本発明は、主に半導体ウェーハやLCD基板等の被処理体を処理する複数の真空処理室を備えたマルチチャンバ処理システムにおける被処理体の搬送装置に関する。処でき、且つ一貫処理により工程の短縮化を図るように、複数の真空処理室を周配する状態に備えたクラスタツールなどと呼ばれているマルチチャンバ処理システムの開発がなされている。数の接続口を周壁に有した多角形の移載室(トランスファチャンバ)と、この移載室内に設置された旋回並びに伸縮動可能な搬送アーム(移載ロボット)とを備えてなる構成のものが知られている。定の処理を行い、その処理済みウェーハは搬送アームにより移載室内に取り出してローダ室内のカセットに戻す。chamber.【0005】こうしたマルチチャンバ処理システムであれば、搬送系であるローダ室と移載室と搬送アームとが、周配する複数個の真空処理室に対し共用できるので、各真空処理室に対し個々にそれぞれ搬送系を備える旧来の処理装置に比し、構成の簡素化並びに設置スペースの縮小化や搬送効率のアップなどが図れて非常に有利となる。距離(最大アームリーチ)とを持つ構成とした搬送アームを組付設置して完成している。室に適合した最小旋回半径及び最大アームリーチを持つ搬送アームを製作して組立てなければならない。・製作が面倒でコストアップを招いている問題があった。移載室内で動かして被処理体搬送ルート及び距離をテーチィングしてプログラム制御部に記憶させる必要があり、その作業が面倒で、使用に際する立上がりに多くの時間が必要となる問題があった。use.【0009】本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、プロセス変更に伴い真空処理室の周配個数が増減変更されても、搬送系のうち、移載室のみ形状・大きさを変更するだけで、それ以外のローダ室と搬送アームなどはいずれも共通品で対処できて、製作・組立が非常に楽でコストダウンが図れるようになるマルチチャンバ処理システム用搬送装置を提供することにある。置を提供することにある。処理室の最小周配個数に応じた最小形の移載室内で旋回し得る最小旋回半径と、真空処理室の最大周配個数に応じた最大形の移載室内より各真空処理室内へ被処理体を搬入出し得る最大アーム伸長距離を持つ構成とされていることを特徴とする。処理体を一旦受取って位置合わせするアライメント機構を、移載室内の搬送アームの旋回・伸縮動作に対し干渉しない定位置に設置したことを特徴とする。Characterize.【0013】こうした構成のマルチチャンバ処理システム用搬送装置であれば、前述の作用に加え、ローダ室内から移載室内に搬送アームにより被処置体を取り込んで真空処理室内へ搬入する途中で、該被処理体をアライメント機構で一旦受取って向きなどの位置合わせが可能となる。理体の搬入出が次々とスムーズにできて高スルートップが図れるようになる。態に互いに適当な開き角度を持って並列配置されて、その両ローダ室に対する搬送アームの進退ルート相互間の空き空間にアライメント機構が配するので、そのアライメント機構が搬送アームの動作に邪魔にならないと共に、移載室の小形化が図れるようになる。送アームを旋回・伸縮動作せしめる制御手段を備えていることを特徴とする。having.【0017】請求項5の発明は、前記請求項1記載のマルチチャンバ処理システム用搬送装置において、移載室は、その上面にその移載室内を密閉するための蓋を有し、この蓋は少なくとも2分割され、少なくとも一方が開閉自在であることを特徴とする。確な搬送アームの制御ができるようになる。実施例を図面に従い説明する。図1は3個の真空処理室を周配したマルチチャンバ処理システムにおける搬送装置の水平断面図、図2は図1のX−X線に沿う縦断面図、図3は同搬送装置に用いた搬送アームの伸縮状態時の平面図、図4は6個の真空処理室を周配したマルチチャンバ処理システムにおける搬送装置の水平断面図である。P3を一つの搬送系に周配したマルチチャンバ処理システム及びこの搬送装置を述べる。降支持ピン3aを持つ載置台(サセプタ)載置台3をそれぞれ備えている。空吸引機構やプロセスガス注入機構や加熱・冷却機構等が装備されている。備えるパターンが最小単位と想定される。送アーム14からウェーハWを一旦受取って後述する如く位置合わせを行うアライメント機構15を備えてなる。later.【0024】なお、これら移載室11及びローダ室12,13は図2に示す如く固定架台16上に搭載支持されている。そのローダ室12,13の前面側には架台17を介して外部カセット搬送装置18が設けられている。状に傾斜角度を持って配する前端壁部11f,11gとを有する平面多角形である。来るだけ無駄がないように、後述する他のパターン処理システムのものよりも最も小形に作られている。前端壁部11f,11gは前記2個のローダ室12,13に対する接続部(インターフェース)で、それぞれに接続口22が形成され、この各々の前側に前記2個(左右一対)のローダ室12,13が後端側口を個々に接続して各々ゲートバルブG2を介し内部連通する状態に並設されている。ガスと置換するガス供給機構(いずれも図示せず)が装備されている。回軸装着穴24が形成され、ここに前記搬送アーム14の後述する旋回軸28が装着されている。互いに左右対称形に作られている。室11内の搬送アーム14の旋回軸中心Oに向く状態に、互いにハの字状に適当な開き角度θ(例えば45度)を持って左右対称に並列配置されている。ローダ室12,13とが搬送アーム14の旋回軸中心Oから真っ直ぐ延出した放射線上に周配して接続され、それら各々に該搬送アーム14によりウェーハWの挿脱移載が可能とされている。謂カセット搬入室である。構(エレベータ)26により昇降可能に支持されている。ガスとの置換などして外部雰囲気との隔離ができるようになっている。gas.【0033】前記搬送アーム14は、一種の移載ロボットで、図2に示す移載室11下部或いは架台16に取り付け支持した駆動部27から旋回軸28が立設され、この旋回軸28が該移載室11の仮想中心の旋回軸装着穴24に気密状態にて上方に貫挿され、この旋回軸28の上端に図3(a)(b)に示す如く一連の多関節アーム29,30,31を連設すると共に、そのアーム31の先端にウェーハWを真空吸着などの手段により支持する略U字形状のハンド部31aを有した構成である。回半径Rが、前述の如く真空処理室の最小周配個数(3個)に応じた最小形の移載室11の内周半径より僅かに小さく設定されている。内面までの距離或いは接続口21内奥までの距離のどちらを選択しても良い。並びにローダ室12,13内に出し入れできるようになっている。内へ適正に搬入セットできるようになっている。動作に対し干渉しない定位置に設置されている。相互中間位置に前記回転軸34を介して回転台33が設置されている。右のローダ室12,13の前側に架台17を介し外部カセット搬送装置18を設置している。載ロボット(図示せず)或いはオペレータからカセットCを受け取って左右選択的に回動することで、該カセットCをローダ室12或いは13内のカセット載置台25上に搬入セットしたり、逆にローダ室12,13内から処理済みウェーハを収納したカセットWを搬出したりできるようになっている。13.【0038】また、図1中符号45は制御手段としての制御ユニットを示し、ここには各種動作モードのプログラムを格納したメモリを備えたCPU等の制御装置と、プログラムの選択や条件設定等を行う操作パネルが設けられている。provided.【0039】このような構成のマルチチャンバ処理システムにおける搬送装置の作用を述べる。置18は前方に引き返す。開いて、同様に真空引き或いは不活性ガスに置換されている移載室11と内部連通する。その都度開きながら次々と搬入セットして所定の処理を行う。内に順次搬入セットさせ、成膜或いはエッチング等の所定の処理を行う。その処理済みウェーハWは搬送アーム14によりローダ室12のカセットC内に戻す。開き、そこに外部カセット搬送装置18が移動して来て、処理済みウェーハを収納したカセットCを外部に取り出す。所定の処理を行っている最中に、左側のローダ室13に未処理ウェーハWを収納した次のカセットCを外部カセット搬送装置18により搬入し、その左側のローダ室13をロードロック状態にして待機させる。室11内方に取り込んで連続処理を行うようになる。室P11,P12,P13,P14,P15,P16を周配したマルチチャンバ処理システム及びこの搬送装置を述べる。構造作用をなすものは同一符号を付して説明の簡略化を図ると共に、前記図2及び図3に示す構成は殆ど変わらないので改めて図示せずに該図2及び図3を参照することにする。後処理を行う予備真空処置室である。処理室P11〜P16を備えるパターンが最大単位と想定される。状に周配する状態でそれぞれ接続される多角形の移載室51を備え、これ以外は前記実施例と同様の左右一対(2個)のローダ室12,13と、搬送アーム14と、アライメント機構15を備えてなる。面側に架台17を介して外部カセット搬送装置18が設けられている。配して接続可能とするために、周壁部51a,51b,51c,51d,51e,51f,51g,51hを持つ適当外周径の平面略八角形の容器とされている。室11や、図示しないが真空処理室の周配個数が4個或いは5個の中間大きさのパターン処理システムの場合の移載室より最も大形である。′を介して内部連通する状態に設置されている。′.【0050】更にその前端側の左右周壁部51f,11gは、前記実施例同様の角度で互いにV字状に配し、それぞれに接続口53が形成されている。送アーム14の後述する旋回軸中心Oに向く状態に、互いにハの字状に適当な開き角度θ(例えば45度)を持って左右対称に並列配置されている。置に旋回軸装着穴54が形成され、これに前記実施例と同様に搬送アーム14が旋回軸31を気密状態に貫挿して装着されている。done.【0052】これで、前記移載室51の周囲に前記6個の真空処理室P11〜P16と2個のローダ室12,13とが搬送アーム14の旋回軸中心Oから真っ直ぐ延出した放射線上に周配して接続され、それら各々に該搬送アーム14によりウェーハWの挿脱移載が可能とされている。給機構(いずれも図示せず)が装備されている。gas.【0054】前記搬送アーム14は、前記実施例のものと全く同一構造をなす共通品としたことで、この多関節アーム29,30,31が相互に折り畳んだ短縮状態での最小旋回半径Rが、前述の真空処理室の最小周配個数(3個)に応じた最小形の移載室11の内周半径より僅かに小さく設定されているので、前記八角形の最大形の移載室51内においては旋回スペースに余裕があるので、その分、図示のように該移載室51の周壁部51a,51b,51c,51dを肉厚化して、大形移載室51の真空強度に対する強化が図られている。理室P11のウェーハ載置台2上までの距離)に設定されている構成である。種大きさに応じてその都度アームリーチの異なる移載アームを設計製作する手間を考えると非常に有利である。その大き目のアームリーチを持つ搬送アーム14を使用することで、前記実施例の小形の移載室11内にも旋回軸中心Oからローダ室接続部(インターフェース)までの距離を大きく取って、前記アライメント機構15の設置スペースを十分確保できるようになる。相互中間位置に回転軸34を介して設置されている。本的には前記図1乃至図3に示した実施例と同様の作用が得られる上に、周配する真空処理室P11〜P16の個数が多いので、ウェーハWに対する処理を多伎に亘り行い得るようになる。成されているのが最も特徴とするところである。product.【0060】このために、前述したように、大小いずれの移載室11,51の場合も周壁端部にローダ室に対する一定した接続部(インターフェース;周壁部11f,11g及び51f,51g)を持って、そのいずれにも同一構造のローダ室12,13を全く同様に接続配置できる。個数(3個)に応じた最小形の移載室11内で旋回し得る最小旋回半径Dと、真空処理室の最大周配個数(6個)に応じた最大形の移載室51内より各真空処理室内へ被処理体を搬入出し得る最大アーム伸長距離Qを持つ構成である。個数の最小(3個)と最大(6個)と、ローダ室の個数(2個)とを選定する。