減圧プラズマから大気圧プラズマにわたり、さまざまなプロセスに最適化したプラズマ装置の設計・製作をおこない、プロセスプラズマ装置内の気相および表面における物理化学過程の解析を進める。核融合装置壁の制御に関する研究も行っている。趣旨さまざまな表面化学反応を低温で実現できるプラズマプロセスは半導体製造において必須のプロセスです。)を解説するとともに、半導体微細加工において重要なパラメータとなる壁へのイオンや化学活性種のフラックス量がどのような過程で決定づけられているかを説明します。半導体プロセスで用いられるさまざまなプラズマ源の特徴、反応性イオンエッチングにおいて表面で起こっている現象を説明するとともに、近年の動向である二周波重畳プラズマの必要性と課題についても触れていきます。「お申し込みはこちらから」(遷移先WEBサイト)よりご確認ください。Reserved.管理者ログインRSS。