次世代リソグラフィ用レジストは、ArF液浸用レジスト、EB用レジスト及びEUV用レジストを展示。高解像対応はもとよりポジレジストやネガレジスト、厚膜のニーズに対応したi線、KrFレジストや各種付属薬品について製品を取り揃えております。有したポジ型レジストを展示。半導体プロセスのキープロセスで使用するコーター・デベ・アッシャー・エッチャー・UVキュア装置を各ウエハサイズに対応し取り揃えております。2.5D及びファンナウトプロセスで使用される仮貼付け及び剥がしの装置及び材料も商品化しております。