nmより微細な寸法の加工が可能となります。nmという非常に短い波長を持ち、強力なEUV光を発生させる技術が、最大の課題です。このEUV光は、高温、高密度のプラズマから取り出すことが可能です。Plasma(DPP)法の2つの方式があります。Focus)と呼ばれる点を通って照明光学系で整形され反射型のマスクを照明します。し、パターンを形成します。(図1)現在EUVリソグラフィ技術は、光源を含め開発途上で、数年の内に実用化されることが期待されています。W程度と強度が低く、大幅な光源強度の向上と数ヶ月間メンテナンスが不要となる高い信頼性が求められております。