光ファイバ内の各位置における光電界成分の時間軸における連続的な測定を可能にする技術の開発が望まれている。試験光を生成する試験光生成部と、参照光を生成する参照光生成部と、(i)試験光生成部が生成した試験光を測定対象に入射して得られる後方散乱光及び反射光の少なくとも一方と、(ii)参照光生成部が生成した参照光とのビート信号を検出するビート信号検出部とを備え、試験光生成部は、その周波数が第1周波数から第2周波数まで周期的に変化する試験光を生成し、参照光生成部は、その周波数が第3周波数から第4周波数まで周期的に変化する参照光を生成する。試験光の周波数の変動周期と、参照光の周波数の変動周期とは略同一であってよく、参照光の周波数変動の変動パターンの始点の出現時刻と、試験光の周波数変動の変動パターンの始点の出現時刻との差は、予め定められた条件を満足してよい。Reflectometry)が知られている(非特許文献1~3を参照)。光ファイバに発生又は印加された振動を測定する光ファイバ振動測定システムが知られている(特許文献1を参照)。本発明は、測定装置及び測定方法に関する。掲載中の発明について更に詳しい内容の説明を御希望の際は、お気軽にお問い合せください。同じキーワードでJ-STORE内を検索することが出来ます。