このたび、栄えある研究奨励賞をいただき、誠にありがとうございます。関係の皆様方に厚く御礼申し上げます。学部の卒業研究として、Pdを触媒とするSiのHFエッチングについて研究を行っており、「シリコンの金属援用HFエッチングにおけるPdの特異な挙動」というタイトルで発表させていただきました。申し込みの際には、公の場での初めての発表で不安もありましたが、何事も挑戦だと思い切って、送信ボタンをクリックしました。スライドの構成や話の進め方など分からないことが多々ありました。研究室の方々から多くの助言を得て、発表内容に改良を加え、何度も発表練習を重ねることで、無事発表を終えることが出来ました。フォーラムでは、他の講演者の方々の発表を聞くことで、多くの刺激を受けるとともにどのような発表をすれば分かりやすくなるのか参考になり、とても有意義でした。講演やポスターで表面技術の一線で活躍する先輩方の研究内容を直接にうかがい、一つの課題に向かって様々な角度からアプローチを重ねて研究成果をあげておられる様子に研究の奥深さを感じました。私は、本学大学院に進学いたしますので、今回の受賞を励みに研究を一層深めて、Pdの不思議な挙動のメカニズムを解明できるように努力して参りたいと思います。材料表面工学研究グループの先生方ならびに先輩方に心より感謝申し上げます。