μmリンクをクリックすると基板の仕様がご覧いただけます。反射防止膜により制限されます。fit」とも表記されます。μmの広帯域ARコーティングが施されています。このコーティングにより基板表面の反射が減少し、ARコーティング全域にわたり94%を超える透過率が得られています。詳細は、「グラフ」タブをご参照ください。この平凸レンズは、正の焦点距離を有しており、無限および有限共役用途ではベストフォームレンズに近い形状となります。コリメートビームを収束したり、点光源からの光をコリメートするのにお使いいただけます。球面収差を最小限に抑えた設計の平凸レンズで、焦点距離は以下の式で求められます。屈折率で、Rはレンズ面の曲率半径です。球面収差を最小に抑えるためには、集光の際にはコリメート光源をレンズの曲面から入射する必要があります。コリメートする際には点光源を平坦な面に入射する必要があります。μm)、また可視スペクトル範囲で不透明度が高いため、IRレーザ用途でのご使用に適しています。空気、水、アルカリ、酸(硝酸を除く)に不活性です。ゲルマニウムの透過特性は温度に極めて敏感です。°Cで不透明に、200°Cでは完全に非透過になるほど吸収率が大きくなります。光学素子を取り扱う際には、必ず手袋を着用ください。ゲルマニウム基板の場合は、材料から出る埃も危険ですので、取り扱いの際には必ずご使用ください。お客様の安全のため、手袋の着用、取り扱い後の適切な手洗いなど、全ての安全上のご注意をお守りください。Zemaxファイル下の型番横の赤いアイコン(資料)をクリックすると、各製品のZemaxファイルをダウンロードいただけます。こちらからは当社の全てのZemaxファイルの一括ダウンロードが可能です。Enlarge生データはこちらからダウンロードいただけます。上図は、ARコーティング反射率の理論値です。μmの波長範囲における平均反射率は1.0%未満です。青い網掛け部分はゲルマニウム製平凸レンズの推奨使用範囲を示しています。Enlarge生データはこちらからダウンロードいただけます。mmのゲルマニウム基板の透過率(測定値)です。この領域における透過率は全域にわたって90%以上となっています。nt,)の境界に入射すると反射による透過損失が生じます。2つの媒質の境界で反射される成分、透過する成分はフレネルの式により決まります。フレネルの式は、光波の電界および磁界の境界条件を解くことにより導出されます。Opticsなどのテキストをご参照ください。物質の透磁率が自由空間の透磁率と同じとみなせるとき、フレネルの式は下記のように表すことができます。4.00および上から2つの式は、入射面と垂直方向の偏光の反射係数および透過係数を表すフレネルの式です。後半の2つの式は、入射面と並行方向の偏光の反射係数および透過係数を表すフレネルの式です。(θt)は表面と垂直方向から測定された入射角(屈折率)です。入射および反射光の波は同じ媒質を伝搬するので、反射率Rは単純に反射係数の平方根となります。和はいずれの偏光に対しても1となります。並行成分と垂直成分の違いがなくなります。例として、屈折率1の空気中から1.52のクラウンガラスに光線が入射する場合、界面における反射率はおよそ4%となります。mm)当社のE3コーティング付きゲルマニウム(Ge)レンズの損傷閾値データ右の仕様は、当社のE3コーティング付きGeレンズの損傷閾値の測定データです。損傷閾値の仕様はレンズのサイズや焦点距離にかかわらず全てのE3コーティング付きGeレンズで同じです。レーザによる損傷閾値についてこのチュートリアルでは、レーザ損傷閾値がどのように測定され、使用する用途に適切な光学素子の決定にその値をどのようにご利用いただけるかを総括しています。:LIDT)を知ることが重要です。光学素子のLIDTはお客様が使用するレーザの種類に大きく依存します。連続(CW)レーザは、通常、吸収(コーティングまたは基板における)によって発生する熱によって損傷を引き起こします。パルスレーザは熱的損傷が起こる前に、光学素子の格子構造から電子が引き剥がされることによって損傷を受けます。ここで示すガイドラインは、室温で新品の光学素子を前提としています(つまり、スクラッチ&ディグ仕様内、表面の汚染がないなど)。光学素子の表面に塵などの粒子が付くと、低い閾値で損傷を受ける可能性があります。そのため、光学素子の表面をきれいで埃のない状態に保つことをお勧めします。光学素子のクリーニングについては「光学素子クリーニングチュートリアル」をご参照ください。21254に準拠しています。初めに、低パワー/エネルギのビームを光学素子に入射します。その光学素子の10ヶ所に1回ずつ、設定した時間(CW)またはパルス数(決められたprf)、レーザを照射します。レーザを照射した後、倍率約100倍の顕微鏡を用いた検査で確認し、すべての確認できる損傷を調べます。特定のパワー/エネルギで損傷のあった場所の数を記録します。次に、そのパワー/エネルギを増やすか減らすかして、光学素子にさらに10ヶ所レーザを照射します。このプロセスを損傷が観測されるまで繰返します。損傷閾値は、光学素子が損傷に耐える、損傷が起こらない最大のパワー/エネルギになります。1つのミラーBB1-E02の試験結果は以下のようなヒストグラムになります。上の写真はアルミニウムをコーティングしたミラーでLIDTテストを終えたものです。