半導体デバイスは微細化が進み、液浸ダブルパターニング露光、EUV、DSA技術などの微細化技術が研究されている。微細化の流れに伴い成膜やエッチングに使用する液、ガスの制御に対する要求もさらに厳しくなりつつある。本稿では半導体デバイスの進捗に伴うマスフローコントローラについて紹介する。【マスフローコントローラの多機能化,高性能化】デジタル通信への移行に伴い,MFCの内部信号処理のデジタル化が進行した。多機能化,高性能化が行われた。おり,1次式による近似が行われていた。1次式の傾きのみを変更することにより行われてきた。調整することにより行われるため,より高精度な直線化が可能になった。ンサのダイナミックレンジを従来の2倍程度に広げることが可能になった。ンソフトを用いて変更可能なマルチガス対応が可能になった。仕様に合わせて生産が行われていた。予備品の在庫が大きくなり,問題が顕在化していた。メーカおよび装置メーカでの在庫量が大幅に削減された。多項式補正が可能になり,補正誤差を最小にすることが可能になっている。【デジタルPID調整】デジタルPID調整によりPID定数の最適化,自動化による応答のバラツキの低減が可能になった。1に差圧式MFCの構造を示す。制御バルブ,制御回路から構成されている。