Imaging膜厚測定システムは、酸化物、STI、金属など化学機械研磨プロセスの測定に使用されます。主な用途は、誘電体材料の除去率、残存した誘電体の厚みと均一性、腐食、STI上の残存酸化物などがあります。CMP消耗材の開発には、F80-t卓上システムを用いて、CMPプロセスの特性を迅速に把握することで、スラリーやパッドの開発時間を短縮化することが出来ます。ついてはお問い合わせフォームで当社技術者へお問い合わせ下さい。フィルメトリクスは無料お試し測定を行っています。結果は通常1~2日です。アモルファスとポリシリコンの屈折率と消衰係数APPLICATIONS_amorphous-poly-silicon_FilterKeywordsCMPF80膜厚測定システムは、酸化物、STI、金属CMPプロセスの測定に使用されています。APPLICATIONS_cmp_FilterKeywords誘電体フィルメトリクスは産業界で使用される数千もの誘導体膜の測定システムを取り揃えています。APPLICATIONS_dielectrics_FilterKeywordsハードコート厚フィルメトリクスのシステムはハードコートやプライマー厚を測定する自動車業界で幅広く使用されています。APPLICATIONS_hardcoat-thickness_FilterKeywordsIC故障解析F3-s1550はシリコンの裏面シニング測定をするチップ産業で使用されています。測定が測定ボタン一つで可能です。APPLICATIONS_ito_FilterKeywords医療デバイス血管形成バルーン、ステント、インプラントコーティング、その他多数の膜厚を測定します。50nmまで測定します。Teflons等の膜厚と屈折率を測定します。ハードコート層厚の測定が可能です。APPLICATIONS_ophthalmic_FilterKeywordsParyleneコーティングParyleneコーティングサンプルをF3-CSのステージ上に置くだけで膜厚の測定が可能です。APPLICATIONS_parylene_FilterKeywordsフォトレジスト当社は数十もの異なるレジストを測定しており、屈折率ファイルもお使いのレジストに応じて作成できます。APPLICATIONS_porous-silicon_FilterKeywordsプロセス膜フィルメトリクスは半導体プロセス膜の測定用に完全なシステムを取り揃えています。APPLICATIONS_process-films_FilterKeywords屈折率と消衰係数190-1700nm範囲の屈折率と消衰係数を測定APPLICATIONS_refractive-index_FilterKeywordsシリコンウエハーと膜フィルメトリクスはシリコンを2mm厚まで測定する為の卓上、マッピング、製造システムを取り揃えています。APPLICATIONS_si-wafers_FilterKeywordsソーラーアプリケーションCdTe、CdS、CIGS、アモルファスシリコン、TCO、反射防止層、その他の膜厚を測定します。50台以上のF20が大学機関研究所で使用されています。APPLICATIONS_teaching-labs_FilterKeywordsウェブコーティングフィルメトリクスのシステムはインラインのポリマー膜厚測定用に幅広く使用されています。無断複写・転載を禁じます。(月-金まで24時間営業)当サイトをご利用されることにより、当社の最新のプライバシーポリシーとクッキーポリシーに同意することになります。