数千もの誘導体膜は光学、半導体、そして数多くの産業で使用されています。当社は事実上それら全ての計測が可能なシステムを取り揃えています。以下が最も頻繁に使用されている例です:SiO2-シリコン二酸化物は最も計測が簡単な材質の一つであり、それはシリコン二酸化物が主にほとんどの波長において非吸収性(K=0)を持ち、大抵化学量論(すなわち、ケイ素:酸素の割合がほぼ正確に1:2の割合)に非常に近いためです。熱により作られたSiO2は特に正常に動作し、主に厚さや屈折率標準として使用されます。1mmの厚さのSiO2を計測することができます。Si3N4―窒化ケイ素膜の測定は他の多くの誘導体と比べ非常に困難なものであり、それは膜のケイ素:窒素の割合が3:4になることが稀であり、そのため大抵の場合膜厚の測定と共に屈折率を計測しなければならないからです。困難なことには、酸素がよく意図せずに膜に組み込まれ、ある度合いのシリコン窒化物を作っていることです。当社のシステムは測定ボタン一つで瞬時にSi3N4膜の特性を完全に評価することができます。お問い合わせフォームにより貴社誘導体用途へのご活用をご相談下さい。無料お試し測定を行っています。結果は通常1~2日です。マスク材料として半導体産業で広く用いられています。興味深いことに、SixNy膜の光学特性は膜の化学量論と関係付けられます。フィルメトリクスF20-UVXと独自の窒化ケイ素分散モデルにより、シリコン含有量が多くても少なくても、又は化学量論的でも、SixNy膜の膜厚と光学特性を容易に測定することが出来ます。アモルファスとポリシリコンの屈折率と消衰係数APPLICATIONS_amorphous-poly-silicon_FilterKeywordsCMPF80膜厚測定システムは、酸化物、STI、金属CMPプロセスの測定に使用されています。APPLICATIONS_cmp_FilterKeywords誘電体フィルメトリクスは産業界で使用される数千もの誘導体膜の測定システムを取り揃えています。APPLICATIONS_dielectrics_FilterKeywordsハードコート厚フィルメトリクスのシステムはハードコートやプライマー厚を測定する自動車業界で幅広く使用されています。APPLICATIONS_hardcoat-thickness_FilterKeywordsIC故障解析F3-s1550はシリコンの裏面シニング測定をするチップ産業で使用されています。測定が測定ボタン一つで可能です。APPLICATIONS_ito_FilterKeywords医療デバイス血管形成バルーン、ステント、インプラントコーティング、その他多数の膜厚を測定します。50nmまで測定します。Teflons等の膜厚と屈折率を測定します。ハードコート層厚の測定が可能です。APPLICATIONS_ophthalmic_FilterKeywordsParyleneコーティングParyleneコーティングサンプルをF3-CSのステージ上に置くだけで膜厚の測定が可能です。APPLICATIONS_parylene_FilterKeywordsフォトレジスト当社は数十もの異なるレジストを測定しており、屈折率ファイルもお使いのレジストに応じて作成できます。APPLICATIONS_porous-silicon_FilterKeywordsプロセス膜フィルメトリクスは半導体プロセス膜の測定用に完全なシステムを取り揃えています。APPLICATIONS_process-films_FilterKeywords屈折率と消衰係数190-1700nm範囲の屈折率と消衰係数を測定APPLICATIONS_refractive-index_FilterKeywordsシリコンウエハーと膜フィルメトリクスはシリコンを2mm厚まで測定する為の卓上、マッピング、製造システムを取り揃えています。APPLICATIONS_si-wafers_FilterKeywordsソーラーアプリケーションCdTe、CdS、CIGS、アモルファスシリコン、TCO、反射防止層、その他の膜厚を測定します。50台以上のF20が大学機関研究所で使用されています。APPLICATIONS_teaching-labs_FilterKeywordsウェブコーティングフィルメトリクスのシステムはインラインのポリマー膜厚測定用に幅広く使用されています。無断複写・転載を禁じます。(月-金まで24時間営業)当サイトをご利用されることにより、当社の最新のプライバシーポリシーとクッキーポリシーに同意することになります。