コーティング、EOコンポーネントは研究所に、OEMとして用いられます。solutionsシステムに部品だけを提供するのではありません。私達は私達の顧客と彼らの特定の問題でそれらを熱心に助けている効果的で信頼できる関係を確立します。私たちの総合的なアプローチは、テクノロジーを向上させて、常に期待を超え、ビジネス目標を達成するソリューションを生み出します。優れた均一性と再現性によって特徴付けられています。(MOCVD)マルチウェーハシステムを使用して、我々は非常に高品質のエピタキシャル構造を製造します。in-situモニタリングでは、成長プロセスを正確に制御する測定も可能です。G4リアクタは、稼働中に最大6インチのウエハを数枚処理することができます。assurance信頼性は私たちのコアバリューのひとつです。フォトルミネッセンス、ホール効果装置、SIMS、XPSなどを使用してすべての製品を包括的にテストし、品質と均一性を保証します。uniformity.また、革新的な企業が課題を解決し、革新を市場に投入するのに役立つ広範な研究開発サービスも提供しています。製品設計のコンセプト段階にあるか、既存の製品を革新的にアップグレードする必要があるかにかかわらず、私たちの研究開発能力は、新しい機会をつかみ、最高レベルのパフォーマンスをもたらし、投資に価値をもたらすのに役立ちます。devices.ENTについてENTは、商業およびR&Dクライアント向けに高品質のIII-V構造を製造する半導体エピタキシー企業です。当社の比類のない才能、リソース、および経験により、常に期待を超え、ビジネス目標を達成するカスタムまたは短期のソリューションを提供できます。Systemブランドの下で運営されており、優れたリソースを活用して革新と成長を促進する機会を提供しています。スキル、才能、資産を組み合わせることで、お客様が目標を達成できるように支援することができます。アプリケーション向けの中距離および長波長範囲の標準およびカスタマイズされたハイテク非冷却光検出器の世界有数のメーカーです。私たちのコアコンピタンスはエピタキシーです。最終製品は化合物半導体ウェーハです。五元III-V化合物半導体の原子工学的エピタキシャル層を作成します。正確に制御されているだけでなく、優れた均一性と再現性が特徴です。さまざまなニーズに合わせて調整されたエピタキシャル構造の作成に優れており、お客様が競争力を獲得して維持できるよう支援します。私たちは、企業が革新的なアイデアをグローバルに市場性のある製品に変えることを支援します。エレクトロニクス用の炭化ケイ素化合物、グラフェンおよびその他の2Dナノ材料で30年以上の経験を持っています。彼は、GaAs、InP、GaN関連、SiC、グラフェンの気相エピタキシーと有機金属気相エピタキシーを専門としています。LED、QD、SOAなどのエピ構造が含まれます。多くのエピタキシャル技術を開発し、後に実験または商業生産に成功しました。グラフェンフラッグシッププロジェクトなど、政府およびEU向けのプロジェクトの開発および管理に関する専門知識も持っています。1988年にワルシャワ工科大学で物理学の博士号を取得しました。バックグラウンドを持つチームは、III-V半導体エピタキシーで実績があります。ポジショニング会社案内お問合せプライバシーポリシーお知らせ。