デバイス製造工程等において半導体ウエハ、液晶基板等の基板を清浄雰囲気で保管する基板保管装置に関する。JP真空雰囲気下で半導体ウエハを保管する保管装置が開示されている。この保管装置は、予備真空室及び真空保管室を有し、半導体ウエハの保管を真空中にて行うものである。半導体ウエハは真空中で保管されるため、塵埃の付着という問題を生ぜず、極めて清浄度の高い半導体ウエハ保管装置が実現される。[0003]【発明が解決しようとする課題】しかしながら、係る保管装置は、保管装置内部の清浄度は真空であるため極めて高いが、保管装置内部における基板の搬送、あるいは保管装置への基板の挿入あるいは取り出しにハンドリングロボット等を使用せざるを得なかった。ハンドリングロボット等が基板自体又は基板を搭載した置き台を搬送するには、どうしてもこれらに接触せざるを得ず、その接触部分から塵埃が発生するという問題がある。words,ハンドリングロボット等からの発塵が清浄雰囲気を破壊してしまうので、係る従来の真空保管装置における清浄度には限界があった。relating,保管装置内部の基板の搬送、或いは保管装置への基板の出し入れを非接触で行い、保管装置内部の清浄度を破壊することのない基板保管装置を提供することを目的とする。[0005]【課題を解決するための手段】本発明は、基板を非接触で搬送する搬送装置のモジュールを自在に接続して、該基板の密閉保管空間を形成し、前記搬送装置により前記基板を任意の位置に搬送し又は保管する制御手段を具備することを特徴とする。非接触で基板を搬送することができる。従って、密閉保管空間内で塵埃の発生の問題がなく、清浄度を破壊するという問題が生じない。一実施例を図1乃至図5を参照しながら説明する。described.【0008】図1は、本発明の一実施例の基板保管装置の平面図である。この基板保管装置は、基板を非接触で搬送する搬送装置のモジュール1が図示するようにマトリクス状に接続されており、マトリクス状に配列されたモジュール1の外周は、隔壁21で大気と分離され、基板の密閉保管空間を形成している。substrate.【0009】基板を非接触で搬送する搬送装置のモジュール1がマトリクス状に配列されているので、この搬送装置により半導体ウエハ或いは液晶基板等の基板を任意の位置に非接触で搬送し、又は保管する制御手段を備えている。図示の矢印は、基板の移動方向を示す。モジュール22は、大気と連通する部分であり、その周囲がゲートバルブ2,3,4,5により大気及びモジュール1からなる密閉保管空間と隔てられている。5.【0010】図2は、本発明の一実施例の基板保管装置の側面図である。図示するように基板を非接触で搬送する搬送装置のモジュールは図1に示すマトリクス状に配列されたものが、3段積みに構成され、保管容量の向上が図られている。ゲートバルブ2は、密閉保管空間への出入口の開閉ドアの役割を果たすものである。制御装置12は、基板をマトリクス状に配列されたモジュール間を非接触で任意の位置に搬送する制御装置である。manner.【0011】この基板保管装置には、密閉保管空間内を真空排気する真空ポンプ24及び空間内の真空を破壊するリークバルブ25とが備えられている。24により、密閉保管空間は高真空に保たれ基板の保管に好適な高清浄度環境が形成される。space,3,4,5で囲まれた空間を真空排気する真空ポンプ及び真空状態を破壊するリークバルブとが備えられている。provided.【0012】図3は、密閉保管空間の搬入口に清浄搬送トンネルを接続した平面図である。モジュール23のゲートバルブ13の大気側には清浄搬送トンネル7が接続されている。清浄搬送トンネル7は、基板保管装置の密閉保管空間と同様に、基板を非接触で搬送する搬送装置が備えられており、又、トンネルの内部は密閉保管空間と同様に高真空等の高清浄度環境となっている。environment.【0013】図4は、基板を非接触で搬送する搬送装置のモジュール1の構成を説明するものであり、(A)は上面図であり、(B)は側面図である。基板を非接触で搬送する搬送装置は、この実施例では磁気浮上搬送装置である。モジュール1は、その上面に浮上用電磁石の磁極6を備え、その下面にはリニアモータ8を備える。浮上用電磁石の磁極6の磁気吸引力により、基板15が搭載されたカート14は、その上面或いは下面の隔壁より非接触で浮上保持される。リニアモータ8は、例えば誘導形リニアモータであり、移動磁界をカート14の下面に備えられた良導体板に作用させ、カート14を非接触でほぼ水平方向に駆動する。従って、カート14に搭載された基板15は、上面及び下面の隔壁から非接触で密閉保管空間内を矢印方向に制御装置12により特定された位置まで移動させることができる。図示しないがカート14を制御装置12により特定された位置で停止装置により停止させうる。position.【0014】次に、この基板保管装置の動作を説明する。22に基板15が搭載されたカート14を移動する。これは、例えば図3に示す搬送トンネル7からゲートバルブ13を開いた状態で直接チャンバー23に移動させてもよいし、大気中からゲートバルブ3,4,5を閉じた状態で、ゲートバルブ2を開き基板15が搭載されたカート14を移動させてもよい。14がモジュール22に移動した後で、ゲートバルブ2を閉じて、真空ポンプによりモジュール22内の密閉空間を真空引きする必要がある。pump.【0015】密閉空間内は真空ポンプ24により真空引きされ、高真空の極めて清浄な空間となっている。12の指令によって各モジュール間を移動し所定の保管位置のモジュール迄移動する。基板15は、処理されるプロセスの種類に応じて定められる最適位置に搬送保管される。保管が長期にわたる場合は、カート14の浮上状態を解除し隔壁の床面に下ろしてもよい。これにより、浮上保持のための電力を削減することができる。holding.【0016】基板を、密閉保管空間の外部に搬出する場合には、前述の説明と逆の手順で行われる。このように、基本となるモジュールの組み合わせで全体をチャンバー化するとともに、保管の位置の指示に従って、カート14は矢印の方向に移動自在であることから、プロセスラインの特質に合わせて基板の最適保管位置を設定することができる。set.【0017】図5は、搬入口、搬出口の組み合わせを示す説明図である。1を任意に接続して構成することから、搬入、搬出口をプロセスラインの特質に合わせて任意に変更することが可能である。図3に示すように搬送トンネルを密閉保管空間に直接接続することにより、搬送から保管に至る前記空間を真空雰囲気とすることができ、基板保管装置のロードロック室は不要となる。also,モジュールを直線的に配置するのでなく、曲線的に配置することもプロセスラインの特質等に応じて適宜採用することができる。非接触型の搬送装置であってもよい。高清浄度環境として、真空雰囲気を一例として説明したが、高純度の窒素ガス或いはその他のアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気を用いてもよい。基板保管装置が搬送トンネルを介してプロセス装置に直結されている場合には、プロセス装置に用いる不活性ガスの種類に基板保管装置の雰囲気を合わせることにより、プロセス装置とマッチングのとれた基板保管装置とすることができる。[0020]【発明の効果】本発明は、基板を非接触で搬送する搬送装置のモジュールを自在に接続して密閉保管空間を形成したものである。従って基板の保管装置内部の搬送に際し、基板を非接触で搬送することができることから発塵の問題が生ぜず基板が汚染されるという問題を生じない。それ故、製品の歩留りの向上を図ることができる。products.【0021】又、本発明の基板保管装置によれば、基板の搬入、搬出口を任意に設定することができるので、プロセスラインの特質にあった最適の保管形態を実現することができる。基板の搬入、搬出口を直接清浄搬送トンネルに接続することによりロードロック室が不要となり、搬入、搬出時間の短縮が実現できる。モジュール化したためにヘパフィルタ、真空ポンプ等の構成要素が単純化され、経済的な保管装置が実現される。DRAWINGS【図1】本発明の一実施例の基板保管装置の平面図。invention.【図2】本発明の一実施例の基板保管装置の側面図。FIG.【図3】搬入口に清浄搬送トンネルを接続した平面図。entrance.【図4】基板を非接触で搬送する搬送装置のモジュールを説明する、(A)上面図、(B)側面図。view.【図5】搬入、搬出口の組み合わせの例の説明図。基板を非接触で搬送する搬送装置のモジュールを自在に接続して、該基板の密閉保管空間を形成し、前記搬送装置により前記基板を任意の位置に搬送し又は保管する制御手段を具備することを特徴とする基板保管装置。前記基板の密閉保管空間は、真空、又は清浄な窒素ガス、又はその他の不活性ガス雰囲気であることを特徴とする請求項1記載の基板保管装置。前記基板は、半導体ウエハ又は液晶基板であることを特徴とする請求項1記載の基板保管装置。あることを特徴とする請求項1記載の基板保管装置。前記搬送装置は、窒素ガス又はその他の不活性ガスによる気流浮上搬送装置であることを特徴とする請求項1記載の基板保管装置。前記基板の密閉保管空間は、前記基板を清浄な雰囲気の密閉空間を搬送する搬送トンネルに直接接続されていることを特徴とする請求項1記載の基板保管装置。