エ上記図1~3によれば,隣接する第一電極(図中符号2)の上方には,発光層パターン(同6)が配置され,発光層パターンは第一電極の幅よりも大きく図示され,隣接する発光層は,互いに隣接する第一電極間の中間で接していることが図示されていることが分かる。上記のとおり「発光層パターンおよび開口部の幅をピッチと等しい100μmを中心とした値に設定することが好ましい」と記載されていることからすると,発光層パターンと開口部の幅は,100μmを中心とした略同じ寸法とすることが先願明細書に記載されているといえる。オ(ア)さらに先願明細書(甲8)には,実施例1として,以下の記載がある。「実施例1発光層パターニング用として,図17に示したようにマスク部分と補強線とが同一平面内に形成された構造のシャドーマスクを用意した。シャドーマスクの外形は120×84mm,マスク部分31の厚さは25μmであり,長さ64mm,幅305μmのストライプ状開口部32がピッチ900μmで横方向に92本配置されている(27頁14行~20行)。」「上記のようにして,図32~34に模式的に示すように,幅270μm,ピッチ300μm,本数272本のITOストライプ状第一電極2上に,パターニングされたRG発光層6およびB発光層を兼用する電子輸送層7を含む薄膜層10が形成され,前記第一電極と直交するように幅750μm,ピッチ900μmのストライプ状第二電極8が66本配置された単純マトリクス型カラー発光装置を作製した。RGBからなる3つの発光領域が1画素を形成するので,本発光装置は900μmピッチで90×66画素を有する(30。」頁22行~31頁3行)「第一電極は...ITO基板上にフォトレジストを塗布して,通常のフォトリソ法による露光,現像によってフォトレジストをパターニングした。ITOの不要部分をエッチングした後にフォトレジストを除去することで,ITOを長さ90mm,幅270μmのストライプ形状にパターニングした。図8に示したように,このストライプ状第一電極2は300μmピッチで横方向に272本配置されている(28頁9行~18行)。