第一電極2は,幅が270μm,ピッチ300μmでパターニングされてなるものであるから,図8にあるように隣接する第一電極間に間隔があり,これが30μmであるものと理解することができる。カ(ア)さらに先願明細書には,実施例2として以下の記載がある。「実施例2正孔輸送層を形成するまでは実施例1と同様に行った。次に,第一の発光層用シャドーマスクを基板前方に配置して両者を密着させ,基板後方にはフェライト系板磁石(日立金属社製,YBM-1B)を配置した。この際,図18および図19に示したように,ストライプ状第一電極2がシャドーマスクのストライプ状開口部32の中心に位置し,補強線33がスペーサー4の位置と一致し,かつ補強線とスペーサーが接触するように,両者は位置合わせされている。この状態でAlq3を30nm蒸着して,G発光層をパターニングした。次に,前記G発光層のパターニングと同様にして第二の発光層用シャドーマスクを使用し,1wt%のDCMをドーピングしたAlq3を40nm蒸着して,R発光層をパターニングした。同様にして第三の発光層用シャドーマスクを使用し,DPVBiを30nm蒸着して,B発光層をパターニングした。それぞれの発光層は図20に示したようにストライプ状第一電極2,。前記第一電極の露出部分を完全に覆っているさらに,図21に示したような配置において,DPVBiを90n,。Alq3を30nm基板全面に蒸着して電子輸送層7を形成したこの後に,薄膜層10をリチウム蒸気にさらしてドーピング(膜厚換算量0.5nm)した。その後,第二電極のパターニングおよび保護層の形成は実施例1と同様に行った。幅270μmピッチ300μm,本数272本のITOストライプ状第一電極上2上に,パターニングされたRGB発光層6を含む薄膜層10が形成され,前記第一電極と直交するように幅750μm,ピッチ900μmのストライプ状第二電極8が66本配置された単純マトリクス型カラー発光装置を作製した。RGBからなる3つの発光領域が1画素を形成するので,本発光装置は900μmピッチで90×66画素を有する(31頁21行~32頁25行)。ことから,シャドーマスクの開口部幅(305μm)について明記はされていないものの,実施例1と同様に,発光層パターニング用として,305μm幅のストライプ状開口部がピッチ900μmで形成されたシャドーマスクを300μmピッチで横に移動させながらG,R,Bの各発光層をパターニングしていると解され,それにより90×66画素の発光装置を製作するものであると理解することができる。)そうすると,審決が「...ストライプ状開口部の幅305μmと上記ピッ3チ300μmとの差の分が,前にパターニングされた発光層6の上に次にパターニングされた発光層の略5μm幅分として重なり,また,この重なりあいは,シャドーマスクを使用してのパターニングを300μmずつ横に移動させるパターニング作業に伴い次々に生じるものといえる(14頁14行。先願明細書及び図面の図示内容に基づき具体的に計算してみても,有機発光層が,隣接画素間のスペース部内で重なりあっているといえる(14頁1。」9行~21行)と判断したことに誤りはない。)ア原告の主張?@について4(ア)原告は,上記発光層パターンおよび開口部の幅をピッチと等しい100μmに設定するとの記載から,開示されているのは,発光層パターン幅=シャドーマスク開口部幅=ピッチ幅=100μmという関係のみであるとするが,上記認定に照らし,採用できない。(イ)また原告は,シャドー効果(マスクと蒸着源との間の角度により蒸着されない部分が出るという効果)が存在するために,有機発光層の幅よりもシャドーマスクの開口部の幅の方が広いことは,当業者に自明であるとし,また審決が先願発明の1について隣接するいずれの発光層パターン間にも隙間が実質的に存在しないと認定したのも誤りであると主張する。この点に関し,先願明細書の図2には前記のとおり隣接する発光層パターンが接している状況が図示されているほか,以下の図11,図22でも同様である。)イで認定した本件発明の製造方法によって製造され2た一例の記載,実施例1,2の記載によれば,マスクの幅がピッチ幅より5μm大きい先願発明の1においては,隣接するいずれの発光層パターンも重なっていると考えることができる。すると,審決の認定に誤りはないことになる。(ウ)原告は,審決が認定したシャドーマスクの開口部の幅寸法は実施例1に示されているところ,その三色の有機発光層のうち,R層とG層は互いに隣接するが,B層は電子輸送層と兼用されているので,スペース部内のみで重なる構造ではなく,R層とG層(スペース部外のITO第1電極上)にも重なっており,訂正発明3の「隣接するスペース部内のみで重なり合っている」構造とは異なるとも主張する。」)「その後,第二電極のパターニングおよび保護層の形成は実施例1と同様に行った(32頁16行~17行)と記載されており,実施例2は。」実施例1と基本的部分を共通にしている。実施例1は既に検討したとおり電子輸送層10をB発光層と兼用する点で訂正発明3と相違するが,実施例2は上記のとおり「第三の発光層用シャドーマスクを使用し,DPVBiを30nm蒸着して,B発光層をパターニングした。...それぞれの発光層は...第一電極2の3本おきに配置され,前記第一電極の露出部分を完全に覆っている。図21に示したような配置において,DPVBiを90nm,Alq3を30nm基板全面に蒸着して電子輸送層7を形成した(32頁7行~14行)とあるように電。」子輸送層と有機発光層のB層とをそれぞれ別の工程で形成するもののであり,DPVBiという同じ物質を用いているにすぎない。本件訂正後の本件明細書(甲4)においても,有機発光層と電子輸送層の材料につき以下の記載がある。【スク8をスライドさせ,ブルーの有機発光層14Bとしてアルミキノリン錯体にドーパントとしてペリレン(ドーピング濃度3wt%)を25nm共蒸着後,引き続き電子輸送層16Bとしてアルミキノリン錯体を30nm蒸着により形成した。上記記載によれば,訂正発明3において電子輸送層と有機発光層で材料が同じであることが除かれるものとは解されないから,原告の主張は採用することができない。イ原告の主張?Aについて(ア)原告は,先願明細書には,シャドーマスクと基板との間は離間されていること及びシャドーマスクには厚さが存在することが各々記載されている以上,シャドー効果は不可避であるから,発光層パターンと開口部の幅を同じように設定できるようなパターニング条件は存在しないと主張する。ように,マスク部分31がスペーサー4と重なるように位置を合わせながら,このシャドーマスクをスペーサーに密着させる。この状態で第二電極材料14を蒸着することにより所望の領域に第二電極8を形成する。補強線33側から飛来してきた第二電極材料は,隙間36が存在するために補強線の影となる部分に回り込んで蒸着されるので,補強線によって第二電極が分断されることはない(20頁16行~23行)と。」記載されており,第二電極材料は回り込んで蒸着されるものである。同じように有機化合物からなる発光層を含む薄膜層も,スペーサー4による隙間36が存在するから,蒸着物の回り込みが発生するものと解される。実施例1により作製した発光装置については「本発光装置の発光領域は270×750μmの大きさでRGBそれぞれ独立の色で均一に発光した。発光層のパターニング時における発光材料の回り込みなどによる発光領域の発光色純度低下も認められなかった。この発光装置を線順次駆動したところ明瞭なパターン表示とそのマルチカラー化が可能であった(31頁1。」3行~20行)と記載され,実施例2により作製した発光装置も「本発光装置では電子輸送層が図2に示すように基板全面に形成されており,パターニング工程の簡略化と,すでに述べた発光装置の特性劣化を防ぐ効果をもつ構造である。各ストライプ状第二電極は,実施例1と同様に長さ方向に渡って電気的に十分低抵抗であり,短絡は皆無であった。作製した発光装置の発光領域は270×750μmの大きさでRGBそれぞれ独立の色で均一に発光した。発光層のパターニング時における発光材料の回り込みなどによる発光領域の発光色純度低下も認められなかった。実施例1と同様にこの発光装置を線順次駆動したところ,明瞭なパターン表示とそのマルチカラー化が可能であった(32。」頁下1行~33頁10行)と記載されており,第一電極の幅270μmとそれに直交する第二電極の幅750μmに沿って,発光領域が270×750ミクロンとなるように,パターニングの条件に沿った発光装置が得られることが記載されているといえる。すると,先願明細書には,シャドーマスクと有機発光層との間には,離間距離(隙間)を設けること,及び,マスクの厚さが存在することが記載されているが,蒸着材料の回り込みによりマスク開口部の幅と同じように発光層パターンを設定することができることが記載されているといえるから,原告の上記主張は採用することができない。(ウ)また原告は,蒸着源の蒸着物質は,加熱されて上方に向かって放射状に広がって基板に蒸着されるので,蒸着源の真上から横方向にずれればずれるほど,基板への入射角は小さくなって,隣接発光層の重なりはなくなるうえ,シャドー効果の影響が無視できるような条件設定は先願明細書には開示されていないと主張する。限定されるものではなく,1つの蒸着源から蒸着してもよいが,補強線による第二電極の分断を発生させにくくするためには,補強線に対して複数の異なる方向から第二電極材料を補強線に回り込んで蒸着せしめることが効果的である。このような効果を発現させる方法としては,蒸着物が蒸着源から基板まで直進的に到達する真空蒸着法などの高真空プロセスを用いる場合には,複数の蒸着源から第二電極材料を蒸着したり,1つ以上の蒸着源に対して基板を相対的に移動させながら,もしくは回転させながら第二電極材料を蒸着する方法が工程的には好ましい。スパッタリング蒸着法などの低真空プロセスも,原理的に第二電極材料がランダムな方向から飛来して補強線を回り込んで蒸着されやすいので,好ましい方法である(21頁6行~17行)と記載されてい。ロセスを用いる」ことも記載されている。すると,これら手段によりマスク開口部の幅と同じように発光層パターンを設定できるようにすることを開示しているといえる。一部分が薄膜層の厚さを上回る高さをもつスペーサーを基板上に形成する工程と,開口部を横切るようにして形成された補強線を有するシャドーマスクをスペーサー層に密着させた状態で蒸着物を蒸着せしめることによりパターニングする工程とを含むことを特徴とする。II’断面図である図3に示すように,薄膜層10の厚さを上回る高さをもつようにスペーサー4を基板1上に形成しておく。薄膜層などの形成の後に,図4および図4のII’断面図である図5に示すような補強線33を有するシャドーマスクを,前記スペーサーに密着させた状態で,図6および図6の側面図である図7に示すように蒸着物を蒸着せ。この際シャドーマスクはスペーサーに密着するので薄膜層を傷つけることを防止できる。このシャドーマスクのマスク部分31の一方の面35と補強線との間には隙間36が存在するので,蒸着物をこの隙間に回り込んで蒸着せしめることにより,第二電極を補強線によって分断されることなくパターニングすることができる(14頁8行~24行)と記。」載されており,補強線を有するシャドーマスクをスペーサー層に密着させた状態で蒸着物を蒸着せしめること,すなわち,補強線によりシャドーマスクを補強し,シャドーマスクの開口部の形状の変形を防止すること,及び,シャドーマスクと有機発光層との隙間による蒸着材料の回り込みが生じることが記載されている。すると,仮に原告のいうシャドー効果があったとしても,上記のとおり蒸着時の回り込みが発生し,その回り込み量を各製造方法により調整することにより,マスク開口部の幅と同じように発光層パターンを設定し,製作することが可能であることが先願明細書に示されているということができるから,原告の上記主張は採用することができない。ウ原告の主張?Bについて原告は,当業者が,先願明細書に記載されたシャドーマスクの開ロ幅と移動ピッチ寸法幅から,有機発光層の重なり代が5μmであることを計算する動機付けを持つためには,訂正発明3に接することが必要であって,先願明細書において,隣接する有機発光層を重ねるという技術思想は,開示されていないから,蒸着方向が略90度であることを読み取って,なおかつシャドーマスクの開口部の幅とピッチ幅に基づいて有機発光層の幅を具体的に計算しなければ,隣接有機発光層の5μmの重なりは,導き出すことはできないと主張する。先願明細書に隣接する有機発光層を重ねることについての開示がされていることは既に検討したとおりであり,先願明細書には「発光層パターニング用として,図17に示したようにマスク部分と補強線とが同一平面内に形成された構造のシャドーマスクを用意した。...マスク部分31の厚さは25μmであり,長さ64mm,幅305μmのストライプ状開口部32がピッチ900μmで横方向に92本配置されている(27頁。」14行~20行)と記載されていることから,隣接発光層の重なりは,5μmとなることは明らかといえる。違しており,審決は,これを看過していると主張する。先願明細書(甲8)には「第一電極は...ITO基板上にフォトレジストを塗布して,通常のフォトリソ法による露光,現像によってフォトレジストをパターニングした。ITOの不要部分をエッチングした後にフォトレジストを除去することで,ITOを長さ90mm,幅270μmのストライプ形状にパターニングした。図8に示したように,このストライプ状第一電極2は300μmピッチで横方向に272本配置されている(28頁9行~18行)と記載されており,マスクのストライプ状開。」口部32の幅は305μmで,ピッチは900μmである。有機発光層がRGB3色であることを考慮し,さらに,既に上記で摘示した先願明細書に記載された図2,図11等の記載内容からしても,電極と発光層との各パターンの中心を敢えてずらすとする根拠は示されていない。すると有機発光層の幅305μmの内,両端の重なりは5μmずつであり,重なり部分のない発光層パターン295μmに対し,ITOパターンの幅は270μmであるので,発光層パターン両端の5μmの重なり部分は,当然ITOパターンの間の隙間に位置すると理解することができる。これは訂正発明3における「スペース部内のみで重なりあう」構成と実質的に同一であるといえるから,審決の認定に誤りはない。原告の主張は採用することができない。オ以上の検討によれば,原告主張の取消理由3は理由がない。4結語以上によれば,原告主張の取消事由1は理由があり,これが審決の結論に影響を及ぼすことは明らかである。