本装置(NI-1000)は、UVナノインプリントの低温プロセスに対応し、真空チャンバー内でサブミクロン単位でのアライメント精度を達成します。UVナノインプリントに求められる均一なUV照射機能を有し、低粘度樹脂に対応する微小圧コントロールが可能で、真空中での気泡噛み込みを防止します。種々のオプション設定によりマニュアルからフルオートまで熱/UV式が選択できます。ナノインプリントプロセス装置で、ナノインプリントプロセスパラメータである金型および基板の温度、金型押し込み荷重、金型押し込み変位の各制御が高精度にでき、成形部を真空チャンバで密閉して真空環境でのナノインプリントプロセスにも対応可能なものです。金型および基板を最高650°Cまで加熱できるので、樹脂材料だけでなくガラス材料へのナノインプリントプロセス実験にも応用可能です。ナノインプリントプロセスを行います。プロセス条件の入力、プロセスの実行、停止の指令を行います。本体の動作状態をモニタすることができます。本体とは伸縮性専用固定台で一体化されています。真空環境でのプロセスに対応するための真空排気装置です。本体の真空チャンバ部と真空チューブで接続されます。基本機能NI-1075に準じます。システム構成NI-1075に準じます。本装置は、高精度の熱式ナノインプリントプロセスを実行することができます。reserved.ナノクラフトテクノロジーズ。