全161件中、81~90件目を表示しています。ついて、出願人が希望する時点に合わせ一括で審査する企業戦略に即した一括審査制度(日本における事業戦略対応まとめ審査に相当。2013年12月から、特許・実用新案の出願に対して一括審査が適用されており、2014年4月からは、商標および意匠にもその適用が拡大された。一括審査制度は、新製品の発売に合わせて多様な知的財産権を一度に権利化することができるという点で、企業の知財戦略の確立とタイムリーな知的財産権の保護に役立つことが期待される。加えて、専門家からのアドバイスが紹介されている。概要、審判から裁判へのフロー、審判・裁判における実際の処理期間と件数、法律の立法や廃止の経緯等について詳細に説明されている。されなかった場合における救済方法について紹介されている。前提、先使用権の態様等について説明され、台湾の専利法および日本の特許法における先使用要件の比較も紹介されている。)A.第一章では、台湾における知的財産権の概要について、知的財産権の概要と制限、専利権の概要、専利法上の先使用権、商標権の概要、商標法上の先使用権、商標法の先使用権事例の分析、商標法および分析事例から見た商標の先使用権に関する留意事項が説明されている。ついてのケーススタディ、商標ライセンス、商標ライセンスの登録申請、商標ライセンスの注意点が説明されている。(CGPDTM))の特許検索サイトに掲載されている。英語版のサイトのみ提供されている。関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。同一性に関する判決例も紹介されている。)1では、インドにおける特許分野の論点ごとに、各論点の概要、成文法の規定、審決及び判決の分析及び分析に基づく結論が紹介されている。