電子ブックレット:次世代リソグラフィ技術の落とし穴リソグラフィ技術は分岐点に差し掛かっており、今後誤った方向に向かう恐れがある。リソグラフィ技術は、ムーアの法則が示す半導体のスケーリング則を実現する生産技術である。現在のリソグラフィ技術は予想よりはるかに長く使われているが、近い将来に行き詰まる可能性が高い。各社が使っている光リソグラフィ技術の後継となる技術の研究は、何十年も前から始まっている。Japan」に掲載した主要な記事を、読みやすいPDF形式の電子ブックレットに再編集した「エンジニア電子ブックレット」。Japanの記事『次世代リソグラフィ技術の落とし穴』をお届けします。次世代リソグラフィ技術の落とし穴リソグラフィ技術は分岐点に差し掛かっており、今後誤った方向に向かう恐れがある。リソグラフィ技術は、ムーアの法則が示す半導体のスケーリング則を実現する生産技術である。現在のリソグラフィ技術は予想よりはるかに長く使われているが、近い将来に行き詰まる可能性が高い。各社が使っている光リソグラフィ技術の後継となる技術の研究は、何十年も前から始まっている。・電子ブックレットはPDFファイルで作成されています。・電子ブックレットは無償でのご提供となりますが、アイティメディアIDへの登録が必要となります。登録ユーザーではない場合や、登録済みのプロファイルに一部不足がある場合などは、ダウンロードリンクをクリックすると登録画面へジャンプします。・電子ブックレット内の記事は、基本的に記事掲載時点の情報で記述されています。SNSfacebooktwitterITmediaはアイティメディア株式会社の登録商標です。