請求項12前記bが1〜3の整数であり、前記R1のうち少なくとも1つがヒドロキシ基である、請求項11記載のセルロースエステルフィルム。請求項13前記aが2である、請求項11又は12記載のセルロースエステルフィルム。請求項14前記式(III)で表される化合物が、下記式(III−1)で表される化合物である、請求項11〜13のいずれか1項記載のセルロースエステルフィルム。式(III−1)中、R2、R3、R7及びR8は、それぞれ前記式(III)におけるR2、R3、R7及びR8と同義である。R1bは水素原子又は置換基を示す。請求項15請求項1〜14のいずれか1項記載のセルロースエステルフィルムと偏光子とを有する偏光板。0001本発明は、セルロースエステルフィルム、偏光板及び画像表示装置に関する。背景技術0002エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)に代表される画像表示装置には、その薄型化への要求が益々高まっている。屋外用途をはじめとして画像表示装置の使用環境は多様化しており、画像表示装置には従来に比べて過酷な環境下でも良好な画像品質を安定して維持できる性能(高度な耐久性)が求められるようになっている。画像表示装置における画像品質の低下は、水分が偏光板内部へと進入し、偏光子を劣化させることが一因とされる。偏光子はその表面に保護フィルムが積層されて保護されているが、保護フィルムにも薄膜化が求められている。保護フィルムを薄膜化すると水分が偏光子とより接触しやすくなり、画像品質がより低下しやすくなる。かかる画像品質の低下は、屋外用途等の過酷環境下での使用においてより顕在化する。0003上記保護フィルム(光学フィルム)としては、汎用性や加工性の観点からセルロース系樹脂等が用いられている。かかる光学フィルムの寸法安定性や水分透過率を調整するために、光学フィルムに架橋構造を導入することが報告され、例えば特許文献1には、メラミン骨格を有する架橋剤を含有したセルロースアシレートフィルムが記載されている。保護フィルムの薄層化はフィルムの機械強度(引裂強度等)の低下を伴うため、薄層化した保護フィルムを構成する樹脂には、より高い機械強度を実現できる特性が求められる。発明が解決しようとする課題0005本発明者は、特に高温高湿条件下での偏光子の劣化を抑えるべく、上記特許文献1に記載されたメラミン骨格を含有する架橋剤を用いて保護フィルムに架橋構造を導入した。薄膜化した保護フィルムに要求される十分なレベルまで偏光子の劣化を抑制するには至らなかった。本発明は、引裂強度に優れ、偏光子との密着性にも優れ、さらに偏光子と重ね合わせることにより、高温高湿条件下においても偏光子の劣化(光学特性の低下)を効果的に防ぐことができるセルロースエステルフィルム、このセルロースエステルフィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供することを課題とする。「偏光板耐久性」とも称する。)とを反応させ、セルロースが有するヒドロキシ基の水素原子が置換された部位(以下、「ヒドロキシ基置換部位」とも称す。)を作り出すことにより、得られるセルロースエステルフィルムの引裂強度を高度に高めることができること、このセルロースエステルフィルムを偏光子表面に積層させた際にフィルムと偏光子との密着性に優れること、さらにこのセルロースエステルフィルムと偏光子とを積層して得られる偏光板において、高温高湿条件下においても偏光子の劣化が効果的に抑えられること(すなわち、偏光子の光学特性を維持できること)を見出した。本発明はこれらの知見に基づきさらに検討を重ね、完成されるに至ったものである。0007本発明の上記課題は下記の手段により解決された。〔1〕セルロースエステルが有するヒドロキシ基の水素原子が置換された部位を有するセルロースエステルフィルムであって、このセルロースエステルフィルム中の、上記のセルロースエステルが有するヒドロキシ基の水素原子が置換された部位を含む構造が下記式(I)又は(II)で表される、セルロースエステルフィルム。式(I)中、Zは芳香族環を示す。R2及びR3は水素原子又は置換基を示す。Celはセルロースエステル残基を示す。R1は置換基を示し、bは0〜8の整数である。*1は水素原子もしくは置換基であるか、又は、連結基を介してセルロースエステルと連結する連結部位を示す。式(II)中、R4及びR5は水素原子又は置換基を示す。Celはセルロースエステル残基を示す。*2は連結基を介してセルロースエステルと連結する連結部位を示す。R6は水素原子又は置換基を示す。上記R2、R3、R4及びR5が水素原子を示す、〔1〕記載のセルロースエステルフィルム。上記bが1〜3の整数であり、上記R1のうち少なくとも1つがヒドロキシ基である、〔1〕又は〔2〕記載のセルロースエステルフィルム。上記aが2である、〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。上記セルロースエステルフィルムが上記式(I)で表される構造を有する、〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。上記式(I)で表される構造が、下記式(I−1)で表される構造である、〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。式(I−1)中、R2、R3、Cel及び*1は、それぞれ上記式(I)におけるR2、R3、Cel及び*1と同義である。は−C(R2)(R3)−O−Celを示す。上記式(I)又は(II)で表される構造がセルロースエステル同士を連結する橋かけ構造、又は、セルロースエステル同士を連結する橋かけ構造の一部である、〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。〔8〕セルロースエステルと、このセルロースエステルが有するヒドロキシ基a1に対して反応性を示す基a2を有する化合物であって共役酸pKaが1.00未満の化合物とが、ヒドロキシ基a1と基a2との反応により連結してなるセルロースエステルフィルム。上記の基a2が、芳香族環の環構成原子又は窒素原子に直接結合したヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、シクロアルコキシメチル基、アシルオキシメチル基又はアリールオキシメチル基である、〔8〕記載のセルロースエステルフィルム。上記の基a2が、芳香族環の環構成原子に直接結合したヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、シクロアルコキシメチル基、アシルオキシメチル基又はアリールオキシメチル基である、〔9〕記載のセルロースエステルフィルム。上記の基a2を有する化合物が下記式(III)で表される化合物である、〔8〕記載のセルロースエステルフィルム。式(III)中、Zは芳香族環を示す。R1は置換基を示し、bは0〜8の整数である。R2及びR3は水素原子又は置換基を示す。R7は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基又はアリール基を示す。