NEDO)が推進する、戦略的イノベーション創造プログラム(SIP)/次世代パワーエレクトロニクスの「酸化ガリウムパワーデバイス基盤技術の研究開発」プロジェクトへの参加を発表しました。新しいワイドギャップ半導体材料である酸化ガリウムを用いたMOSトランジスタの開発に、世界に先駆けて成功しております。デバイスプロセス技術、モジュール化技術にわたる研究開発分野を対象として、2018年度までにその基盤技術確立を目指します。いったパワーデバイス特性に優れたものになることが期待されます。材料となるβ-Ga2O3は、原理的に大口径単結晶基板を低コスト・低消費エネルギーで作製可能な融液成長法により、単結晶バルクを生成可能です。この特長は、産業化を見据えた場合に絶対的な優位となると考えられています。シルバコ・ジャパン代表取締役イリヤ・ぺシックは次のように述べています。「当社は長年にわたり、半導体プロセスデバイス・シミュレータの開発、販売と技術サポートを行ってきました。パワーデバイスのシミュレーション技術に強みを持ち、ワイドバンドギャプ半導体での実績が豊富です。社内の先進技術を結集して、酸化ガリウム・パワーデバイス基盤技術の研究開発プロジェクトに貢献していく所存です。Inc.の日本支社として設立、1995年に日本法人として登記されました。拡充に全力をあげています。事業拠点を横浜本社および京都オフィスに構え、充実したサービスを展開しています。»)本件に関してのお問合せ:press@silvaco.co.jp概要:株式会社シルバコ・ジャパン関連情報へのリンク本プレスリリースは発表元企業よりご投稿いただいた情報を掲載しております。お問い合わせにつきましては発表元企業までお願いいたします。株式会社シルバコ・ジャパンのプレスリリース一覧へ【企業の皆様へ】企業情報を掲載・登録するには?御社の企業情報・プレスリリース・イベント情報・製品情報などを登録するには、企業情報センターサービスへのお申し込みをいただく必要がございます。詳しくは以下のページをご覧ください。Japanは、CIOとITマネージャーを対象に、ビジネス課題の解決とITを活用した新たな価値創造を支援します。ついて運営会社サイトマップ当サイトは最新ブラウザでの閲覧を推奨します。permission.このサイトでは、利用状況の把握や広告配信などのために、Cookieなどを使用してアクセスデータを取得・利用しています。これ以降ページを遷移した場合、Cookieなどの設定や使用に同意したことになります。Cookieなどの設定や使用の詳細、オプトアウトについては詳細をご覧ください。