最先端の半導体製造には、微細な回路パターンの原版となるフォトマスクが欠かせません。本装置は、最先端フォトマスクを製造するための電子ビームマスク描画装置です。半導体の高性能化にともない微細化された最先端フォトマスクが必要となっています。本装置は、その最先端フォトマスクの欠陥の有無を高精度に検査する装置です。優れたt/ρ分布の高品質エピを実現する高効率、省エネ型の枚葉式高速エピタキシャル成長装置。使用している部分があります。お使いのブラウザーがこれらの機能をサポートしていない場合、もしくは設定が「有効」となっていない場合は正常に動作しないことがあります。