日常をブログに綴ります。勉強すればするほど疑問が増えていきます。PS.【公開訳文】リソグラフィ装置内の他の空間、例えばパターニングデバイスMAと投影システムPSとの間に液浸液を印加することもできる。上記の図でパターニングデバイスMAは装置の真ん中近く、投影システムPSはそれより下に、そして基板Wが装置下の方に位置しています。Lens)と基板(Wafer)の間に位置しています。上記の対訳文では、「パターニングデバイスMAと投影システムPSとの間に液浸液を印加することもできる」となっており、なぜマスク(レクチル)とレンズの間に液浸液を満たすのかがよくわかりません。このような構造の露光装置を検索してみましたが、見つけることができませんでした。上記対訳文の、この1つ前の文がこちらです。W.【公開訳文】リソグラフィ装置は、投影システムPSと基板Wとの間の空間を充填するように、基板Wの少なくとも一部が相対的に高い屈折率を有する液体、例えば水によって覆えるタイプでもよい。この構造なら、しっかり理解できるのですが。to」は「液浸液を印加することもできる」と訳されていますが、「液を印加する」に違和感があります。確かにapplyの訳し方の1つとして「印加する」はあるのですが、通常、液浸液は「満たす」や「供給する」、「使用する」などの使われ方が多い気がします。印加とは(Wikipediaより)電気回路に電源や別の回路から電圧や信号を与える事を意味し、「電圧を印加する」「信号を印加する」という様に使われる。Wikipediaの印加の定義からも、液浸液を「印加する」のはおかしい気がするのですが。自分が知っている液浸露光装置とは全く違うタイプのものがあるのでしょうか。残念ながら、朝の準備をし、その後すぐに出社しなければいけないので、この疑問はひとまず保留としておきます。コメントをキャンセルメールアドレスが公開されることはありません。付いている欄は必須項目です次回のコメントで使用するためブラウザーに自分の名前、メールアドレス、サイトを保存する。