スパッタリングとは、100〜10-2PaのArガス雰囲気の真空中で、高電圧を印加すると、グロー放電によりArガスは加速された電子と衝突して正イオン化し、こうして出来た高エネルギーのイオンが高速で陰極であるターゲットに衝突することにより、ターゲットの構成原子を飛び出させ、製品表面に付着させて被膜を形成する技術です。導入ガスに窒素や炭化水素系ガスを用いることにより、窒化物や炭化物などの被膜も形成することが可能です。イオンプレーティングとは、真空中にArガスを導入し、高電圧の印加によりプラズマを発生させ、金属あるいはセラミックスを抵抗加熱あるいは電子ビームなどにより蒸発した粒子をイオン化させて高エネルギー状態とし、製品表面に被膜を形成させる技術です。導入ガスに窒素や炭化水素系ガスを用いることにより、窒化物や炭化物などの被膜も形成することが可能です。Methode増反射ミラー、コールドミラーなどの反射鏡スパッタリング装置このページの先頭へ。