Japanese)すず-ニッケル合金膜は,装飾用クロムめっき膜の代替としてここ数年注目されてきた。クロムめっき膜自体は耐摩耗性、耐食性を初めとするいくつかの優れた性質を持っているが、環境に有害な元素として、その使用については、現在も規制が比較的厳しく、今後においてもその規制が強化される方向にある。この意味から、代替めっき膜としてのすず-ニッケル合金膜の重要性は今後ますます増すと考えられる。従来の技術は、このすず-ニッケル膜を水溶液からの合金電析を用いて製造する。そのため、二つの異なる金属の電析を、同一の電位で可能ならしめねばならず、様々な工夫が要求されていた。使用される化学種も限定され、さらには、環境性に反するような添加剤なども必要とされていた。水溶液中からの電析によって得た合金膜は、常に平衡状態図には認められない非平衡なNiSn相から構成されていた。したがって、前記合金膜を使用する際の摩耗や加熱などによって前記NiSn相が他の安定相へ移行する場合が生じ、使用中において前記合金膜の特性が変化してしまう場合が生じていた。このため、前記合金膜に対して所定の目的で付与していた機能が使用中において変化してしまい、目的とする機能性を十分に得ることができないという問題もあった。工夫することについても種々試みられたが、前記NiSn相以外の安定な相を生成することはできなかった。本発明は、上記非平衡NiSn相を含まない安定なすずーニッケル合金膜を製造する方法を提供することを目的とする。電解メッキにより析出させるとともに、すず層を電解メッキにより析出させて、前記ニッケル層と前記すず層とがこの順に積層されてなる多層膜を形成した後、この多層膜をすずの融点以上の温度で加熱し、すずの液相拡散を利用することにより、Ni3Sn相、Ni3Sn2相及びNi3Sn4相を含み、非平衡NiSn相を含まない、装飾用の安定なすずーニッケル合金膜の製造方法。