高度な機能を有する無機薄膜の合成方法としてスパッタリング法やイオンプレーティング法などの物理的気相成長(PVD)法は、幅広い産業分野に於いて、極めて重要な要素技術である。物性は、欠陥構造(結晶としての不完全性、或いは不純物の存在形態)や結晶粒の微細構造に大きく依存することが知られている。薄膜諸物性の相関関係を詳しく調べ、薄膜中の欠陥を高度に制御する成膜方法を確立しなければならない。当研究室では、主としてDC或いはRFグロー放電を用いたプラズマプロセスにより、いくつかの高度な機能を有する酸化物や窒化物の無機薄膜の合成と、得られた薄膜のキャラクタリゼーションに関する研究を行う。