目指す中小企業を支援します。私の研究室では、半導体材料を主に新素子応用へ向けたプロセス開発を理論と実験の両面から研究しています。半導体を応用する上で重要なのが同種又は異種基板上で薄膜結晶成長を行うことです。そのため、我々の研究室では結晶成長メカニズムの基礎理論から検討し、実際のプロセス装置を用いて薄膜を作製し、新しい成膜手法を評価検証しています。して注目しているのは、III‐VI族化合物半導体の硫化ガリウムGaS、セレン化ガリウムGaSe、テルル化ガリウムGaTeなどです。