生産現場に活かすヘレウスのUV硬化技術、Xeフラッシュランプによる加熱技術をご紹介しました。西4ホール『4W-F04』ヘレウスは真空紫外から中波長赤外領域までの幅広い波長帯の光を、適切な発光励起手段を用いて、製品要求が多様化し続ける産業界の生産プロセスに、未来への新たな光ソリューションとして光およびUV硬化プロセスを提案しています。本展示会では、高出力UV-LED、無電極UVランプ、キセノンフラッシュランプを用いて、光を賢く活かすことによって得られる生産プロセスとその利点をご紹介しました。工業用UV硬化プロセスは複雑で、多くの知識とアプリケーションノウハウを必要とします。理想的なプロセスを実現する為には、ダウンタイムを最小限に抑え、優れた品質をもたらす信頼性の高い硬化システムが必要不可欠です。Play」という新しいコンセプトを起用したUV-LEDで、品質や性能を損ねることなく、スマートな硬化プロセスを実現します。会場では、新製品もご紹介しました。接着剤、インク、コーティング剤などの評価テストや硬化性能の評価、実験室や研究・開発で使用するのに最適なUV硬化装置です。UV-LEDを搭載することができ、会場では実際に点灯させます。ついても、ご紹介しました。これはヘレウスの新しいインテリジェント光源で、UV硬化プロセスには欠かせない様々なプロセスパラメータのモニタリングを可能にしています。UV硬化プロセスを見える化することで、高度なシステム診断に役立てることができます。UV硬化のパフォーマンスにはさまざまな課題が見られます。ハイブリッドキュアシステムは、ヘレウスの取扱う真空紫外から中波長赤外領域までの幅広い波長帯の光を有効活用することで、UV硬化物の物性や生産性を、材料を変更することなく、プロセスで向上するという画期的なシステムです。どのように賢く光を用いることができるのか、そしてどのように課題解決ができるのか、デモ機を用いてご紹介しました。UDテープの溶着用加熱光源として開発されました。本展示会では、UDテープとアルミ合金、UDテープと銅の溶着など、マルチマテリアル化に焦点を当ててご紹介しました。humm3®の詳細はこちら瞬間加熱には波長700nm以上の赤外線が必要になります。キセノン・フラッシュランプは、UVからIRまでの160nm~1000nmの幅広いスペクトル出力があり、高出力パルスを1秒以下の短いパルス幅で発光します。秒以下の瞬間で、例えば表面やコーティングの硬化、加熱やアニーリングなど、加熱物の表面温度を一気に高温まで上昇させる処理で使用できます。本展示会では、この光の活かし方に加え、その特長をご紹介しました。topクッキーには3つのオプションがありますので、以下から選択してください。必須クッキーはウェブサイトが正常に機能するために必要になります。必須クッキーはユーザー個人を特定しません。解析クッキーはユーザーエクスペリエンスを把握し、ウェブサイト改善のために使用します。この際、ユーザーに関するすべての情報は総括され匿名化されます。解析クッキーはユーザー個人を特定しません。サービスクッキーサービスクッキーを許可されますと、ヘレウスは、お客様がどのようにウェブサイトを使用されたかを理解し、お客様に対する情報提示の方法を改善できます。このクッキーを利用して、ヘレウスでは今後提供する情報を、よりお客様のニーズに合わせ、お客様に関連する情報をヘレウスのウェブサイト内外から表示することが可能になります。保存して閉じる本ウェブサイトはコンテンツ及び広告をカスタム化し、ソーシャルメディア機能をご提供できるようにし、さらに、本ウェブサイトへのアクセス状況を解析する目的で、クッキーを使用しています。用に同意されたものと見なされます。定で変更可能なほか、弊社のクッキー情報でこの設定についてご説明しています。