真空中で電子銃から発生する電子ビームをターゲット材料に照射し、加熱・蒸発させ、基板等に薄膜形成する電子ビーム蒸着装置です。本装置は、超高真空環境においてEBガンに印加することで金属や酸化物などの薄膜および混合薄膜(同時蒸着)を作成することができる真空蒸着装置です。抵抗加熱蒸着にも変更できるような構造を有しております。本装置は、金属や半導体のロッド状材料を電子ビーム加熱することで、単原子層やエピタキシャル薄膜などを作成することができるエバポレーターを用いた真空蒸着装置です。フィードバック回路により設定値に対し±3%以内といった高いフラックス安定性を備えており、数十nA〜数μAオーダーのフラックスを長時間保つことができます。茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。関連技術情報3件を掲載しました。