ような大きな電流を必要とする用途に開発しました。機器の構成はデジタル関数発生器、データサンプリングシステム、電流信号のフィルター、iR補償機能、ポテンショスタット、ガルバノスタット(ALS1140C)です。ALS1100Cシリーズはコンパクトで、ALS600Eシリーズの構成に比べて価格的に安価です。10Sには対応しておりません。対応するのはマイクロソフト社がサポート中のバージョンのみです。CVシミュレーションCVS測定CVSは繰返しサイクリックボルタンメトリーストリッピング法です。電位スキャン時に電極にメッキする金属が析出、剥離が起こり、その量比の変化を調べる方法です。金属をメッキさせ、その剥離量からメッキの状態を調べることができます。剥離量はARまたは面積、回転速度に依存します。上図は硫酸銅溶液をCVSにより測定したボルタモグラムです。メッキ液中の光沢剤、抑制剤を添加することにより、クーロン量は、作用電極に析出した銅の量に比列します。分極曲線については、十分に遅い走査速度で測定される分極曲線、または定電位で電流が一定になるまで分極したとき得られる分極曲線だと考えてください。アノード方向へ電位走査し、孔食によるアノード電流が一定値を超える電位を孔食電位として、その電位が貴であるほど耐食性が大きいと判定する方法があります。電子産業界では、プリント配線、リードフレーム、磁気ディスク、磁気へッド、薄膜抵抗体など電子部品へ利用され、金属膜に機能的な性質をまとめたメッキ技術が利用されています。代表的な電気メッキと最近急激に成長した無電解メッキがあります。そのメッキの目的に応じて種々の添加剤が加えられていますが、これらの添加量の制御も重要です。この添加剤中での腐食添加剤の管理方法のひとつをご紹介します。最初に濃度が異なる添加剤を含む溶液を用意して電気化学のリニアスイープボルタンメトリーを用いて測定し、このピーク電流値は添加剤の濃度に依存することから、このピーク電流値と添加剤の濃度と相関性の検量線を取って腐食添加剤の管理ができます。