明日には復帰できそうだ。【課題】アニール処理なしの非常に簡単なプロセスで得られる高強度の新しい発光Si:SiO2膜を提供する。【解決手段】SiとSiO2のターゲットを用い、SiO2中にSiが膜全体に対する体積比率で0.75%以上4.5%以下の割合となるようにSiとSiO2の同時スパッタリングを行い、基板上に青色発光Si:SiO2膜を形成する。多久島くんから教えてもらった特許。ブース片付けかたづけた。