【VPO-1000-300】は、試作開発用途のほか、インラインシステムにも組込み可能なΦ8インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム。装置筐体部の冷却機構を標準装備。安全に配慮しながら最大到達温度:1000°Cを実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応。高速赤外(IR)ヒーターを装備し、最大毎分2100°C以上(毎秒35°C以上)の高速昇温を行え、もちろん、プロファイルプログラムの指示値による任意の昇温速度で昇温させることも可能。降温プロセスでは、冷却用窒素ガスをチャンバー内に供給することで、処理後のデバイス表面にダメージを与えず、安全な冷却が行える。VPO-1000-300【VPO-1000-300】は、試作開発用途のほか、インラインシステムにも組込み可能なΦ8インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム。装置筐体部の冷却機構を標準装備。VSS-450-300会社情報ユニテンプジャパン(株)は環境にやさしい「ギ酸還元を使用したはんだリフロー」を提案いたします。RSS-110-S>【RSS-110-S】は、RSSシリーズの中で最も小さなリフロー炉を実現した卓上型真空はんだリフロー装置。ギ酸、水素などの各リフローに1台で対応する。:400°Cに標準対応しており、熱容量の大きな部品であっても、ゆとりをもってはんだ融点温度に到達させることができるほか、高融点はんだも問題なく使用することが可能。装置筐体部の冷却機構を標準装備し、チャンバー内が高温でも、筐体は常に安全な温度を保つ。そのほか、高速昇温/降温に対応、多彩なリフロープロファイル設定が可能、のぞき窓を標準装備といった特長を持つ。安全に配慮しながら最大到達温度:450°Cを実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応。高速赤外(IR)ヒーターを装備し、最大毎分150°C以上(毎秒2.5°C以上)の高速昇温を行え、また、オプションの上部IRヒーターモジュール搭載時には、毎分240°Cの圧倒的なパフォーマンスを発揮。プロファイルプログラムの指示値による任意の昇温速度で昇温させることも可能。高速降温を実現するための「水冷システム」も標準装備。高品質なはんだリフローに要求される温度制御コントロールを簡単に実現できるほか、連続運転時の待ち時間を大幅に短縮することが可能。