本セミナーは終了いたしました。本セミナーでは、原子層制御プロセスの基礎から解説し、原料供給・パージ・反応性ガス供給など多くの制御パラメータの最適化や、ALDプロセスを活用した最新の応用事例を詳解いたします。作製などに実用化され、その応用範囲が拡大している。近年は1原子層ずつ表面をエッチングするALEにも関心が高まっている。これらを組み合わせた選択成長技術は、プロセス工数の削減などに有益であると期待されている。比べると、ガス濃度や反応温度の他に、ガス供給切替シーケンスの最適化など、制御パラメータが多く、どのようにプロセスを最適化するかが難しくなっている。総称し、その原理から最適化に至るまでのプロセスサイエンスの概論を述べるとともに、最新の技術動向なども紹介する。技術情報協会お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。148,500円(税込)同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。他の割引は併用できません。本セミナーは終了いたしました。(プライバシーポリシー)特定商取引に関する法律に基づく。