太陽光発電ガス供給ホーム用途のリストCVD化学気相堆積(CVD)は、ガス状化合物によってウエハの表面に薄膜を堆積するために半導体製造において使用される用途である。3つの形態は、PECVD(プラズマ強化CVD)、LPCVD(低圧CVD)およびAPCVD(大気圧CVD)である。一般的な薄膜は、半導体層としてのポリシリコン、誘電体層としての酸化物および窒化物、および導電層としての金属である。アンモニアのようなガスが使用されるが、導電層は通常六フッ化タングステンを用いて成長させられる。Enabledウェブサイトを円滑に機能させるには、必要なCookieが不可欠です。このカテゴリには、サイトの基本機能とセキュリティ機能を提供するCookieのみが含まれます。これらのクッキーには個人情報は保存されません。