performance.今回の出展では、世界初となるナノインプリントファウンドリサービスをはじめ、様々な基板への加工事例を具体的なアプリケーションとあわせてご紹介いたします。当社がナノインプリント構造設計の中で培った光学シミュレーション技術を照明用レンズに応用して、従来実現できなかった機能を実現しました。当社の最新情報及びセミコン出展内容のご案内は以下となります。◆ナノインプリント装置関連:世界初となる大面積(G5サイズ)ナノインプリント装置のデモラインが完成しました。ディスプレイを始め、バイオチップや車載用途など様々なアプリケーションへの活用が期待されています。セミコン会場ではパネルにて大面積装置の概要をご紹介いたします。◆受託体制:光学設計、シミュレーションからモールド作製、ナノインプリント、エッチング、検査までトータルソリューションをご提供致します。↓https://www.scivax.com/service/foundry/◆開発事例:1)コリメートレンズレスDOEDOE(回折光学素子)は、スマートフォンの顔認証や車載向けのセンシングデバイス、ディスプレイ関連など多くのメーカーで開発が加速しています。当社の独自技術を用いて開発したDOEはコリメートレンズが不要となり、ダウンサイジング、低コスト化を実現する事が可能です。セミコン会場では、DOEの設計・製造受託サービスのご紹介をいたします。セミコン会場ではデモ機を展示致しますので、是非とも効果をご確認下さい。様々な最先端アプリケーションにおいて、ナノインプリントの検討、製品開発が進められています。当社へもアジア(国内を含む)、欧州、米国などから多くの製品開発に関する相談が寄せられております。2020に以下内容で出展致しました。2020に出展いたします。2019年12月4日~6日にパシフィコ横浜で開催された国際画像機器展2019へ出展しました。