大気圧下で連続的にウエーハを処理できる革新的な生産方式の実現に向けて,真空を使わないプラズマ技術を開発した(図1)。2000年からLSI製造装置の開発・設計会社であるケミトロニクスと共同で作業に取り組んだ成果である(p.142の別掲記事を参照)。元々はプラスチック化成品の分野で培った技術だが,装置を改良することによってLSI・LCD分野を狙う。「読者特価」でご購入の際、日経IDに未ログインの場合は途中で通常価格が表示されることがあります。ご購入画面をそのまま進んでいただき、「次へ(お客様情報の入力へ)」のボタン押下後に表示されるログイン画面で日経IDをご入力ください。特価適用IDであれば、表示が特価に変わります。