Japanに掲載した記事を読みやすいPDF形式の電子ブックレットに再編集した「エンジニア電子ブックレット」。今回は、IBM研究所が発表したナノワイヤを形成する独自の技術「TASE」を紹介する。その技術は「ムーアの法則」を継続させる鍵となるのだろうか。Japan」に掲載した主要な記事を、読みやすいPDF形式の電子ブックレットに再編集した「エンジニア電子ブックレット」。今回は、IBM研究所が発表した、ナノワイヤを形成する独自の技術「TASE」を紹介する。PDFではなく、Webで閲覧する場合は、こちらをクリックしてください。「ムーアの法則」継続の鍵となるか、Si/III-V族の“ハイブリッド”ナノワイヤIBM研究所が、Si(シリコン)とIII-V族化合物半導体を組み合わせたナノワイヤを形成する技術を発表した。Epitaxy)」という技術を使って形成する。TASEで作成したInAs(インジウムヒ素)のナノワイヤは、5400cm2/Vsの電子移動度を達成したという。「ムーアの法則」を継続させる鍵になるかもしれない。設定を有効にする必要があります。FD-SOI(完全空乏型シリコン・オン・インシュレータ)プロセスの導入について、2016年末の量産開始を目指すという。FinFETと同等の性能を実現できる」としている。ムーアの法則、半数以上が「22nm以降では難しい」——半導体業界リーダー調査オランダのKPMGが半導体業界のビジネスリーダーを対象に調査したところ、「ムーアの法則の有用性は存続する」と予想しているのは、回答者の1/4で、半数以上が「22nmプロセス以降では、ムーアの法則の存続は難しい」と考えていることが分かった。ムーアの法則、その行方を聞くこれまで何度となく“終えん説”が唱えられてきたムーアの法則だが、半導体業界は多大な労力でこの法則を維持している。今後、ムーアの法則はどうなっていくのか。業界のキーマンに、ムーアの法則の行方や、ムーアの法則の維持に関わる技術などについて話を聞いた。Moore(ゴードン・ムーア)氏が雑誌に掲載したトランジスタに関する予見は、「ムーアの法則」として半導体技術の発展の大きな原動力となった。ムーアの法則によってトランジスタがどれほど進化してきたのか。50年を振り返ってみる。LLC.ITmediaはアイティメディア株式会社の登録商標です。