コーティング、自動車部品や掘削工具用耐摩耗コーティング、フレキシブルデバイスや食品包装用樹脂へのガスバリア用コーティングなど、既存の対象物の表面に特徴を持った新たな薄膜を均一につける技術が付加価値を生み出しています。今後もその応用範囲はさらに広くなると予想され、半導体をはじめ電子デバイスでは今までに使用されていなかった元素をメタルとして、あるいはその酸化物や窒化物を高アスペクトな構造へ均一に埋め込む手法の開発が求められています。当社では、お客様のご要望に応じた材料の選定・合成・精製から成膜試験、そこからの材料へのフィードバックなど、材料のスクリーニングと基本的なプロセス開発を一貫して行えます。お客様のニーズに合わせた最適な材料やプロセスをご提案し、豊富なバリエーションの装置で成膜試験を承ります。小さな基板でいいからどんな条件でどんな膜ができるか確認したい。社内で成膜加工を行っているが、新たな事業を立ち上げるにあたり、装置設計や改造の仕様・成膜条件を実ガスである程度見極めたい。導入を検討しているが成膜できるかどうか全く見当がつかない。導入リスクが高すぎて既存装置を使えない。初期評価ですら装置・環境準備に時間がかかりすぎる。スクリーニング、プロセス評価・開発を存分に行っていただける環境を準備しています。お客様のリスクを低減すると共に、開発コスト・期間を大幅に削減・短縮し、新事業立ち上げの機会をサポートします。お客様のご要望に応じ、ガスライン、加熱方式、プラズマ処理などの諸条件変更にも対応しますので、お気軽にご相談ください。ArガスArガスをベースにした、プラズマ処理を行っています。SF6ガスSF6ガスを用いたクリーニングが可能です。G-Box内でのウェハー処理チッ素環境でのウェハー処理も行えます。め込み特性など成膜材料の熱安定性や分解温度、蒸気圧などの化合物情報を化学分析や測定により取得する一方、実際に成膜装置を用いて試験することでより明確な装置開発の仕様を確立することが出来ます。JACが所有する装置をご紹介いたします。実際にこれらの装置とプリカーサーを使って、成膜実験を行なって頂けます。ALD装置と1000°Cまでの高温CVD・ALD装置を設置しています。ALD装置を準備しています。高濃度オゾン(500g/m3以上)、N2Oなど、状況に応じた酸化剤をご利用いただけます。還元用および窒化用ガスとしてNH3もご用意しています。構造がシンプルなので、従来よりも蒸気圧が低い材料にも対応可能。プリカーサー・プロセス評価用のUHV仕様のCVD,ALD装置。全12ラインのガス種に加え、ご要望に応じたラインの増設も可能。プリカーサー・プロセス評価用の1000°Cまで使用可能な高温CVD・ALD装置。製品、技術、サービスに関するご質問はもちろん、お客さまのニーズに合わせた受託成膜・各種カスタマイズにつきましても、お気軽にお問い合わせください。