2014年2月号に当社が表面処理を行った部品で組み上げられた実験装置の記事が掲載されました。おいて、静電型イオン蓄積リング「RICE」が完成しました。記事によると、宇宙における分子の起源やその進化(生命の材料合成過程)に迫る実験を行うそうです。そこで、当社の表面処理である銅化学研磨:CuCPが部品に施されました。目標を上回る低温と真空度が達成されているそうです。高電圧環境でもありますので微小なバリが存在していると放電が起こる可能性があります。化学研磨による微小バリの除去も役に立っているのではないでしょうか。記事詳細を知りたい方は、理化学研究所のHPをご覧ください。このように三愛プラント工業株式会社の表面処理は、先端技術分野で貢献しております。今後も新たな表面処理技術を開発していきますので、是非ホームページをご覧ください。