パルス合成方式フラッシュ焼成装置パルス合成方式フラッシュ焼成装置プリンタブルエレクトロニクスの製造技術の有力な手段として、フラッシュによる瞬間加熱が注目されています。瞬間的な加熱によって、熱に弱い樹脂などの上の薄膜試料の焼成・改質を可能にするものです。急激な加熱を行うため、試料にクラックや気泡などの欠陥が発生し、期待する結果が得られない場合もあります。弊社では、独自開発の「パルス合成方式」により、予備加熱後の瞬間加熱や、緩やかな加熱、繰返し加熱など、さまざまな加熱パターンを実現しました。多様な試料に対して最適な焼成を可能にします。お客様サンプルの試験照射を受け付けております。弊社はお客様の多様なニーズに対応致します。お問い合わせはこちらパルス合成方式パルス合成方式とは、パルス状の放電電流を次々にフラッシュランプに印加し、合成した駆動電流でフラッシュランプを発光させる方式です。放電エネルギーと発光タイミングを調整することにより、発光パターンを自在に変化させることができます。共同研究に参加させていただいております。(2014年9月17日(水)~9月20日(土)、北海道大学札幌キャンパス)において、弊社パルス合成方式フラッシュ焼結装置を用いた実験結果をもとに、銅ナノ粒子電極の低熱ダメージ焼成法について研究発表されました。