前記第1光強度に含まれる、前記観測点での単一散乱光による直接成分(A)、前記観測点以外での単一散乱光による大域成分(B)、及び前記試料内での多重散乱光による大域成分(C)と、前記第2光強度に含まれる、大域成分(B)及び大域成分(C)と、を利用し、前記第1光強度から直接成分(A)と大域成分(B)及び大域成分(C)とを分離する演算を行う演算手順と、を行う試料観察方法。前記演算手順を繰り返す繰り返し手順をさらに行うことを特徴とする請求項1に記載の試料観察方法。[請求項3]前記照明が、光を透過させる明部と光を遮断する暗部とが任意の比率で組み合わさるフォトマスクで形成された高周波照明であることを特徴とする請求項1又は2に記載の試料観察方法。[請求項4]前記照明が、光源を発光させる明部と光源を消灯させる暗部とを任意の比率で組み合わせたパターンの照明であることを特徴とする請求項1又は2に記載の試料観察方法。[請求項5]前記演算手順での減算は、前記第1光強度から前記第2光強度を減算して直接成分(A)を計算し、前記観測点の画像を取得することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の試料観察方法。[請求項6]前記演算手順での減算は、前記第1光強度から前記第2光強度を減算して直接成分(A)を計算し、該直接成分(A)と前記照明の波長毎の光強度とから前記観測点の吸収係数を取得することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の試料観察方法。前記第1光強度に含まれる、前記観測点での単一散乱光による直接成分(A)、前記観測点以外での単一散乱光による大域成分(B)、及び前記試料内での多重散乱光による大域成分(C)と、前記第2光強度に含まれる、大域成分(B)及び大域成分(C)と、を利用し、前記第1光強度から直接成分(A)と大域成分(B)及び大域成分(C)とを分離する演算を行う演算器と、を備える試料観察装置。前記第1光強度及び前記第2光強度を取得させ、前記演算器に前記演算をさせる制御器をさらに備えることを特徴とする請求項7に記載の試料観察装置。前記光センサと前記照明の焦点を維持したまま前記試料を任意に移動させる、もしくは前記フォトマスクを任意に移動させる駆動機構であることを特徴とする請求項7又は8に記載の試料観察装置。前記比率を維持したまま前記明部と前記暗部を任意に移動させる光源制御部であることを特徴とする請求項7又は8に記載の試料観察装置。[請求項11]前記演算器は、前記第1光強度から前記第2光強度を減算して直接成分(A)を計算し、前記観測点の画像を取得する演算を行うことを特徴とする請求項7から10のいずれかに記載の試料観察装置。[請求項12]前記演算器は、前記第1光強度から前記第2光強度を減算して直接成分(A)を計算し、該直接成分(A)と前記照明の波長毎の光強度とから前記観測点の吸収係数を取得する演算を行うことを特徴とする請求項7から10のいずれかに記載の試料観察方法。センサ、及び前記フォーカス機構を備える顕微鏡。